Травильный раствор Советский патент 1981 года по МПК C03C15/00 

1

Изобретение относится к технике травления и может быть использовано при вытравливании рисунка на свинцово-силикатных металлостеклянных плеках методом фотолитографии.

. Известен раствор 1 для травления моноокиси кремния, включающий, вес. %: . о 48%-ная фтористоводородная кисло2-22та , Фтористый ам6-36моний

30%-ная перекись

21-22 водорода 12-108 Вода

Указанный раствор не применяют при вытравливании рисунка на свинцово-силикатных металлостеклянных

пленках.

Наиболее близким к предлагаемому по назначению и составу является трвитель t2l для растворения в процессе фотолитографии свиицово-боррсиликатного стекла, содержащий, рб.%: Плавиковая кислота 2 t 0,5 Азотная кислота . 5 ± 0,5 Уксусная кислота 100 t 20 Деионизированная

500 50 вода

При использовании этого состава для вытравливания рисунка на свинцово-силикатных пленках вре.мя травления составляет 4-6 мин, пленка стравливатся неравномерно, вытравленный рисунок имеет неровный край и местами протравы по фоторезистору. Через , 2-3 мин после начала травления происходит отслаивание фоторезиста по

краям рисунка. Подтрав под фоторезист достигает значительных величин, искажаются форма и размеры величин, искажаются форма и размеры вытравленных фигур. Причина отслаивания фоторезиста заключается в том, что, кроме травления по фронтальной поверхности пленки, происходит боковой подтрав под фоторезист, который увеличивается с временем воздействия

травления.

. Цель изобретения - сокращение времени растворения незащищенных фоторезистором участков свинцово-силикатных металлостеклянных пленок.

Поставленная цель достигается тем, что в травильный раствор, включающий плавиковую, азотную и уксусную кислоты, дополнительно вводят перекись водорода при следующем соотноше-

НИИ компонентов, об.%:

Плавиковая кислота 28-34 Азотная кислота 25-35 Уксхрная кислота 25-35 Перекись водорода 8-15 Травитель составляют простым смешиванием концентрированных кислот. Перекись водорода добавляют непосредственно перед использованием.

Примеры предлагаемого состава и его свойства приведены в таблице.

Время травления в растворах предлагаемого состава в 10 раз меньше.

чем в известных травителях, благодаря этому исключено отслаивание фоторезиста. Кроме того, в растворах почти не образуется шлама, величина подтрава составляет 5-8 мкм, а неровность края не превышает 4 мкм.

Все это обеспечивает возможность визуального контроля процесса и изготовления методом фотолитографии, например, резистивных элементов с точностью, достаточной для применения в микроэлектронике.

в20

За время травления не разрушается

Формула изобретения

Травильный раствор, преимущественно для свинцово-силикатных металлостеклянных пленок, включающий плавиковую, азотную и уксусную кислоты, о т л и ч а ю щ и и с я тем, что, с целью сокращения времени растворения пленок, он дополнительно содержит перекись водорода при следуквдем соотношении компонентов, об.%:

22 23 Незначительное

Плавиковая кислота28-34

Азотная кислота.25-35

Уксусная кислота25-35

Перекись водорода8-15.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

2.Авторское свидетельство СССР № 230996, кл. С 03 С 15/00, 1966.