Устройство для нанесения двухсторонних покрытий в вакууме Советский патент 1984 года по МПК C23C15/00 

С 7 5I I Фиг.1 111 Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме и может быть использовано, в частности,для двухсторонней металлизации специальных гибридных интегральных схем, где элементы микросхем формируются на обеих сторонах подложки, причем номиналы этих элементов {резлсторов или конденсаторов) должны быть идентичны. Известно устройство для нанесения покрытий в вакууме на обе стороны подложки, содержащее рабочую камеру, внутри которой размещен источник наносимого материала в виде газоразрядной ячейки, состоящей из двух пар холодных катодов и анодов, причем последние обращены внутрь ячейки, в центре которой установлен неподвижный подцожкодержатель 1 . Недостатками устройства йвляются невысокая воспроизводимость свойств двухсторонних покрытий на подложке из-за нанесения этих покрытий с двух катодов, что всегда дает разброс параметров пленок и сложность конструкции устройства, что обусловлено наличием двух пар анодов и катодов. Наиболее близким техническим решением к предлагаемому, является устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее рабо чую камеру, источник наносимого материала, замкнутый транспортер с подложкодержателями 12. Существенным недостатком известного устройства является то, что покрытия, на обе стороны подложки наносятся с двух мишеней, что практически не позволяет получить покрытия однородного состава, т. е. с одинаковыми характеристиками и свойствами на обеих сторонах подложек. Цель изобретения - улучшение качества по крытий за счет повышения однородности их состава. Поставленная цель достигается тем, что в устрой . стве для нанесения двухстороншх покрытий в ва, кууме, содержащем рабочую камеру, источник наносимого материала, замкнутый транспортер с подложкодержателями, подложкодержатели размещены на транспортере с шагом, не меньшим двойной длины оД1таго подложкодержателя. В результате такого технического решения из источника наносимого материала испаренный или распьшенный материал поступает одновременно на подложки, расположенные непосредсгвенно на ближайшем относительно источника участке транспортера, и через окна между под ложкодержателями - на другую сторону подл ЖСК на обратном участке транспортера. Покрытие наносится из одного и того же истопшка материала, что позволяет получить двухсторонние покрытия с идентичными свойствами и характеристиками, т. е. однородными по составу. На фиг. 1 приведена принципиальная схема устройства; на фиг. 2 - его поперечное сечение. Устройство для нанесения покрытий в ва кууме состоит из вакуумной камеры 1, включающей источник 2 наносимого материала и замкнутый транспортер 3 с подложкодержателями 4., Транспортер 3 выполнен в виде двух замкнутых, расположенных в параллельных плоскостях, цепей 5, между которыми закреп лены на звеньях 6 одного размера плоские подложкодержатели 4. Привод транспортера 3 состоит из ведущего 7 и ведомого 8 узлов, представляющих из себя валы 9 и 10 с насаженныгуш на них с обеих концов звездочками 11. Вал 9 вакуумПлотно через изоляционные фторопластовые втулки установлен в крышке .12 и основании 13 камеры 1, Цапфы вала 10 входят в пластины 14, установленные на крышке 12 и ос-новании -13 с возможностью продольного нерегмещения относительно транспортера 3. Для регулирования расстояния между параллельными ветвями транспортера применены направляющие ролики 15, укрепленные на валах 16. Валы 16 установлены на пластинах 17, прикреш1е1шых к крышке 12 и основанию 13 камеры 1 с возможностью продольного и поперечного перемещения относительно транспортера 3. Вал 9 ведущего узла 7 соединен посредством муфты 18 с электродвигателем 19, обеспечивающим перемещение транспортера 3. . Устройство работает следующим образом. На подложкодержатели 4 транспортера 3 устанавливаются подложки. Включается откачка и по. достижении вакуума в рабочей камере 1 включается электродвигатель 19, приводящий в движение транспортер 3. Одновременно с этим включается источник 2 нанос1{мого мате-; риала. При этом подложкодержатели 4 совершают поступательное движение и на подложки наносится двухстороннее покрытие. По достижении заданной толщины покрытий движение подложкодержателя 4 прекращается и источник 2 наносимого материала выключается. После разгерметизации рабочей камеры 1 готовые подложки вьшимаются из подложкодержателей 4. Предлагаемое устройство для нанесения покрытий в вакууме обеспечивает следующие преимущества. Оно позволяет наносить двухсторонние покрытия на подложку из одного источника наносимого материала, что сзтцественно повышает воспроизводимость свойств двухстороштх покрытий, позволяет наносить двухсторонние покрьггия разной толщины на одной подложке, что расширяет технологические возможности устройства. Кроме того, за счет уменьшения количества источников наносимого материала устройство позволяет устранить лишние источники нагрева подколпачной оснастки и уменьшить объем вакуумной камеры, что снижает уровень фонового газа.

дссорбирующегося со стенок вакуумной камеры и деталей оснастки, чем повышается качество наносимых покрытий. Уменьшается также число блоков питания и упрощается конструкция устройства в целом.

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ДВУХСТОРОННИХ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ, содержащее рабочую камеру, источник наноси мого материала, замкнутый транспортер с подложкодержателями, отличающееся тем, что, с целью шучшепия качества покрытий за счет повышения однородности их состава, подложкодержатели размещены на транс- . портере с шагом, не двойной длины одного подложкодержателя.