Изобретение относится к технике получения низкотемпературной плазмы в больших вакуумных объемах и может быть использовано для формирования поверхностных протяженных твердых диффузионных слоев в металлах и сплавах (азотирование, цементация и др.), ионно-плазменного ассистирования при нанесении упрочняющих и защитных покрытий, плазменно-иммерсионной ионной имплантации, а также ионно-плазменного синтеза покрытий из продуктов разложения сложномолекулярных газов.
Известны генераторы на основе высокочастотного разряда [1] и генераторы с использованием тлеющего разряда [2], позволяющие создавать низкотемпературную газовую плазму в больших объемах. Однако такие генераторы имеют низкую энергетическую эффективность вследствие высокого напряжения горения и функционируют при относительно высоких давлениях газа.
Наиболее близким к предлагаемому изобретению аналогом, взятым за прототип, является генератор [3] для создания низкотемпературной газоразрядной плазмы, в котором в качестве полого анода большого размера используется технологическая вакуумная камера, а в качестве катода - комбинированный катод, состоящий из термокатода (вольфрамовая спираль) и окружающего его полого цилиндрического катода, электрически соединенного с одним из выводов термокатода, помещенных в аксиальное магнитное поле. Катодный узел располагается на одной из стенок вакуумной камеры, а напуск рабочего газа производится через катодную полость.
В таком генераторе при подаче питания к накаленному катоду, постоянного напряжения к разрядному промежутку и установлении необходимого расхода рабочего газа между катодным узлом и анодом зажигается и горит несамостоятельный дуговой разряд низкого давления. Данный тип разряда инициируется электронами, испускаемыми накаленным катодом и ускоренными в катодном падении потенциала. Основным недостатком такого генератора является ограниченный срок службы накаленного катода при больших токах разряда, не превышающий нескольких десятков часов в атмосфере реактивных газов (N2) и нескольких десятков минут в атмосфере активных газов (О2, СН4) вследствие окисления вольфрама и бомбардировки катода ионами.
Техническим результатом предлагаемого изобретения является увеличение времени непрерывной работы дугового генератора газоразрядной плазмы, в том числе при работе с химически активными газами.
Указанный технический результат при осуществлении изобретения достигается тем, что в известном устройстве, состоящем из вакуумной камеры-анода и полого цилиндрического холодного катода, помещенного в аксиальное магнитное поле, согласно изобретению внутри полого катода размещено инициирующее дугу поджигающее устройство, а на торце катода, обращенного к аноду, расположен дугогаситель.
Кроме того, особенность заявленного генератора плазмы заключается в том, что дугогаситель выполнен в виде стакана с центральным отверстием в своем основании, при этом диаметр центрального отверстия относится к диаметру полого катода как 1:3.
В генераторе плазмы для инициирования и поддержания газового дугового разряда на внутренней поверхности водоохлаждаемого полого катода принудительно формируется катодное пятно, локализованное в максимуме тангенциальной составляющей магнитного поля.
На чертеже схематично представлен пример конструкции предлагаемого генератора плазмы. Генератор состоит из водоохлаждаемого полого катода 1 (диаметром 100 мм и длиной 200 мм), помещенного в продольное магнитное поле короткой магнитной катушки 2. Величина магнитного поля варьируется в пределах 0-2,5×10-2 Тл. Рабочий газ с расходом 30-100 мПа×м3с-1 напускается в катодную полость через отверстие 3. Для инициирования катодного пятна используется поджигающее устройство 4 на основе разряда по поверхности диэлектрика. Катодная полость установлена через изолятор 5 на заземленную вакуумную камеру размерами 600×600×600 мм, которая является анодом 6. На торцевой стороне полого катода под плавающим потенциалом установлен дугогаситель 7, выполненный в виде стакана с центральным отверстием в своем основании, при этом диаметр центрального отверстия относится к диаметру полого катода как 1/3. В вакуумной камере на подложкодержателе размещены обрабатываемые детали 8.
