СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК НА ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖЕК ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СОЛНЕЧНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ Российский патент 2016 года по МПК H01L31/18 

Описание патента на изобретение RU2586265C2

Изобретение относится к технологии изготовления солнечных элементов, в частности к методам получения тонких пленок на поверхности подложек для формирования активных областей p-n перехода.

Известны методы получения тонких пленок: термическое окисление кремния в парах воды, сухое окисление и т.д. [1].

Тонкие пленки кремния получают различными методами, в том числе химическим осаждением из паровой фазы испарением, ионным распылением, нанесением на керамические подложки, осаждением на многократно используемые подложки с последующим отделением пленок за счет неравномерного теплового расширения, электролитическим и электрогидродинамическим методами.

Недостатками этих методов является неоднородность получения тонких пленок диоксида кремния на поверхности подложек и получения пористого слоя.

Целью изобретения является получение на поверхности подложки однородной и равномерной диэлектрической пленки диоксида кремния при низких температурах.

Поставленная цель достигается использованием газовой фазы, в состав которого входят азот, водород и кислород.

Сущность способа заключается в том, что на поверхности подложки формируют тонкий слой пленки диоксида кремния за счет горения водорода и сухого кислорода в среде азота (N2) при расходе газов: N2=450 л/ч; H2=75 л/ч; O2=750±50 л/ч.

Температура рабочей зоны 900±10°C.

Контроль проводится на установке «MPV-SP». Разброс по толщине пленки диоксида кремния на подложке составило 3,0÷3,5%.

Сущность изобретения подтверждается следующими примерами:

ПРИМЕР 1: Технологический процесс проводят в однозонной диффузионной печи типа СДОМ-1/100 при температуре 1000±10°C и применением кварцевой оснастки. Подложки предварительно нагревают до температуры 850±50°C, при расходе азота N2=500 л/ч. Сухое окисление при расходе азота O2=500 л/ч проводят в течение 10 мин. После чего пускают водород на поджиг, расход водорода H2=85 л/ч и кислорода O2=900±50 л/ч, а затем происходит горение водорода и кислорода в течение 1 минуты, при котором образуется диэлектрическая пленка диоксид германия.

Контроль проводится на установке «MPV-SP». Разброс по толщине диэлектрической пленки диоксида кремния на подложке составил 5,0÷5,5%.

ПРИМЕР 2: Способ осуществляют аналогично примеру 1. Процесс проводят при следующем расходе газов, л/ч: N2=450 л/ч; H2=75 л/ч; O2=800±50 л/ч.

Температура рабочей зоны 950±50°C.

Контроль проводится на установке «MPV-SP». Разброс по толщине полученной пленки диоксида германия на подложке составил 4,0÷4,5%.

ПРИМЕР 3: Способ осуществляют аналогично примеру 1. Процесс проводят при следующем расходе газов, л/ч: N2=450 л/ч; H2=75 л/ч; O2=750±50 л/ч.

Температура рабочей зоны 900±10°C.

Контроль проводится на установке «MPV-SP». Разброс по толщине диэлектрической пленки диоксида кремния на подложке составил 3,0÷3,5%.

Таким образом, предлагаемый метод по сравнению с прототипами позволяет получать на поверхности однородный и ненарушенный тонкий слой пленки диоксида кремния.

Литература

1. Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. / Под редакцией А.И. Курносова, В.В. Юдина. М.: «Высшая школа», 1996, с. 387.

