1
Изобретение относится к области технологии электронной техники, в частности к устройствам для изготовления микрорисунков на изделии с помощью электронного пучка.
Известно устройство для изготовления микрорисунков на изделии, содержащее электрО41ную пушку с управляющим электродом, формирующую систему, отклоняющую систему с генератором разверток, стол для размещения обрабатываемого изделия и генератор рисунка .
Данное устройство не обеспечивает необходимого качества изготовления микрорисунков, так как из-за рассеяния электронов в слое электронорезиста и в подложке, происходит нежелательная засветка электронами участков не подлежащих обработке, вследствие чего размер получаемого рисунка не совпадает с программируемлм э соседние элементы рисунка, отстоящие друг от друга на расстоянии 1 мкм и менее, сливаются.(эффект близости %
Наиболее близким к предлагаемому по технической сущности является устройство для изготовления микрорисунков на изделии, содержащее
электронную пушку с управляющим электродом, формирующую систему, отклонякиую систему с генератором разверток, стол для размещения обрабатываемого изделия, генератор рисунка и подключенный к его выходу блок для регулировки параметров электронного пучка, выход котсч ого подключен к формирующей системе.
10 Данное устройство позволяет несколько компенсировать эффект близости только на границах элементов рисунка, включающих ряд полос или спиральных линий, поскольку в нем произво15дится изменение (уменьшение) диаметра электронного пучка при сканировании внвиней границы каждого из элементов рисунка с помощью блока регулировки парг1метров электронного пуч20ка, подключенного к формиру ющей системе, по командам от гейератчра рисунка 2. ;
Однако, в данном устройстве не компенсируется эффект близости
25 на всей площади рисунка, а необходимость усложнения программа обработки и систем юстировки из-за изменения диаметра электронного пучка снижает надежность и производитель30ность систем, вследствие чего устройство также не обеспечицает требуемого качества изготовления микрорисунков. Цель изобретения - повышение качества изготовления микрорисунков. Указанная цель достигается тем, что вустройстве для изготовления микрорисунков на изделии, содержащем электронную пушку с управляющим электродом, формирующую систему, отклоняющую систему с генератором разверток, стол для размещения обрабаты ваемого изделия,, генератор рисунка и подключенный к его выходу блок регулировки параметров электронного пучка, блок регулировки параметров электронного пучка включает пОслёдо вательно соединенные памяти, с мирующий усилитель и интегрирующий блок, выход которого подключен к уп равляющему электроду электронной пуш ки . Такое выполнение устройства поз ляет повысить качество изготовления микрорисунков, поскольку в нем изго товление всех элементов микрорисунка производится электронным пучком, ток которого регулируется с учетом засветки обрабатываемого ра сеянными электронами с соседних элементов рисунка, вследствие чего производится компенсация эффекта близ ти - слияние близлежащих элементов рисунка, и обеспечивается совпадение размера экспонированного рисун ка с программируемым, Кроме Torq, и ключается необходимость усложнения программы обработки и системы юсти ровки, так как изготовление рисунка осуществляется электронным пучком неизменного диаметра, вследствие чего повышается надежность и произв дительность устройства в целом, На чертеже изображено предлагаемое устройство. Устройство содержит размещенные с осно электронную пушку 1 с управляю электродом 2, бланкирующую систему формирующую систему 4, отклоняющую систему 5, подключенную к выходу генератора 6 разверток, вход которого соединен со входом генератора рисунка, один выход которого соединен с бланкирующей системой 3, а др гой - со входом блока 8 регулировки параметров электронного пучка, в полненного в виде последовательно соединенных блока 9 памяти, суммиру щего усилителя 10 и интегрирующего блока 11, выход которого подключен к управляющему электроду 2 электрон ной пушки 1. Обрабатываемое изделие 12 размещают на столе 13. Устройство работает следующим об разом. Электронная гсушка 1 демпфирует электронный пучок, который фокусиру ется формирующей системой 4 в элект онный зонд