Установка для электронно-лучЕВОй ОбРАбОТКи Советский патент 1981 года по МПК B23K15/00 

(54) УСТАНОВКА ДЛЯ ЭЛEKTPOHHO-ЛS EBOЙ ОБРАБОТКИ

куумной камерой, выполненной согласно изобретению.

На фиг,1 представлена емкость, образованная пластиной 1, вакуумплотно перекрывающей окно 2 в стенке 3 вакуумной камеры. Уплотнение обеспечивается винтами 4 и уплотнением 5.

Окно 2 снаружи закрыто навинченным экраном б со свинцовой обкладкой 7, защищающей переокал от рентгеновского облучения. Стенки ок на .2л. пластина i и экран б образуют герметичную замкнутую емкость, внутренний объем 8 которой через лабиринтный зазор 9 соединен с атмосферой и обычно находится под атмосферным давлением.

Электронный пучок может подхо-дить к пластине 1 в зоне, ограниченой кругом 10.

На фиг. 2 представлена емкость образованная плоским поддоном 11, вакуумно закрытым крышкой 12 (с помощью уплотнений 13. и винтов 14) Расстояние между внутренней поверхностью крышки 12 и дном 15 поддона может составить, например, 5 мм. Поэтому высота емкости невелика и может составить, например, около 15 мм. Вся емкость может быть размещена внутри вакуумной камеры.

фиг.З приведена схема установки о вакуумной I ;шvlepoй 16, в. которой размещен рабочий стол 17, на котором -может быть установле- : на свариваемая деталь с возможностью двукоординатного перемещения. Установка снабжена электронным излучателем 18, формирующим горизотальный электронный пучок 19.

На прбтивоположной электронному излучателю 18 стенке размещена емкость с плоским поддоном 11 и крышкой 12 (см. фиг.2). В данном случае емкость через шланг или газопровод 20 соединена с газовым баллоном 21. Баллон 2 снабжен клапаном 22, который автоматически срабатывает уже при незначительной разности давлений. Баллон 21 обеспечивает сохранение заданного давления в емкости даже в том случае, если часть газа (воздуха) уходит из емкости в вакуумную камеру через неплотности уплотнений. (Емкость, представленную на фиг.2, можно размещать и на наружной поверхности стенки вакуумной камеры).

Роль емкости состоит в следующе Если, например, ток электронного

пучка включен без свариваемой детали, то пучок может попадать в зону 10 пластины 1 (или крышки 12) проплавляя в ней отверстие.

Через это .отверстие воздух (газ с большой скоростью проходит из объема 8 в объемвакуумной каме,ры, расфокусируя электронный пучок и предотвращая дальнейшее расширение проплавленного отверстия, а затем срабатывает обычная (в технологических электронно-лучевых установках) система блокировки, отключающая высокое напряжение источника питания.

При соответствующем выборе материала и толщины пластины 1 обеспечивается то, что проплавляемое в ней отверстие оказывает значительное сопротивление газовому потоку (т.е. оно достаточно узкое или длинное), а обслуживающий персонал в достаточной мере защищен от рентгеновского облучения и от прямого воздействия электронов пучка.

Технико-экономическая эффективность изобретения обу зловлена лучшим использованием внутреннего объма вакуумной камеры и большим удобством при обслуживании оборудовани

Формула изобретения

Установка для электронно-лучево обработки, содержащая вакуумную камеру и электронный, излучатель, размешенный на одной из стенок вакуумной камеры, отличающаяся тем, что, с целью уменьшения габаритов вакуумной камеры и упрощения обслуживания установки, вакуумная камера снабжена герметичной замкнутой емкостью, размещенной на противоположной электронному излучателю стенке и выполненной с возможностью соединения с атмосферой или с газовой средой повышенного давления.

Источники информации, принятые -во внимание при экспертиз

1.Чвертко А,И. и др. Оборудование для электронно-лучевой сварки. Киев, Наукова Думка , с. 10-11

и рис.1.

2.Чвертко А.И. и др. Оборудование для электронно-лучевой сварки.

Киев, Наукова Думка

с. 10-11 и рис. 16.

fj

fO

/J /«

иг-2

/f //

22

Фaг.J