(54) КОМПОЗИЦИЯ ПОДСЛОЯ Изобретение относится к разработке адгезионного подслоя двухосноориентированной и термофиксированной попиэтипентерефтапатной основы (ПЭТФ-основы) однослойным подслоем и может быть использовано при производстве кинофотс атериалов со светочувствительной желатиновой эмульсией. Пленки из попиэтилентерефталата вслед ствие их высокой гидрофобноети и кристалличности тру цноскрепляются с желати-, новой светочувствительной фотоэмульсией Известна композиция адгезионного подслоя полиэтилентерефталатной основы кинофотоматериалов, включающая пленкообразующий компонент-сополимер метилметакрилата и малеинового ангидрида (70:30), ацетон и активный раствори-, те ль - хлор- летакреаоп . Недостатком указанной композипви яв ляется то, что она не обеспечивает удовлетворительной адгезии эмульсионного слоя кинофотоматериала к полиэтилентере фталатной подложке, другим недостатком ДЛЯ ПОЛИЭТИЛЕНТЕРЕФТАЛАТНОЙ ОСНОВЫ указанной композиции является то, что сушку указанной композиции, нанесенной на полиэти;юнтерефталатную подложку необходимо проводить при высокой температуре {13ОС) в течение длительного времени( Юмин),что усложняет процесс. Цепь изобретения - покушение адге- зии эмульсионного слоя материала к ос-, нове и упрощение процесса. Поставленная цель достигается тем, что композиция адгезионного подслоя, включающая пленкообразующий компонент, активный растворитель и ацетон, в качестве пленкообразующего компонента содержит сополимер акрннламида, внниппирролидона и этилакрилата общей структурной формулы |.СН2-СН- - -СНг-СН- - -СНгСН- р осмвг, „-Nx. ососл. OOOOjHe ЯгС п - 6U мол.}; m - 20 мол.%; р - 20 моп.%. 393 мол. вес. 200000-250000, в качестве активного растворителя феноп, и дополнительно содержит метиленхлорид при следующем соотношении компонентов, вес.%: Сополимер структурной формулы Г0,3-1,0 Фенол5,0-15,0 Анетон10,0-25,0 МетипенхлоридОстальное Указанный подслой наносят в количестве 10-100 мг/м и сушат при 7080°С в течение 4-5 мин. ПЭТФ-подложка с однослойным подслоем, выполненным из предлагаемой композиции имеет повышенную прочность скрепления с фотоэмуль - сионным слоем в сухом и мокром виде, меньшее время и температуру подслоировайия. Предлагаемая композиция пригодна для подсяоирования ЦЭТФ-рсновы топпциной от 40 до 2ОО мкм при изготовлении рентгеновских фототехнических и технических фотоматериалов; на фотографические характеристики фотоматериалов влияния не оказывает. Композиция подслоя обладает химической и физической стабильностью в диа пазсше температур (-10)-(+120)С. С момента нанесения на ПЭТФ-основу в течение 6 мес. хранения При +25°С не теряет своих свойств к подложке. Методом косого разрыва установлено, что адгезия фотоэмульсии к основе в процессе хранения пленки в течение года не ухудшается как до, так и после химико-фотографической обработки. Поскольку, прочность держания фотоэмульсионного слоя на подложке, обработанной рекомендуемой композицией подслоя, в мокром виде несколько ниже, чем для серийного двухслойного подслоя, реко мендуется вести ручную химико-фотографическую обработку. Пример 1. 0,6 вес.% сопопимера екрйламидв, винилпирролидона и этил акрипата структурной формулы I растворяют в 1О,О вес.% фенола при 8О°С. Затем полученный вязкий раствор при перемешивании растворяют в 74,4 вес.% метяяенхлорида. Для получения дисперсии, при активном перемешивании в систему тонксЛ струей вводят 15,0 вес.