Устройство для нанесения слоя фоторезиста Советский патент 1984 года по МПК H01L21/00 

Т,

75

сл

00

А

УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ СЛОЯ ФОТОРЕЗИСТА, содержащее корпус, установленный соосно с ротором центрифуги, расположенный в корпусе резервуар для фоторезиста, в днище которого выполнено отверстие для подачи фоторезиста, элемент дозированной подачи фоторезиста, соединенный с одним концом подвижного щтока, и предметный столик, установленный на роторе центрифуги, отличающееся тем, что, с целью улучшения эксплуатационных возможностей и повыщения равномерности нанесения слоя фоторезиста, элемент дозированной подачи фоторезиста снабжен подпружиненной подвеской с отверстиями и выполнен в виде заслонки с отверстиями, в корпусе выполнен наклонный направляющий паз, а в днище резервуара - дополнительные отверстия, причем заслонка расположена между днищем резервуара и подпружиненной подвеской с возможностью (С перемещения.

Фиг.1

Изобретение относится к радиоэлектронике, а именно к устройствам фотолитографии при изготовлении полупроводниковых приборов.

Известно устройство для нанесения фоторезиста, включающее дозатор, центрифугу, содержащую держатель в виде вакуумного присоса, стол и скафандр 1.

Недостатками устройства являются нанесение фоторезиста в одной точке в центре пластины и образование в результате этого краевого утолщения при центрифугировании.

Наиболее близким к изобретению по технической сущности является устройство для нанесения слоя фоторезиста, содержащее корпус, установленный соосно с ротором центрифуги, расположенный в корпусе резервуар для фоторезиста, в днище которого выполнено отверстие для подачн фоторезиста, элемент дозированной подачи фоторезиста, соединенный с одним концом подвижного щтока, и предметный столик, установленный на роторе центрифуги 2.

Недостатко.м известного устройства является то, что дозировка фоторезиста осуществляется по принципу работы щприца и при этом количество фоторезиста, наносимого на пластину, зависит от квалификации оператора. Нанесение фоторезиста в центре пластины не обеспечивает его равномерное распределение при центрифугировании.

Цель изобретения - улучщение эксплуатационных возможностей и повыщение равномерности нанесения слоя фоторезиста.

Поставленная цель достигается тем, что в устройстве для нанесения слоя фоторезиста, содержащем корпус, установленный соосно с ротором центрифуги, расположенный в корпусе резервуар для фоторезиста, в днище которого выполнено отверстие для подачи фоторезиста, элемент дозированной подачи фоторезиста, соединенный с одним концом подвижного щтока, и предметный столик, установленный на роторе центрифуги элемент дозированной подачи фоторезиста снабжен подпружиненной подвеской с отверстиями и выполнен в виде заслонки с отверстиями, в корпусе выполнен наклонный направляющий паз, а в днище резервуара- дополнительные отверстия, причем заслонка расположена между днищем резервуара и подпружиненной подвеской с возможностью перемещения.

На фиг. 1 изображено устройство в момент выпуска фоторезиста; на фиг 2 -

разрез А-А на фиг. 1; на фиг. 3 - разрез Б-Б на фиг. 1; на фиг. 4 - устройство перед выходом в нерабочее положение (привод центрифуги и вакуумный присос пластины условно не показаны).

Устройство состоит из корпуса 1 с приливом 2, в котором под углом к оси отверстия выполнен направляющий паз 3 резервуара 4 с винтовой крыщкой 5 с ручкой 6.

В днище резервуара ввинчиваются винты 7, свободно проходящие через подвеску 8. Между подвеской и днищем резервуара расположена заслонка 9. Пружины 10 распирают винты и подвеску. Заслонка соединена со щтоком 11, заканчивающимся кулачком 12. Пластина 13 устанавливается на предметный столик 14. В днище резервуара, заслонке и подвеске выполнены отверстия, в совокупности образующие объемный дозатор.

Устройство работает следующим образом.

В начале смены в резервуар 4 заливается фоторезист и резервуар закрывается крыщкой 5, при этом фоторезист затекает в отверстия в днище резервуара.

На предметный столик 14 устанавливается пластина 13, и включается вакуумный присос. С помощью ручки 6.резервуар устанавливается в корпусе 1 так, что кулачок 12 входит в направляющий паз 3 на приливе 2.

При дальнейщем вводе резервуара заслонка 9 с помощью щтока 11 перемещается и ее отверстия совмещаются с отверстиями на подвеске 8. При этом происходит выпуск фоторезиста. В конечном положении концевой включатель 15 срабатывает и осуществляется привод двигателя предметного столика 14.

По истечении установленного времени цикл заверщается. Резервуар снимается, отключается вакуумный присос, пластина с нанесенным слоем фоторезиста снимается. Цикл нанесения слоя фоторезиста повторяется.

Прижим подвески к заслонке и днищу резервуара через пружину 10 на винте 7 обеспечивает равномерный зазор и скользящую посадку заслонки.

Изобретение позволяет рационально использовать фоторезист, обеспечить равномерность его нанесения путем автоматизации дозирования, повысить производительность труда за счет совмещения операции дозировки и нанесения фоторезиста и культуру производства.