Способ изготовления анодов для хромирования глубокопрофилированных матриц Советский патент 1960 года по МПК C25D3/04 C25D17/10 

Для улучшения качества покрытия формируемых изделий применяемые для формования матрицы и Пуансоны подвергают электролитическому хромированию.

Особенность нредлагаемого способа состоит в том, что для хромирования матриц сложной, глубокопрофилированной формы отливают анод такой же сложной формы, чтобы в процессе хромирования все точки катода находились на одинаковом расстоянии от анода.

Для отливки анода применяют свинцовый сплав, содержащий 6- 8% сурьмы. В процессе хромирования при заливке матрицы свинцом (для получения анода) оставляют зазор, равный 2-5 лгм. Для этого перед отливкой анода только внутренние вертикальные поверхности стенки матрицы выкладывают листовым алюминием толщиной, равной величине зазора, а отлитый анод при монтаже с катодом поднимают над днищем на высоту, равную толщине алюминиевого листа (см. чертеж). Для выхода выделяющегося в процессе хромирования газа в аноде предусмотрены отверстия.

Положение анода относительно катода при монтаже матрицы с анодом определяют тремя фиксирующими точками.

Предмет изобретения

Способ изготовления анодов для хромирования глубоконрофилированных матриц литьем, отлн.ча.ю щийс.я тем, что,с целью, получения качественного покрытия матрицы, анод отливают по форме хромируемой поверхности, а необходимый зазор обеспечивается предварительной выкладкой вертикальной поверхности стенки матрицы листовым алюминием толщиной, равной величине зазора, и подъемом анода при монтаже на высоту, равную толщине алюминиевого листа, нричем положение анода относительно катода определяется тремя фиксирующими точками.

Прок/гадка fit