ТОНКОПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИЙ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЬ И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ Российский патент 1994 года по МПК H01L31/75 H01L31/18 

Описание патента на изобретение RU2024112C1

Изобретение относится к оптоэлектронике и позволяет осуществить фотоэлектрическое преобразование в солнечных элементах, фотоэлектрических детекторах, фотоэлектрических приемниках для электрофотографии, в лазерах, электролюминесцентных устройствах и т.п.

Известно техническое решение [1], в котором описаны термостойкий тонкопленочный фотоэлектрический преобразователь и способ его изготовления, содержащий полупроводниковый слой, передний прозрачный электрод и задний металлический электрод.

К недостаткам этого технического решения отнесена низкая эффективность фотоэлектрического преобразования.

Наиболее близкими к заявленному решению являются преобразователь и способ его изготовления, описанные в [2]. Этот тонкопленочный фотоэлектрический преобразователь содержит р - i - n-структуру из кремния с двумя электродами, один из которых выполнен из оксида металла и расположен на прозрачной подложке, а между другим электродом и n-слоем полупроводника расположен слой, блокирующий диффузию. Способ изготовления тонкопленочных фотоэлектрических преобразователей включает формирование на прозрачной подложке р - i - n-структуры из кремния с электродами, один из которых выполнен из окисла металла, а между другим электродом и n-слоем полупроводника сформирован блокирующий диффузию слой.

К недостаткам данного технического решения относится низкое качество, обусловленное омическими потерями в электроде или потерями при отражении света на электроде. Кроме того, к недостаткам прототипа можно отнести низкие эффективность фотоэлектрического преобразования и термостойкость, связанную с диффузией металла электрода в полупроводник при высоких температурах эксплуатации преобразователей.

Целью изобретения является повышение эффективности фотоэлектрического преобразования и термостойкости.

Цель достигается тем, что в качестве слоя, блокирующего диффузию, использован слой силицида металла VIB группы периодической таблицы элементов или слой силицида сплава металлов, содержащий более 50 ат.% металла VIB группы, а также тем, что блокирующий слой формируют толщиной 5-100 путем нанесения на n-слой кремния слоя металла VIB группы пли сплава металлов, содержащего более 50 ат.% металла VIB группы, и отжига структуры в течение 1,5-2 ч при 150-200оС.

На чертеже изображен фотоэлектрический преобразователь - конструкция солнечной ячейки.

На прозрачной подложке 1 расположен прозрачный электрод 2, на нем слой 3 полупроводника р-проводимости, слой 4 полупроводника i-проводимости и слой 5 полупроводника n-проводимости. На слое 5 в качестве электрода расположен металлический слой 6.

Свет поступает в слой полупроводника через прозрачный электрод и поглощается в полупроводнике, генерируя электроэнергию. Часть света, которая не поглощается в полупроводнике, достигает электрода и отражается, после чего снова поглощается в слое полупроводника.

П р и м е р. На стеклянной подложке толщиной 1 мм был получен прозрачный электрод ITO/SnO2 толщиной 1000 . Методом разложения тлеющим разрядом были последовательно осаждены аморфный р-слой толщиной 120 , i-слой толщиной 5000 и n-слой толщиной 500 . В процессе осаждения полупроводника р-типа использовалась газовая смесь, состоящая из SiH4 и В2Н6 при температуре подложки 200оС и при давлении около 1 мм рт.ст. Газовая смесь из SiH4 и Н2 и газовая смесь из SiH4 и РН3использовалась соответственно для осаждения полупроводников i-типа и n-типа. Условия осаждения были теми же, что и при осаждении полупроводников р-типа. Затем методом испарения электронным лучом был осажден хром при давлении 10-6 мм рт.ст. на n-слое полупроводника. Толщина слоя хрома составляла 100 . На него был осажден алюминий толщиной 1000 , а после этого солнечный элемент отожгли в течение 1,5 ч при 150оС. Характеристики солнечных элементов приведены в таблице.

Термостойкий тонкопленочный фотоэлектрический преобразователь в соответствии с изобретением может быть в предпочтительном варианте использован как солнечный элемент или как фотодетектор, так как окружающая температура, при которой работают солнечные элементы и фотодетекторы, часто превышает 50оС. Это особенно касается солнечных элементов, окружающая температура которых достигает примерно 80оС на открытом воздухе, что еще более увеличивает значение преимуществ фотоэлектрического преобразователя в соответствии с изобретением.