% ацетона Подученную дисперсию наносят на ПЭТФ-основу и сушат при 70°С 5 мин. 4 Скрепление обработанной подслоем ПЭТФ-основы с желатиновой фотоэмульсией оценивается общепринятой методикой косого разрыва, сущность которой состоит в том, что высушенная после полива фотоэмульсии ПЭТФ-основа надрезается под углом 45° к параллельным надрезам эмульсионного слоя и разрывается. Величина усов фотоэмупьсионного слоя (в мм) оценивается при этом по пятибалльной системе. Наилучшее скрепление фотоэмульсионного слоя с подложкой характеризует отсутствие усов , которое оценивается 5 баллами. . Скрепление ПЭТФ-основы с фотоэмульсией с помошью подслоя, приведенного в примере 1, равно 3 баллам. Пример 2. О,3 вес.% сополимера акриламида, винилпирролидона и этилакрилата структурной формулы Г растворяют в 5 вес.% фенола в условиях, аналогичных примеру 1. Раствор полимера в феноле растворяют в 84,7% метиленхлорида и при перемешивании вводят 10 вес.% ацетона. Полученную дисперсию наносят на ПЭТФ-основу и сушат 8О°С 4 мин.. Скрепление ПЭТФ-основы, обработанной подслоем, с желатиновой фотоэмульсией равно 3 баллам. Пример 3. 1 вес.% сополимера акриламида, виниппирролидона и этилакрилата структурной формулы Г растворяют в 15 вес.% фенола. Аналогично примерам 1 и 2 вводят метиленхлорид (59 вес.%) и ааетон (25 вес.%). Дисперсию наносят на ПЭТФ-основу и сушат при 8СРС 5 мин. Скрепление ПЭТФ-основы, обработанной подспоем, с желатиновой фотоэмульсией 3. Сравнительные испытания прочности скрепления ПЭТФ-оснокы с фотоэмульсией предлагаемым и известным способами и фотосвойств композиций приведены в табл. 1-3, Из приведенных в табл. 1-3 данных следует, что предлагаемая композиция позволяет увеличить прочность скрепления ПЭТФ-основы с желатиновой фотог эмульсией наряду с улучшением технологических параметров процесса подслоироеания при сохранении фотографических характеристик фотоматериала. Произвоаительность поаслоирования при этом может быть увеличена в 2 раза.
Таблица
Косой разрыв (по пятиСветочувствитеюяосгъ ( 5 О,2О)10О8О 1О595 Светочувствительность 3 0,85) Оптическая япотиость али (DO) О,090,12 О.ОЭ 0,1 Адгезия по косо му рааричу (ве бадпах)3333 Прочность эмзуьсяоняого сяоя ао хямияо-фотографичесчА обработки ллосле, г (мокрое состо- вине)8ОО/500 6ОО/450 700/40055
Светочувствительность ( S О,2О)
Светочувствительность ( S 0,85)
Таблица 2
Таблица 3
105
5ОО
5ОО 50 ЗОО50О ,15 0,850,14 . 333 650/400 55О/ЗОО 55О/ЗОО 150/2Г,(
Оптическая плотность вуали ( Dg)
O,Q9
Адгезия по
косо(в му разрыву баллах)
Прочность эмульсионного слоя в мокром состоянии до химико-фотографической обработки и после, г
Ф
о р м у я а
р ,е 1 е н и я
изо
V- Композио )Л||9Ьяиэтнлен«ерефталатно г основы, кинофотоматериа юв включающая ппенкробразуюший компонент активный растворитель и ацетон, о т пичаюшаяся тем, что, с цепью повышения адгезии эмульсионного слоя материала к основе и упрощения процесса, в качестве пленкообрааунзшего компонента она сооерягат сополимер акриламида, В11ВН|пш1 лидона и этилакрилата обвюй струкоурвой формулы
Н rt
ОСИЯа ЧOdoC S
м
НгС СНг
934441
8 Проаолженне габл. 3
0,15
0,15
0.09
7ОО/4ОО 650/300 55О/ЗОО
где н - 6О мол.%5 m - 2О мол.%; р - 2О мол.%,
мол, вес. 2ООООО-2500ОО, в качестве активного растворителя фенол, и дополнительно содержит метиленхлорид при следующем соотношении компонентов, вес.%: СЪполимер общей формула) t0,3-1,0
Фенол5,О-15,0
Ацетон10,0-25,0
А1етиленхл чэиаОстальное
Источники информации, принятые во внимание при экспертизе