Генератор газоразрядной плазмы работает следующим образом. При приложенных напряжениях к поджигающему устройству 4 (Uп) и разрядному промежутку Uр между полым катодом 1 и полым анодом 6 (вакуумная камера) на внутренней поверхности полого катода инициируется катодное пятно и в полом катоде появляется первичная плазма, через которую анодный потенциал проникает в катодную полость, способствуя зажиганию основного дугового разряда между полым катодом и полым анодом. В скрещенных электрическом поле катодного падения потенциала и продольном магнитном поле, создаваемом магнитной катушкой 2, катодное пятно движется по круговой орбите в максимуме магнитного поля по внутренней поверхности полого катода, причем скорость вращения пятна повышается при увеличении магнитного поля. Для того чтобы затруднить выход катодного пятна на торец полого катода и развитие разряда по поверхности изолятора 5, на торце полого катода установлен находящийся под плавающим потенциалом дугогаситель 7. Электроны, испускаемые катодным пятном и ускоренные в катодном падении потенциала, ионизируют рабочий газ, а продукты эрозии катода (микрокапли, атомы и незамагниченные ионы материала катода) оседают на противоположной от катодного пятна стороне полого катода. Это приводит к уменьшению эрозии катода и увеличению времени непрерывной работы генератора плазмы. Перемещение магнитной катушки вдоль полого катода позволяет менять место привязки катодного пятна дуги и рационально использовать внутреннюю поверхность полого катода при работе генератора плазмы за счет равномерного износа катода. Вторичные электроны, выбитые ионами, бомбардирующими внутреннюю поверхность катодной полости, усиливают ионизационные процессы в полом катоде и обеспечивают горение разряда при низких напряжениях и давлениях газа. Проникновению нейтральных частиц материала катода в анодную полость препятствует также механический барьер, образованный дугогасителем, диаметр центрального отверстия которого значительно меньше внутреннего диаметра полого катода. Для некоторой части быстрых ионов металла, движущихся в плазме, имеется некоторая вероятность выхода в анодную полость в результате двух процессов - перезарядки и потери импульса. Однако, как показывают расчеты, вероятность их проникновения в анодную полость не превышает вероятности выхода микрокапель вследствие большой длины свободного пробега быстрого иона, сравнимой с размерами полого катода. В результате испытаний за время работы генератора плазмы в течение t=120 мин (материал полого катода - нержавеющая сталь) было установлено, что при давлении рабочего газа аргона Р=3×10-1 Па, токе разряда I=90 А, напряжении горения разряда U=45 В и индукции магнитного поля В=0,01 Тл скорость эрозии катода на порядок меньше скорости эрозии вакуумной дуги согласно литературным данным [4]. Количество микрокапель на поверхности стеклянного образца, помещенного в вакуумную камеру (полый анод), на расстоянии 30 см от полого катода приведено в Таблице. При замене рабочего газа аргона на кислород наблюдается более стабильное горение разряда и меньшая скорость эрозии материала катода вследствие перехода горения дуги в режим с катодными пятнами первого рода. Дуговой генератор газоразрядной плазмы с холодным полым катодом испытывали в течение 70 ч непрерывной работы с использованием различных рабочих газов (Ar, N2, О2, СН4, С2Н2). Существенной эрозии внутренней поверхности катодной полости и заметного изменения параметров разряда не наблюдалось.
Источники информации
1. Setsuhara Y., Shoji Т., Sakawa Y. and Miyake S., Production of Inductively-Coupled Large-Diameter RF Plasmas Using Multiple Low-Inductance Antenna Units, Proc. Of 25-th Int. Conf. on Phenomena in Ionized Gases, 2001, Nagoya, Japan,Vl, p.19 - 20.
2. Лахтин Ю.М., Коган Я.Д., Шпис Г.-И., Бемер 3. Теория и технология азотирования. - М.: Металлургия, 1991, 320 с.
3. RU №2116707, МПК Н 05 Н 1/24,1998, №21.
4. Райзер Ю.П. Физика газового разряда. - М.: Наука, 1987, 592 с.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
ПЛАЗМЕННЫЙ ЭМИТТЕР ЭЛЕКТРОНОВ | 2010 |
|
RU2427940C1 |
ИМПУЛЬСНЫЙ УСКОРИТЕЛЬ ИОНОВ | 1990 |
|
SU1738064A1 |
ВАКУУМНО-ДУГОВОЙ ИСТОЧНИК ПЛАЗМЫ | 2000 |
|
RU2180472C2 |
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ КОМПОЗИЦИОННЫХ ПОКРЫТИЙ | 1998 |
|
RU2146724C1 |
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ КОМПОЗИЦИОННЫХ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ | 2003 |
|
RU2256724C1 |
ВАКУУМНО-ДУГОВОЙ ГЕНЕРАТОР С ЖАЛЮЗИЙНОЙ СИСТЕМОЙ ФИЛЬТРАЦИИ ПЛАЗМЫ ОТ МИКРОЧАСТИЦ | 2012 |
|
RU2516502C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ СОЗДАНИЯ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ПЛАЗМЫ | 1997 |
|
RU2116707C1 |
Газоразрядное распылительное устройство на основе планарного магнетрона с ионным источником | 2020 |
|
RU2752334C1 |
ГАЗОРАЗРЯДНЫЙ ПРИБОР | 2012 |
|
RU2519591C2 |
ВАКУУМНОДУГОВОЙ ИСПАРИТЕЛЬ ДЛЯ ГЕНЕРИРОВАНИЯ КАТОДНОЙ ПЛАЗМЫ | 2012 |
|
RU2536126C2 |
Изобретение относится к технике получения низкотемпературной плазмы в больших вакуумных объемах. Сущность: другой генератор газоразрядной плазмы состоит из вакууумной камеры-анода и полного цилиндрического холодного катода, помещенного в аксиальное магнитное поле. Внутри полого катода размещено инициирующее дугу поджигающее устройство, а на торце катода, обращенного к аноду, расположен дугогаситель. Технический результат: увеличение времени непрерывной работы дугового генератора газоразрядной плазмы, в том числе при работе с химически активными газами. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.
УСТРОЙСТВО ДЛЯ СОЗДАНИЯ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ПЛАЗМЫ | 1997 |
|
RU2116707C1 |
СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ ПЕРЕМЕЩЕНИЕМ ПЯТНА ДУГИ ПО ВНУТРЕННЕЙ ПОВЕРХНОСТИ ЦИЛИНДРИЧЕСКОГО ЭЛЕКТРОДА ЭЛЕКТРОДУГОВОГО ПЛАЗМОТРОНА | 1988 |
|
SU1641179A1 |
МАССА ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ПОРИСТОГО АБРАЗИВНОГО ИНСТРУМЕНТА И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ | 1993 |
|
RU2064856C1 |
Ареометр для жидких сред | 1974 |
|
SU500492A1 |
АН СССР 'iJ>&\L,;Jt;- | 0 |
|
SU339563A1 |
Авторы
Даты
2004-04-27—Публикация
2002-06-17—Подача