Похожие патенты RU2024112C1

название год авторы номер документа
ПОЛУПРОВОДНИКОВОЕ УСТРОЙСТВО ТАНДЕМНОГО ТИПА 1985
  • Ес Такада[Jp]
  • Минори Ямагути[Jp]
  • Есихиса Тавада[Jp]
RU2050632C1
ПОДЛОЖКА, СПОСОБ ЕЕ ПОЛУЧЕНИЯ (ВАРИАНТЫ) И МЕТАЛЛИЧЕСКОЕ СОЕДИНЕННОЕ ИЗДЕЛИЕ 1998
  • Цудзимура Есихико
  • Накамура Миюки
  • Фусии Ясухито
RU2196683C2
ПРОИЗВОДНЫЕ АЗОЛА И ПРОМЕЖУТОЧНЫЕ СОЕДИНЕНИЯ ДЛЯ ИХ ПОЛУЧЕНИЯ 1992
  • Сатору Кумазава[Jp]
  • Сусуму Симизу[Jp]
  • Хироюки Енари[Jp]
  • Ацуси Ито[Jp]
  • Сусуму Икеда[Jp]
  • Нобуо Сато[Jp]
  • Тосихиде Сайсодзи[Jp]
RU2047605C1
ТВЕРДОТЕЛЬНОЕ УСТРОЙСТВО ЗАХВАТА ИЗОБРАЖЕНИЯ 2011
  • Симоцуса Минео
RU2521224C1
ВОРСОВЫЙ ТРИКОТАЖНЫЙ МАТЕРИАЛ 1986
  • Соичи Мурата[Jp]
  • Есинори Сибукава[Jp]
  • Мунето Макияма[Jp]
RU2026430C1
АЛЮМИНИЕВО-АЛМАЗНЫЙ КОМПОЗИЦИОННЫЙ МАТЕРИАЛ И СПОСОБ ЕГО ПОЛУЧЕНИЯ 2009
  • Хироцуру Хидеки
  • Цукамото Хидео
RU2505378C2
ПОДЛОЖКА СХЕМЫ (ВАРИАНТЫ) И СПОСОБ ЕЕ ИЗГОТОВЛЕНИЯ 2000
  • Хирасима Ютака
  • Танигути Еситака
  • Хусии Ясухито
  • Тудзимура Есихико
  • Терано Кацунори
  • Готох Такеси
  • Такакура Сиодзи
  • Есино Нобуюки
  • Сугимото Исао
  • Мийаи Акира
RU2204182C2
УСТРОЙСТВО ОБНАРУЖЕНИЯ ИЗЛУЧЕНИЯ, УСТРОЙСТВО ФОРМИРОВАНИЯ ИЗОБРАЖЕНИЯ ИЗЛУЧЕНИЯ И СИСТЕМА ФОРМИРОВАНИЯ ИЗОБРАЖЕНИЯ ИЗЛУЧЕНИЯ 2006
  • Ватанабе Минору
  • Мотизуки Тиори
  • Номура Кейити
  • Исии Такамаса
RU2351038C2
ТЕРМОПЛАСТИЧНЫЙ ПОЛИИМИД И ЕГО ВАРИАНТ, ПОЛИАМИДНАЯ КИСЛОТА И ЕЕ ВАРИАНТ И ТЕРМОПЛАВКАЯ СЛОИСТАЯ ПЛЕНКА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ НА ПРОВОЛОКУ 1993
  • Хироюки Фурутани
  • Казухиса Данно
  • Йосифуми Окамото
  • Дзуния Ида
  • Йосихиде Оонари
  • Хитоси Нодзири
  • Хиросаку Нагано
RU2139892C1
УСТРОЙСТВО ОБНАРУЖЕНИЯ ИЗЛУЧЕНИЯ, УСТРОЙСТВО ФОРМИРОВАНИЯ ИЗОБРАЖЕНИЯ ИЗЛУЧЕНИЯ И СИСТЕМА ФОРМИРОВАНИЯ ИЗОБРАЖЕНИЯ ИЗЛУЧЕНИЯ 2008
  • Ватанабе Минору
  • Мотизуки Тиори
  • Номура Кейити
  • Исии Такамаса
RU2388112C1

Иллюстрации к изобретению RU 2 024 112 C1

Реферат патента 1994 года ТОНКОПЛЕНОЧНЫЙ ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИЙ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЬ И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

Изобретение относится к оптоэлектронике и может быть использовано для преобразования солнечной энергии. Сущность: термостойкий тонкопленочный фотоэлектрический преобразователь содержит p - i - n-структуру, электрод и слой блокирования диффузии, расположенный между полупроводником и по крайней мере одним электродом. Блокирующий слой формируют толщиной путем нанесения на n-слой кремния слоя металла VI B группы периодической таблицы элементов или сплава металлов, содержащего более 50 ат.% металла VI B группы, и отжига в течение 1,5 - 2 при 150 - 200°С. Преобразователь позволяет исключить снижение качества вследствие диффузии металла или металлического соединения из электрода в полупроводник. 2 с.п.ф-лы, 1 табл., 1 ил.

Формула изобретения RU 2 024 112 C1

1. Тонкопленочный фотоэлектрический преобразователь, содержащий p-i-n-структуру из кремния с двумя электродами, один из которых выполнен из оксида металла и расположен на прозрачной подложке, а между вторым электродом и n-слоем полупроводника расположен слой, блокирующий диффузию, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности фотоэлектрического преобразования и термостойкости, в качестве слоя, блокирующего диффузию, использован слой силицида металла VIB группы или слой силицида сплава металлов, содержащий более 50 ат.% металла VIB группы, толщиной 5-100
2. Способ изготовления тонкопленочного фотоэлектрического преобразователя, включающий формирование на прозрачной подложке p-i-n-структуры из кремния с электродами, один из которых выполнен из окисла металла, а между вторым электродом и n-слоем полупроводника сформирован блокирующий диффузию слой, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности фотоэлектрического преобразования и термостойкости, блокирующий слой формируют толщиной 5-100 путем нанесения на n-слой кремния слоя металла VIB группы или сплава металлов, содержащего более 50 ат.% металла VIB группы, и отжига в течение 1,5 - 2,0 ч при 150 - 200oС.

Документы, цитированные в отчете о поиске Патент 1994 года RU2024112C1

Аппарат для очищения воды при помощи химических реактивов 1917
  • Гордон И.Д.
SU2A1
Устройство для охлаждения водою паров жидкостей, кипящих выше воды, в применении к разделению смесей жидкостей при перегонке с дефлегматором 1915
  • Круповес М.О.
SU59A1
Печь для непрерывного получения сернистого натрия 1921
  • Настюков А.М.
  • Настюков К.И.
SU1A1

RU 2 024 112 C1

Авторы

Дзун Такада[Jp]

Минори Ямагути[Jp]

Есихиса Тавада[Jp]

Даты

1994-11-30Публикация

1985-06-14Подача