Изобретение относится к вакуумной технике и предназначено для передачи сложного движения объекту, находящемуся в герметичном вакуумном объеме, в частности для проведения технологических операций по термообработке, нанесению покрытий, перемещению объекта из одного положения в другое.
Целью изобретения является расширение функциональных возможностей за счет обеспечения тепловых воздействий на образец.
На фиг. 1 показан разрез устройства ввода движения; на фиг. 2 - показано устройство ввода движения, в разрезе.
Устройство ввода движения содержит: фланец 1, герметично присоединенный к фланцу 2 камеры; сильфон 3, герметично соединяющий фланец 1 со стаканом 4. Ведущий магнит 5 установлен коаксиально стакану с возможностью вращения и имеет магнитно-силовую связь с магнитопроводом 6. Магнитопровод 6, жестко соединенный с валом 7, установлен в подшипниках 8 стакана 4, к дну которого закреплен нагреватель 9 с нагревательным элементом 10 и вакуумными электровводами 11. Торец вала 7 снабжен элементами крепления 12 объекта 13. Стакан 4 имеет жесткую связь с верхней кареткой 14 столика 15, который обеспечивает качание объекта 13 в двух взаимно-перпендикулярных направлениях по сфере R, центр качания "О" которой находится в центре поверхности подложки. Механизм 16 осуществляет перемещение объекта 13 по двум взаимно-перпендикулярным направлениям. Все движения кареток столиков 15, 16 и 17 осуществляются по направляющим на шариках винтовыми парами. Например, для движения по вертикали: винт - гайка 18 и 19. Нагреватель 9 может быть выполнен в виде стакана (см. фиг. 2), герметично закрепленного к стакану 4, а нагревательный элемент 10 установлен в полости стакана, связанной с атмосферой. Нагрев объекта 13 осуществляется через дно стакана 9.
Устройство работает следующим образом.
Закрепляется образец 13 с помощью средств крепления 12. Винтовыми парами столиков 15, 16, 17 устанавливают образец относительно аналитических приборов. При проведении технологического процесса роста пленок, крутящий момент ведущего магнита 5 от привода передается за счет магнитно-силовой связи на магнитопровод 6, вал 7 и объект 13, обеспечивая вращение объекта 13 относительно нагревателя 9. Нагрев объекта осуществляется излучением через зазор, пределы которого могут изменяться от 0,2 мм до 10 мм, обеспечивая на полупроводниковой пластине выравнивание температурного поля за счет ее вращения. Зазор 0,2 мм позволит обеспечить максимальный тепловой поток на образец при минимальных потерях тепла, но требует высокой точности стыковки держателя образца с нагревателем и учета коэффициентов линейного расширения материалов для устранения возможности заклинивания держателя образцов с нагревателем.
Зазор 10 мм позволяет обеспечить надежность работы, но увеличивает потери тепла в 2-3 раза, а поэтому требует увеличения мощности нагревателя. (56) Приборы для научных исследований, 1984, N 10, с. 199-151.
Авторское свидетельство СССР N 742658, кл. F 16 K 3/00, 1984.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
УСТРОЙСТВО ДЛЯ МОЛЕКУЛЯРНО-ЛУЧЕВОЙ ЭПИТАКСИИ | 1995 |
|
RU2111291C1 |
ВЫСОКОВАКУУМНЫЙ КЛАПАН | 1990 |
|
RU2014535C1 |
СПОСОБ СБОРА РТУТИ В ТЕХНОЛОГИЧЕСКОЙ КАМЕРЕ УСТАНОВКИ МОЛЕКУЛЯРНО-ЛУЧЕВОЙ ЭПИТАКСИИ И УСТАНОВКА ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 1993 |
|
RU2071985C1 |
ИСТОЧНИК МОЛЕКУЛЯРНОГО ПОТОКА | 1993 |
|
RU2064980C1 |
КРИОСТАТ | 2000 |
|
RU2198356C2 |
УСТРОЙСТВО РЕГИСТРАЦИИ ТЕПЛОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ | 1999 |
|
RU2148802C1 |
Устройство для изготовления держателя образца для рентгенофлуоресцентного анализа растворов | 1987 |
|
SU1497535A1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ КОНТРОЛЯ СКРЫТОЙ ГРАНИЦЫ РАЗДЕЛА КОНТАКТИРУЮЩИХ ПОВЕРХНОСТЕЙ (ВАРИАНТЫ) | 1999 |
|
RU2187173C2 |
УСТРОЙСТВО РЕГИСТРАЦИИ ТЕПЛОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ | 2002 |
|
RU2231759C1 |
ИСПАРИТЕЛЬНЫЙ ТИГЕЛЬ | 1998 |
|
RU2133308C1 |
Сущность изобретения: магнитопровод ввода жестко соединен с валом, установленным в подшипниках стакана, к дну которого прикреплен нагреватель с нагревательным элементом и вакуумными электровводами. Торец вала снабжен элементами крепления объекта. Стакан имеет жесткую связь с верхней кареткой столика, который обеспечивает качание объекта в двух взаимно-перпендикулярных направлениях по сфере, центр качания которой находится в центре поверхности подложки. 1 з. п. ф-лы, 2 ил.
Авторы
Даты
1994-01-15—Публикация
1990-02-01—Подача