Способ лужения изделий Советский патент 1986 года по МПК B23K1/08 

1

Изобретение относится к технологии нанесения припоя на обрабатьшае- мую поверхность изделия, преимущественно на выводы электрорадиоэлементов, и может быть использовано при изготовлении изделий в радиотех ни- ческой, электронной и других отраслях промьшшенностио

Целью изобретения является повышение качества лужения.

На чертеже изображено устройство, реализующее предлагаемый способ.

Ванна 1 заполнена расплавленным . припоем 2, поверхность которого покрыта защитным слоем 3 дисперсного с положительной плавучестью материала. Последний должен быть нерастворим в припое 2 или иметь нерастворимое покрытие. При подаче напряжения на катущку 4 магнитное поле создает под защитным слоем 3 второй (обрабатывающий) слой 5, состоящий из ферромагнитного дисперсного материала«Для повышения объемной плотности этого слоя и уменьшения затрат энергии на удержание частиц последние должны иметь положительную плавучесть в при ,пое 2. Дня повьпиения эффективности обработки поверхности изделия 6 частицы этого слоя имеют большую твердость, чем материал обрабатываемой поверхности5 и острые грани. В частности, слой 5 может быть образован частицами колотого феррита или луженного никеля. Пбскольку слои 3 и 5 состоят из частиц, то припой 2 над своим естественным уровнем в ванне поднимается между этими частицами вверх. Это происходит либо благодаря капш-.лярному эффекту, либо вследствие того, что слой 5 магнитным полем катушки 4 погружен в припой 2 и поэтому вытесняет его вверх между частицами дисперсного материала. В первом случае частицы слоя 5 должны смач 1ваться припоем 2, во втором - могут состоять из несмачиваемого припоем 2 материала.

Лужение производят следующим образом.

Обрабатываемую поверхность изделия 6 погружают через защитньй слой Э в находящийся поц ним обрабатьшаю- щий слой 5, которьш удерживают в припое 2 и подвергают вибрации магнитным полем катушки 4,. тем самьпч защищают от загрязнения, разрушают окисную пленку в расштавленномПри

52

пое 2 осициллирующими в вертикальной плоскости шстицами слоя 5, смачивают и покрывают припоем 2 oбpaбa if вae- мую поверхность изделия 6. После необходимой вьщержки изделие 6 извлекают из ванны 1,

Предложенная последовательность операций применима для нанесе п1я припоя также и на печатные платы.

Для реализации предложенного решения используют защитньш слой 3 и обрабатьюающий слой 5, общая толщина которых определяется по формуле

15

с Ьз

+ h,

0

5

0

0

5

0

5

где h(. - общая толщина защитного и обрабатывающего слоев; h,, - толщина защитного слоя 3; h - толщина обрабатывающего слоя 5, величина которого в 1,2- 1,5 раза больше длины обра- батьшаемой поверхности вывода радиоэлемента - изделия 6.

Например, при Р 7 мм, h 2 мм, имеем h|, 10,4-12,5 мм.

Выбор такой толщины обеспечивает обработку слоем 5 на всем протяжении поверхности ийделия 6.

Для удержания в припое 2 частиц слоя 5. и осцилляции их в вертикальной плоскости используется: расположенная на ванне 1 катушка 4, ширина обмотки 0 которой должна быть не менее толщины h обрабатывающего слоя 5, например при Ь„ 10, 5 мм имеем „ 11 мм; периодическое изменение величины магнитного поля, создаваемого обмоткой катушки 4, осуществляемое, например, при подключении обмотки к источнику пульсирующего тока требуемой частоты, снабженного сглаживающим емкостным фильтром. Интенсивность осцилляции частиц слоя 5 (по амплитуде и частоте) определяется степенью сглаживания пульсаций фильтром, изменение номиналов элементов которого в сочетании с регулированием тока позволяет наиболее просто устанавли-, вать необходимый режим обработки по верхности изделия 6 ферромагнитным дисперсным материалом слоя 5 и удержание его в припое 2.

По сравнению с базовым объектом предлагаемое решение имеет ряд отличий, позволяющих достичь положитель- ньй эффект при его использовании.

Обрабатывающий слой очищает от загря нений и разрушает окисную пленку в расплавленном припое на обрабатываемой поверхности изделия, удаляет излишки припоя с обрабатьтаемой поверхности изделия, обеспечивает подъем припоя. Кроме того, защитный слой по сравнению с прототипом препятствует выпету из ванны частиц обрабатываемого слоя, осициллируемых

Редактор А. Гулько

Составитель В. Белинк

:Техред А.Алиев Корректор М. Пежо

1872/14 Тираж 1001Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР

по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. А/5

Филиал ШШ Патент, г. Ужгород, ул. Проектная, 4

в магнитном поле катушки, а магнитное последней обеспечивает вибрацию частиц обрабатывающего слоя удержание частиц обрабатьшающего слоя во взвешенном состоянии под защитным слоем. Все указанные отличия предложенного способа обеспечив ают улучшение качества покрытия благодар одновременной зачистке и смачиванию обрабатываемой поверхности изделия.