малого диаметра на поверхности обрабатываемого изделия 12. Сканирование электронным зондом поверхности обрабатываемого изделия 12 осуществляется с помощью отклоняющей системы 5 по сигналам от генератора б разверток. При достижении электронным зондом участка поверхности изделия 12, на который необходимо нанести рисунок, с одного из выходов генератора 7 рисунка на бланкирующую систему 3 поступа ют сигналы в соответствии с программой обработки, и электронный пучок направляется на обрабатываемую точку поверхности изделия 12. Одновременно с выхода генератора 7 рисунка на вход блока 8 регулировки параметров электронного пучка поступают сигналы, соответствующие программе обработки ( дозами- облучения) в п соседних строках при сканировании поверхности изделия (число п определяется минимальным размером элемента - увеличивается с уменьшением размером элемента и емкостью блока 9 памяти). Указанные сигналы запоминаются в блоке 9 памяти и при поступлении сигнала с п строки подаются на вход суммирующего усилителя 10, где они суммируются каждый со своим весовым коэффициентом, зависящим от номера данной строки (чем более удалена строка, на которой ведется обработка, тем меньше величина коэффициента. Коэффициенты определяются рассчетным .путем, исходя из расстояния между центрами строк и зависимости от интенсивности рассеяния электронов в данном материале) . Суммарный сигнал с выхода усилителя 10, учитывающий засветку в обрабатываемой точке поверхности изделия от рассеянных электронов с соседних строк, поступает на вход интегрирунвдего блока 11, который корректирует передний и задний фронты сигнала ( увеличивает длительность переднего и заднего фронтов и учитывает тем самым взаимное влияние рассеяния электронов в пределах строки (в направлении строчной развертки), после чего данный сигнал подается на управляющий электрод 2 электронной ПУЙ1КИ 1 и осуществляется регулировка гока электронного пучка, производящего обработку в данной точке поверхности изделия 12 с учетом засветки данно-Ч точки изделия рассеянными электронами с соседних строк. При переходе к обработке другой точки поверхности изделия 12 указанные операции повторяются. Предлагаемое устройство может быть широко использовано в микроэлектронике для изготовления интегральных схем, в особенности в схемах с элементами топологии субмикронных разме ров, где оно позволяет за счет повышения производительности и качества изготовления микрорисунков повысить выход годных изделий.
Формула изобретения
Устройство для изготовления микрорисунков на изделии, содержащее электронную пушку с управлянхцим элект-iQ родом, формирующую систему, отклонякжцую систему с генератором разверток, стол для размещения обрабатываемого изделия, генератор рисунка и подключенный к его выходу блок регулировки параметров электронного , отличающееся тем, что, с целью повышения качества изготовления микрорисунков, блок регулировки параметров электронного пучка включает последовательно соединенные блок памяти, суммируквдий усилитель и интегрирующий блок, выход которого подключен к управлякаде-му электроду электронной пушки.
Источники информации принятые во внимание при экспертизе
1. Electronic Newe, 1976, Dec. 13, V. 21, 1110, p. 54.
2.Патент Англии № 1483171, кл. Н 1 О, 1977 (прототип).
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Устройство визуализации стыка и шва для электронно-лучевой сварки | 1990 |
|
SU1756070A1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОБРАБОТКИ Л\АТЕРИАЛОВ ЭЛЕКТРОННЫМ ЛУЧОМ | 1971 |
|
SU288955A1 |
Растровый электронный микроскоп | 1977 |
|
SU714544A1 |
ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВАЯ УСТАНОВКА | 2000 |
|
RU2192687C2 |
Способ визуализации стыка и шва при сварке электронным пучком и устройство для его осуществления | 1987 |
|
SU1496960A1 |
Устройство для электронно-лучевой сварки | 1987 |
|
SU1488100A1 |
Многоканальный генератор изображений | 1991 |
|
SU1820398A1 |
Устройство для программного управле-Ния элЕКТРОННОлучЕВОй уСТАНОВКи | 1979 |
|
SU840810A1 |
Фокусирующе-отклоняющая система устройства для электронно-лучевой литографии | 1983 |
|
SU1127023A1 |
Растровое устройство для анализа структуры объекта | 1989 |
|
SU1737558A1 |
Авторы
Даты
1981-07-30—Публикация
1979-10-05—Подача