. Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме и может быть использовано при конструировании устрой.ств распыления материалов о
Известно устройство для иоиноплазменного нанесения покрытий, содержащее катод-мишень, анод, основную магнитную систему, размещенную с нераспыляемой стороны катода-мишени, дополнительную магнитную систему, охватывающую концентрично катод-мишень о Дополнительная магнитная система выполнена в виде электромагнитной катушки, ияменение тока в которой изменяет топографию магнитного поля арочной конфигурации основной магнитной системы. Использование дополнительной магнитной системы позволяет периодически смещать область максимальной эрозии мишени, что позволяет увеличить коэффициент использования материала мишенио
Недостатком этого устройства является низкое качество пленок из-за бомбардировки подложки высокоэнергетическими электронами, движущимися по силовым линиям магнитного поля в сторону подложки
САд
Из известнь1Х технических решений
со наиболее близким по технической сущности к изобретению является устройство для ионно-плазменного нанесения покрытий, содержардее анод, катод-мишень , магнитную систему с полюсными наконечниками, размещенную с нерабочзй стороны катода-мишени, подложкодержатель и дополнительную магнитную систему с полюсными наконечниками установленную с нерабочей стороны под- ложкодержателя. напротив одноименных полюсных наконечников магнитной системы „
В данном устройстве энергия электронов снижается за счет их тормо- .
| название | год | авторы | номер документа |
|---|---|---|---|
| УСТРОЙСТВО ИОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ (ВАРИАНТЫ) | 2014 |
|
RU2595266C2 |
| УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК В ВАКУУМЕ | 1999 |
|
RU2193074C2 |
| УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ | 1993 |
|
RU2075539C1 |
| УСТРОЙСТВО ДЛЯ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ | 1990 |
|
SU1832760A1 |
| УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ | 1989 |
|
SU1697453A1 |
| УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО ТРАВЛЕНИЯ И НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК | 2013 |
|
RU2540318C2 |
| Устройство для нанесения покрытий в вакууме | 1991 |
|
SU1832134A1 |
| Устройство для обработки изделий в вакууме | 1983 |
|
SU1144417A1 |
| УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ МНОГОКОМПОНЕНТНЫХ ПЛЕНОК В ВАКУУМЕ | 2013 |
|
RU2522506C1 |
| КАТОДНЫЙ УЗЕЛ ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО НАНЕСЕНИЯ | 1991 |
|
RU2023744C1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО-ЕПАЗМЕННОГО НАНЕСЕЬШЯ ПОКРЫТИЙ, содержащее анод, катод-мишень, магнитную систему с полюсными наконечниками, размещенную с нерабочей стороны катодамишени, подложкодержатель и дополнительную магнитную систему с полюсными наконечниками, установленную с нерабочей стороны подложкодержателя напротив одноименных полюсных наконечников магнитной системы, отличающееся тем, что, с целью повышения равномерности распыления мишени, полюсные наконечники магнитной системы расположены на одинаковых расстояниях от соответствукяцих полюсных наконечников дополнительной магнитной системы
| Патент США № 3956093, кло С 23 С 15/00, 1974о Патент США № 4046660, кло С 23 С 15/00, 1976о |
