Устройство контроля отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов Советский патент 1987 года по МПК G01B7/02 

1 13

Изобретение относится к контрольно-измерительной технике и может быть использовано для контроля отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов в процессе юс изготовления, что позволяет оценить стабильность технологических процессов.

Цель изобретения - повышение точности контроля отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов пу- тем повышения чувствительности емкостной тестовой структуры к отклонению размеров фотошаблонов.

На фиг,1 показана тестовая структура в виде конденсатора с компланар ными электродами; на фиг.2 - зависимость относительной чувствительности емкостной тестовой структуры от соотношения между шириной зубцов ее гребенчатык электродов и расстоянием между ними.

Устройство для контроля отклонени линейных размеров элементов фотошаблонов содержит емкостную тестовую структуру, вьшолненную в виде конденсатора с компланарными электродами 1 и 2, имеющими форму гребенокj обращенных одна к другой зубцами 3. Расстояние d между зубцами не менее чем в 10 раз превьппает ширину b зуб- цов. Тестовую структуру выполняют на поле фотошаблонов, заготовки которьк имеют одинаковую диэлектрическую проницаемость, лежащую в определенных пределах. Формирование тестовой стру ктуры осуществляют в процессе изготовления фотошаблонов. Электроды 1 и 2 тестовой структуры подключают в процессе измерения к какому-либо измерителю емкости.

Устройство для контроля отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов работает следующим образом

5 0

0 5 0

5

38 . 2

В процессе изготовления фотошаблонов измеряют каким-либо известным методом емкость между электродами 1 и 2 тестовой структуры, формируемой на заготовках одновременно с элементами фотошаблонов.

Сравнивая полученную величину емкости с величиной емкости другой тестовой структуры, принятой за эталон, размеры элементов которой заранее известны благодаря их измерению, например, с помощью фотоэлектрического координатометра,судят об отклонении размеров элементов фотошаблонов от номинальных значений.

Благодаря тому, что относительное изменение емкости, т.е. чувствитель- тестовой структуры к отклонению размеров ее зубцов от их номинальных значений повышается с уменьшением отношения b/d при практически неизменной длине f взаимного перекрытия зубцов 3 электродов 1 и 2 (фиг.2), обеспечивается повышение точности контроля отклонения линейных размеров фотошаблонов в процессе их изготовления.

Формула изобретения

Устройство контроля отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов, содержащее тестовую структуру, выполненную в виде конденсатора с компланарными электродами гребенчатой формы, обращенными один к другому зубцами, и выполненную на поле фотошаблонов, заготовки которых имеют одинаковую диэлектрическую проницаемость, отличающееся тем, что, с целью повышения точности контроля, ширина зубцов электродов тестовой структуры не менее чем в 10 раз меньше расстояния между ними.

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для контроля отклонений линейных размеров элементов фотошаблонов в процессе их изготовления. Целью изобретения является повышение точности контроля отклонений размеров. Устройство для контроля отклонений размеров фотошаблонов содержит емкостную тестовую структуру, вьшол-, ненную в виде конденсатора с компланарными электродами гребенчатой формы, обращенными один к другому свои- ми зубцами. Ширина зубцов электродов не менее чем в 10 раз меньше расстояния между ними. Контроль отклонений линейных размеров фотошаблонов осуществляют в процессе их изготовления по величине емкости тестовой структуры, одновременно формируемой на заготовках с той же диэлектрической проницаемостью, путем сравнения ее с емкостью эталонной тестовой структуры с заданными размерами ее электро- i дов. 2 ил. В (Л

Фие.1

5 г.8

г

г.о t.f

i

0.8 в

о o.t 0,1 «tf o,t 1.9 г /.« %

аг.Г

Составитель С.Скрьшник Редактор С.Патрушева Техред Н.Глущенко Корректор М.Самборская

Заказ 1207/41 Тираж 678Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР

по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб., д. 4/5

Производственно-полиграфическое предприятие, г.Ужгород, ул.Проектная, 4

.« %