Способ изготовления фотошаблонов растровых мер Советский патент 1981 года по МПК G01B11/00 

(54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОШАБЛОНОВ РАСТРОВЫХ МЕР

Изобретение относится к измерител ной технике и может быть использован преимущественно в производстве, заня том изготовлением высокоточных растровых мер. Известен способ изготовления фото шаблонов растровых мер, заключающийся в том, что нарезают на делительной машине по металлизированному покрытию матрицу, которую используют з тем в качестве фотошаблона для изго-г товления рабочих растровых мер методом контактной фотопечати ГП. Недостатками этого способа явля,10тся .сравнительно низкая точность из готовления фотошаблонов, обусловленн кинематическими погрешностями делительной машины, а также малый срок службы фотошаблонов, обусловленный хрупкостью растровой дорожки, нарезанной по металлизированному покрытию. Наиболее близким по технической сущности к данному изобретению является способ изготовления фотошаблонов растровых мер, заключающийся в том, что заготовку, фотошаблона и матрицу устанавливают с равномерным зазором друг относительно друга и экспонируют заготовку со стороны матрицы коллимированным пучком светаГ2. Недостатком данного способа является сравнительно низкая точность изготовления фотошаблонов, обусловленная те{, что все погрешности матрицы переносятся на изготавливаемый фотошаблон. Цель изобретения - повышение точности изготовления фотошаблонов растровых мер. Цель достигается тем, что экспонирование заготовки осуществляют участками, а угол падения коллимированного пучка света на i-ый участок матрицы устанавливают равным АЛ arctg (- + tgct), где cL - угол падения пучка на первый участок матрицы;

К-- накопленная погрешность -го

участка матрицы; t - величина зазора.

Сущность способа заключается в следующем.

Всю матрицу разбивают на некоторое количество участков, измеряют среднюю величину накопленной погрешности К на каждом i-ом участке матрицы, считая среднюю накопленную погрешность Ki первого участка равной нулю. Затем устанавливают матрицу и .заготовку с некоторым зазором t друг относительно друга. Экспонирование заг готовки осуществляют коллимиров нным

пучком света со стороны матрицы начиная с первого участка. При этом угол падения пучка света на первый участок матрицы устанавлиют равным di. Затем последовательно экспонируют остальные участки матрицы, устанавливая угол падения ei колимированного пучка света на каяздый f-ый участок матрицы равным величине ...

arctg (- -tgcL). О)

При этом накопленные ошибки 1-го участка фотошаблона меньше накопленных ошибок I-го участка матрицы на величину К (среднюю величину накопленной погрешности 1-го участка матрицы), Когда , т.е. когда экспонирование заготовки на первом участке осуществляется пучком, падающим по нормалям к матрице, выражение для угла падения пучка света на -ь1й участок матрицы упрощается и принимает вид arctg-|i-.

Таким образом, экспонирование заготовки участками с изменением угла падения коляимированного пучка света на 1-ый участок матрицы в соответствии с выраж.ением (1) позволяет повысить точность изготовления фотошаблонов растровых мер.

Формула изобретения

Способ изготовления фотошаблонов растровых мер, заключакяцийся в том, что заготову фотошаблона и матрицу утанавливают с равномерным зазором друг относительно друга и экспонирую заготовку со стороны матрицы коллимированным пучком света, отличающийся тем, что, с целью повьш1ения точности изготовления фотошаблонов, экспонирование заготовки осуществляют участками, а угол падения cL коллимированного пучка света на -ый участок матрицы устанавливают равным

i arctg(- -t-tgd.), гдг угол падения пучка на первый

участок матрицы; К.- накопленная погрешность i-ro

участка матрицы; t - величина зазора.

Источники инфор1 |ации, принятые во внимание при экспертизе

2.Введение в фотолитографию. Под ред. В. П. Лаврищева. М. , 3 keprHH, 1977, с. 184 (прототип).