Вакуумная установка Советский патент 1982 года по МПК F04B37/14 

1

Изобретение относится к вакуумной технике, а именно, к установке для обработки изделий в многокомпонентной газовой среде.

Известна вакуумная установка, содержащая рабочую камеру с да т ком давления, подключенную к вакуумнЬму насосу посредством вакуумпровода, и устройство для подготовки и подачи газовой среды в рабочую камеру, имею-ю щее канал регулирования в виде трубопровода с натекателем fl.

Однако при работе известной вакуумной установки обязательна периодическая разгерметизация рабочей ка- 5 меры и остановка технологического процесса на время подготовки Тазовой среды, что снижает производительность установки.

Кроме того, в ней невозможна авто-20 матизация процесса подготовки газовой среды.

Цель изобретения- повышение производительности установки с одновременной автоматизацией процесса подготовки газовой среды.

Цель достигается тем, что устройство снабжено коллектором, имеющим проводимость, не превышающую проводимость вакуумпровода, и присоединенным к трубопроводу, и по меньшей мере одним соединенным с коллектором дополнителным трубопроводом с натекателем, примем оба натекателя снабжены механизмами управления, а на дополнительном трубопроводе установлены диафрагма с проводимостью, не превышающей 1/10 проводимости коллектора, и расположенный между диафрагмой и натекателем датчик давления, механизм управления натекания, первого трубог1ровода подключен к датчику давления рабочей камеры, а другой механизм - к датчику дополнительного трубопровода .

На чертеже показана схема предлагаемой установки. 3 s Вакуумная установка содержит рабочую камеру 1 с датчиком 2 давления, подключенную к вакуумному насосу 3 посредством вакуумпровода k, и устройство для подготовки и подачи газовой среды в рабочую камеру V, имею 1дее канал регулирования в виде трубопровода 5 с натекателем 6. Устройство снабжено коллектором 7 имеющим проводимость, не превышающую проводимость вакуумпровода 4, и подсоединенным к трубопроводу 5 и по меньшей мере одним соединенным с коллектором 7 дополнительным трубопроводом 8 с натекателем 9, причем оба натека1;еля 6 и 9 снабжены механизмами 10 и 11 управления, а на дополнительном трубопроводе 8 установлены диафрагма 12 с проводимостью, не превышающей 1/10 проводимости коллектора 7 и рас положенный между диафрагмой и натека телем датчик 13 давления, механизм 10 управления натекателя 6 первого трубо провода 5 подключен к датчику 2 давле ния рабочей камеры 1, а другой механизм 11 - к датчику 13 дополнительного трубопровода 8. Установка работает следующим образом . Производится откачка рабочей камеры 1 до заданного давления, затем включается устройство для подготовки и подачи газовой среды в рабочую камеру 1, Для этого подается поток одного из газов смеси через основной трубопровод 5 с натекателем 6, при этом заданное давление в камере поддерживается путем управления натекателем 6 сигналами от датчика 2, установленного 8 камере 1, Дополнительный канал регулирования работает аналогичным образом, но вели чина потока через натекатель 9 устанавливается в зависимости от сигналов датчика 13 установленного на трубопроводе 8. Высокая точность регулирования обеспечивается за счет исключения взаимного влияния каналов регулирования. s Таким образом, такое выполнение вакуумной установки обеспечивает автоматическое поддержание заданной величины давления и заданных расходов каждого из компонентов газовой среды непрерывно без необходимости прерывания технологического процесса на время ее подготовки. Формула изобретения Вакуумная установка для обработки изделий в многокомпонентной газовой среде, содержащая рабочую камеру с датчиком давления, подключенную к вакуумному насосу посредством вакуумпровода, и устройство для подготовки и и подачи газовой среды в рабочую камеру, имеющее канал регулирования в виде трубопровода с натекателем, , ающаяся тем, что, с целью повышения производительности с одновременной автоматизацией процесса подготовки газовой среды, оно снабжено коллектором, имеющим проводимость, не превышающую проводимость вакуумпровода, и подсоединенным к трубопроводу, и по меньшей мере одним соединенным с коллектором дополнительным трубопроводом с натекателем, причем оба натекателя снабжены механизмами упра&дения, а на дополнительном трубопроводе установлены диафрагма с проводимостью, не превышающей 1/10 проводамости коллектора, и расположенный между диафрагмой и натекателем датчик давления, механизм управления натекйтеля первого трубопровода подключен к датчику давления рабочей камеры, а другой механизм - к датчику дополнительного трубопровода. Источники информации, принятые во внимание при экспертизе 1. Розанов Л.Н. Вакуумные машины и установки. Л., Машиностроение, 1975, с. 265.