Шиберное устройство для дозирования сыпучего материала Советский патент 1982 года по МПК B65G65/52 F23K3/00 

(54) ШИБЕРНОЕ УСТРОЙСТВО ДЛЯ ДОЗИРОВАНИЯ СЫНУЧЕГО МАТЕРИАЛА Изобретение относится к устройствам для транспортирования сыпучих материалов и может быть использовано на тепловых электростанциях для подачи твердого топлива. Известно шиберное устройство для дозирования сыпучего материала, содержащее корпус, в котором на осях размещена поворотная заслонка 1. Недостатком данного устройства является низкая эффективность из-за зависания материала. Цель изобретения - повыщение эффективности устройства путем устранения зависания мЭТериала. Поставленная цель достигается тем, что заслонка выполнена в виде короба с перфорированной верхней стенкой, полость которого подсоединена к источнику газа через одну из осей, выполненной полой. Верхняя Стенка короба может быть выполнена в форме полусферы. На фиг. 1 изображен продольный разрез предлагаемого шиберного устройства; на фиг. 2 - разрез А-А на фиг. 1. Шиберное устройство для дозирования сыпучего материала содержит корпус 1, в котором на осях 2 и 3 размещена поворотная заслонка, выполненная в виде короба 4 с перфорированной верхней стенкой 5. Полость 6 короба 4 подсоединена к источнику газа через ось 2, выполненную полой. Верхняя стенка 5 короба 4 выполнена в форме полусферы. Корпус 1 подсоединен к бункеру 7. Шиберное устройство работает следующим образом. Сыпучий материал из бункера 7 поступает в корпус 1, проходит через зазор между корпусом 1 и коробом 4 и ссыпается в технологический аппарат. Дозирование материала происходит путем поворота заслонки короба 4 в осях 2 и 3. Для повышения эффективности через полость оси 2 в полость 6 короба 4 подается газ, который выходит через перфорированную стенку 5 короба 4, псевдоожижает сыпучий материал в верхней части корпуса 1 и бункере 7, предотвращая при этом сводообразование сыпучего .материала и улучшая его текучесть. При подаче горячего газа, кроме того, происходит подсушка материала.

Выполнение верхней стенки 5 в форме полусферы повышает действие газовых струй на сыпучий материал.

Формула изобретения

1. Шиберное устройство для дозирования сыпучего материала, содержащее корпус, в котором на осях размещена поворотная заслонка, отличающееся тем, что, с целью повышения эффективности путем

устранения зависания, материала, заслонка выполнена Б виде короба с перфорированной верхней стенкой, полость которого подсоединена к источнику газа через одну из осей, выполненной полой.

2. Устройство по п. 1, отличающееся тем, что верхняя стенка короба выполнена в форме полусферы.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1. Авторское свидетельство СССР № 53866, кл. В 65 G 65/52, 1937.