Способ получения негативного изображения Советский патент 1979 года по МПК G03F7/10 H05K3/06 

Изобретение относится к области полиграфии и может быть использовано при изготовлении для многокрасочных работ штриховых, тоновых клише и гибких комбинированных печатных форм, а также в радиотехнической промышленности приизготовлении печатных плат. Известен способ получения негативного изображения, заключающийся в том, что на пластину наносят слой светочувствительного материала - фоторезиста на основе хинондиазида, селективно экспрнируют через фотошаблон, обрабатывают в среде органического растворителя до набухания, сушат, полностью засвечивают слой фоторезиста с последующим проявлением рельефного изображения. Данный способ формирует высококачественное негативное, рельефное изображение в слое позитивного фоторезиста и объединяет тем самым положительные воз можности позитивного фоторезиста и нега тивного процесса. Недостатком известного способа является трудоемкость, необходимость в специальном оборудовании, а также - в использовании токсичных и дорогостоящих органических растворителей. Цель изобретения - упрощение и удешевление технологического процесса. Поставленная цель достигается тем, что в способе получения негативного изображения, включающем в себя нанесение на пластину слоя светочувствительного материала на основе хинондиазида, его селективное экспонирование, физикохимическую обработку, полное засвечивание, проявление, физико-химическую обработку слоя светочувствительного материала на основе хинондиазида проводят в растворе тринатрийфосфата до образования на экспонированных участках инденкарбоновой кислоты, причем физико-химическую обработку проводят в течение 0,5-1 М. В результате физико-химической обработки проэкспонированного с точувствительного слоя на основе хинондиазида в проявителе на экспонированных участках слоя прбисходит превращение инденкетен в инденкарбонойую кислоту. При последующем засвечиваний слоя (например, путем выдержки при естественном освещении) инденкарбоновая кис лота димеризуется и переходит в стабиль ное состояние, устойчивое к щелочным проявителям. Участки, не подвергающиеся действию света при селективном экспонировании, при последующем полном засвечивании претерпевают обычные изменения, т.е. образуется инденкетен, который при проя лении образует растворимую соль, вымываемую водой. В результате образуется негативное изображение на позитивном светочувствительном слое. Пример. Используют позитивную эмаль следующего состава: Хинондиазид40 г НоБолачкая смола5О г Лак эпоксидный100 мл Ацетон200 мл Этилцеллозольв650 мл Диэтилформамид150 мл Метилвиолет ,4 г Цинковые пластины, политые эмалью, подвергают экспонированию, проявляют в 10%-ном растворе NaHзP04(гpинaтpий фос фата) в течение 40 с. Затем пластины выдерживают в светлом Шомещейии 1 ч, а после засветки проявляют в проявителе следующего состава: Тринатрййфосфат 10% р-р - 3 л Едкий натр10% р-р - 300 мл Глицерин300 мл Время проявления - 40с. Затем копии промывают в холодной воде и высущцвают. Положительный эффект от использования данного способа заключается в упро щении процесса, так как отпадает необходимость в сушке при повыщенной температуре, а следовательно, в дополнительном сложном и дорогостоящем оёорудовании и вентиляции для сущки и набухания. Отпадает необходимость в применении дорогостоящих и токсичных органических растворителей, что улучшает условия труда и способствует охране внещней среды. Отпадает необходимость в многократной экспозиции, поскольку по предлагаемому способу вместо вторичной многократной экспозиции производится общее засвечивание всей пластины в помещении с обычным освещением, что сокращает время использования экспонирующего оборудования и позволяет совмещать операции. Способ позволяет использовать позитивный светочувствительный слой для получения как позитивного, так и негативного изображения и улучшает качество получаемых клише. Формула изобретения 1.Способ получения негативного изображения, включающий нанесение на пластину слоя светочувствительного материала на основе хинондиазида, его селективное экспонирование, физико-химическую обработку, полное засвечивание, проявление, отличающийся тем, что, с целью упрощения и удешевления технологического процесса, физико-химическую обработку слоя светочувствительного материала на основе хинондиазида проводят в растворе тринатрийфосфата до образования на экспонированных участ ках инденкарбоновой кислоты. 2.Способ по п. 1, о т л и ч а ю щ и и с я тем, что физико-химическую обработку проводят в течение 0,5-1 м.