экрана 5, дозатора 6 с фоторезистором, системы 7 подачи давления, клапана 8 подачи фоторезиста.
Окисленные кремниевые пластины 9 с низкой заранее определенной дефектностью окисла закрепляются на столике 3 центрифуги 2. Опускается и закрывается колпак камеры 1.
Последовательность операций и параметры режимов следующие:
1)с помощью клапана 8 фоторезист марки ФП-383 или ФП-РН7 выдается из дозатора 6 на пластину в количестве 0,2-0,3 мл;
2)включается центрифуга 2 на 30 сек. Скорость центрифугирования 1500 об/мин;
3)одновременно с включением центрифуги в камере 1 создается давление газа порядка 5-6 ати;
4)после остановки центрифуги пластина выдерживается под указанным давлением до термообработки. Время хранения от О до 10 мин;
5)термообработка фотослоя проводится под давлением газа от 0,5 ати до давления, не превышающего значения, при котором происходит изменение свойств подложки, в камере при температуре 110°С в течение 5 мин;
6)после отключения элемента 4 пластина охлаждается включением центрифуги в течение 1 мин ( об/мин). После этого давление в камере снижается и пластина извлекается.
Цель последующей обработки сформированной пленки фоторезиста - исследование дефектности слоя окисла, создаваемой дефектами фоторезиста. Оценка проводилась с использованием метода электрографии. Установленная при этом дефектность для предлагаемого способа 0,005-0,01 проколов/мм.
Панесение слоя фоторезиста на подложку под избыточным давлением в пределах от 0,3 ати до давления, вызывающего изменение физических свойств подложки, снижает также дефектность при использовании методов
окунания, пульверизации и полива.
Формула изобретения
Способ формирования слоя фоторезиста, включающий нанесение слоя фоторезиста на подложку в условиях избыточного давления, отличающийся тем, что, с целью снижения дефектности слоя фоторезиста, нанесение его осуществляют при давлении на подложку в пределах от 0,3 ати до давления, не превытающего значения, при котором происходит изменение физических свойств подложки.
Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1. Авторское свидетельство СССР №303993, кл. G ОЗС 1/74, 10.11.69.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА НА ПЛАСТИНЫ | 1993 |
|
RU2093921C1 |
СПОСОБ ТЕРМООБРАБОТКИ СЛОЯ ФОТОРЕЗИСТА, НАНЕСЕННОГО НА ПОДЛОЖКУ | 1991 |
|
SU1829679A1 |
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОКРЫТИЯ ИЗ ФОТОРЕЗИСТА И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 1999 |
|
RU2158987C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ БИС С ДВУХУРОВНЕВОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИЕЙ | 1991 |
|
RU2022407C1 |
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ ЦЕНТРИФУГИРОВАНИЕМ | 1994 |
|
RU2094903C1 |
Устройство для фильтрации фоторезиста | 1990 |
|
SU1782631A1 |
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ФОТОРЕЗИСТНОЙ МАСКИ ПОЗИТИВНОГО ТИПА (ВАРИАНТЫ) | 2014 |
|
RU2552461C1 |
Способ изготовления фотошаблонов | 1980 |
|
SU868891A1 |
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ПЛЕНОЧНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ НА ОСНОВЕ ПЛАТИНЫ | 1996 |
|
RU2110112C1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПРЕЦИЗИОННЫХ ОПТИЧЕСКИХ ШКАЛ ОБРАТНОЙ ФОТОЛИТОГРАФИЕЙ | 2008 |
|
RU2370799C1 |
Авторы
Даты
1977-08-30—Публикация
1975-05-19—Подача