Способ получения тонких пленок Советский патент 1957 года по МПК C23C14/48 

Изобретение относится к области технологии нанесения тонких покрытий.

Существующие способы- получения тонких пленок путем испарения наносимого вещества в вакууме, катодного распыления и осаждения из растворов не позволяют получать пленки равномерной плотности и толщины.

Контроль процесса образования пленки при этих способах затруднен, и поэтому получение серии идентичных пленок практически невозможно. Кроме того, весьма ограничены возможности этих способов для изготовления слоистых пленок.

В описываемом способе указанные недостатки устранены тем, что подлежащее нанесению вещество предварительно подвергают ионизации и в виде ионного луча, управляемого отклоняющей системой направляют па покрываемую поверхность так, что различные участки поверхности последовательно облучаются пучком ионов малых энергий, причем нейтрализовавшиеся ионы остаются на покрываемой поверхности в виде атомов или молекул, образуя тонкую пленку.

Схема получения пленки показана на чертеже.

В ионной пушке / нейтральные молекулы подлежащего нанесению вешества ионизируются одним из обычных способов и формируются в ионный луч. Система 2, аналогичная системе отклонения электронного луча в электронно-лучевой трубке, разворачивает вышедший из пушки ионный луч таким образом, что он последовательно строка за строкой обходит предназначенное для покрытия поле подложки-коллектора 3.

Энергия ионов непосредственно у коллектора не должна превышать несколько десятков электронных вольт во избежание разрушения слоя (точное значение максимально допустимой энергии ионов необходимо определять экспериментально в каждом конкретном случае). Необходимое торможение ионов может, например, создаваться подачей на коллектор соответствующего тормозящего потенциала. Некоторое размытие луча, связанное с торможением, благодаря непрерывному перемещению луча по покрываемой подложке, сказывается только вблизи контура покрываемой поверхности. Нейтрализуясь на коллекторе, ионы создают пленку одинаковой толщины и плотности.