Похожие патенты RU2586265C2

название год авторы номер документа
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНКИ ОКИСЛА КРЕМНИЯ SiO 2005
  • Исмаилов Тагир Абдурашидович
  • Шангереева Бийке Алиевна
  • Шахмаева Айшат Расуловна
RU2372688C2
МЕТОД ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНКИ ДИОКСИДА КРЕМНИЯ 2010
  • Исмаилов Тагир Абдурашидович
  • Гаджиев Хаджимурат Магомедович
  • Гаджиева Солтанат Магомедовна
  • Шангереева Бийке Алиевна
RU2449413C2
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ БОРОСОДЕРЖАЩИХ ПЛЕНОК 2006
  • Исмаилов Тагир Абдурашидович
  • Шахмаева Айшат Расуловна
  • Шангереева Бийке Алиевна
RU2378739C2
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНОК НИТРИДА КРЕМНИЯ (SiN) 2005
  • Исмаилов Тагир Абдурашидович
  • Шангереева Бийке Алиевна
  • Шахмаева Айшат Расуловна
RU2325001C2
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ АКТИВНОЙ N-ОБЛАСТИ СОЛНЕЧНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ 2014
  • Исмаилов Тагир Абдурашидович
  • Шахмаева Айшат Расуловна
  • Шангереева Бийке Алиевна
  • Захарова Патимат Расуловна
  • Муртузалиев Азамат Ибрагимович
RU2586267C2
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ЭМИТТЕРНОЙ ОБЛАСТИ ТРАНЗИСТОРА 2013
  • Исмаилов Тагир Абдурашидович
  • Шахмаева Айшат Расуловна
  • Захарова Патимат Расуловна
RU2542591C1
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ АКТИВНОЙ p- ОБЛАСТИ СОЛНЕЧНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ 2014
  • Исмаилов Тагир Абдурашидович
  • Шахмаева Айшат Расуловна
  • Шангереева Бийке Алиевна
  • Захарова Патимат Расуловна
  • Шангереев Юсуп Пахрудинович
RU2575613C2
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ИСТОКОВОЙ ОБЛАСТИ СИЛОВОГО ТРАНЗИСТОРА 2014
  • Исмаилов Тагир Абдурашидович
  • Шахмаева Айшат Расуловна
  • Захарова Патимат Расуловна
RU2567405C2
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ЗАТВОРНОЙ ОБЛАСТИ СИЛОВОГО ТРАНЗИСТОРА 2014
  • Исмаилов Тагир Абдурашидович
  • Шахмаева Айшат Расуловна
  • Захарова Патимат Расуловна
RU2594652C1
СПОСОБ ДИФФУЗИИ БОРА 2006
  • Исмаилов Тагир Абдурашидович
  • Шангереева Бийке Алиевна
  • Шахмаева Айшат Расуловна
RU2361316C2

Реферат патента 2016 года СПОСОБ ОСАЖДЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК НА ПОВЕРХНОСТИ ПОДЛОЖЕК ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СОЛНЕЧНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ

Изобретение относится к технологии изготовления солнечных элементов. Способ согласно изобретению заключается в том, что на поверхности подложки формируют тонкий слой пленки диоксида кремния за счет горения водорода и сухого кислорода в среде азота при расходе газов: N2=450 л/ч; H2=75 л/ч; O2=750±50 л/ч. Температура рабочей зоны 900±10°C. Разброс по толщине пленки диоксида кремния на подложке составил 3,0÷3,5%. Изобретение обеспечивает получение на поверхности подложки однородной и равномерной диэлектрической пленки диоксида кремния при низких температурах. 3 пр.

Формула изобретения RU 2 586 265 C2

Способ осаждения тонких пленок на поверхности подложек для изготовления солнечных элементов, включающий обработку поверхности подложек, отличающийся тем, что на поверхности подложки формируют тонкий слой пленки диоксида кремния за счет горения водорода и сухого кислорода в среде азота (N2) и расхода газов: N2=450 л/ч; H2=75 л/ч; O2=750±50 л/ч при температуре процесса 900±10°C, где разброс составил 3,0÷3,5%.

Документы, цитированные в отчете о поиске Патент 2016 года RU2586265C2

WO2006097525A2, 21.09.2006
US2009203227A1, 13.08.2009
WO2009157052A1, 30.12.2009
МЕТОД ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНКИ ДИОКСИДА КРЕМНИЯ 2010
  • Исмаилов Тагир Абдурашидович
  • Гаджиев Хаджимурат Магомедович
  • Гаджиева Солтанат Магомедовна
  • Шангереева Бийке Алиевна
RU2449413C2
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНКИ ОКИСЛА КРЕМНИЯ SiO 2005
  • Исмаилов Тагир Абдурашидович
  • Шангереева Бийке Алиевна
  • Шахмаева Айшат Расуловна
RU2372688C2

RU 2 586 265 C2

Авторы

Исмаилов Тагир Абдурашидович

Саркаров Тажидин Экберович

Шангереева Бийке Алиевна

Шахмаева Айшат Расуловна

Захарова Патимат Расуловна

Литовченко Мария Николаевна

Шангереев Юсуп Пахрудинович

Даты

2016-06-10Публикация

2014-07-04Подача