Устройство для автоматической реставрации фотошаблонов Советский патент 1988 года по МПК G03B27/06 

Изобретение относится к области приборостроения, а именно к устройствам для автоматической реставрации фотошаблонов в процессе фотолитографии.

Uej.b изобретения - повышение качества реставрации (Ьотошаблонов.

На чертеже приведено устройство для реставрации фотошаблонов.

Устройство для автоматической реставрации фотошаблонов содержит оптический квантовый генератор 1, связанный через оптический фильтр 2, диафрагму 3 и объектив 4 с платформой 5, выполненной с датчиками 6 перемещения и с возможностью перемещения по дв}, координатам и связанной через первьй 7 и второй 8 приводы с формирователем 9 сигналов управления, первьш выход которого подключен к осветителю 10, сопряженному через оптическую систему I1 с платформой 5, а второй выход - к оптическому квантовому генератору 1. Кроме того, устройство содержит расположенные на оси излучения оптического квантового генератора I зеркало 12, выполненное с отверстием в его центре и расположенное пол углом сорок пять г радусов к осям излучения оптического квантового генератора 1 и оптической систе- Ntt.i 1 1 , блок 1 3 оптической фильтрации и передающая телевизионная камера

14,а также последовательно соединенные аналого-цифровой преобразователь

15,блок 16 вычисления координат и блок 17 сравнения, подключенный входами к датчикам 6 перемещения и выходом к первому входу формирователя 9 сигналов управления, второй вход которого соединен с выходом блок-а 16 вычисления координат. При этом передающая телевизионная камера 14 подключена информационным выходом к входу аналого-цифрового преобразователя 15 и синхронизирующим входом к синхронизирующему выходу формирователя 9 сигналов управления.

Устройство работает следующим образом.

Реставрируемый металлизированный фотошаблон 7 с заранее нанесенным слоем фоторезиста устанавливают на платформе 5. По команде оператора с формирователя 9 сигналов управления устройство подготавливается к работе, устанавливая платформу 5 в исходную точку и обнуляя блок 16 вычисле

79763

НИН координат, осветитель 10,

10

20

2

После этого включают свет от которого

через оптическую систему 11, отражаясь от зеркала 12 через отверстие в платформе 5, просвечивает фотошаблон. В результате этого сформирован- ньгй рисунок топологии фотошаблона попадает в блок 13 оптической фильтрации, который формирует дефектное поле (})ртотаблона. Одновременно формирователь 9 сигналов управления включает синхронизацию управлением считывания электронного луча с передающей телевизионной камеры 14.

Аналого-цифровой преобразователь 15 выделяет кадровые, строчные и командные импульсы. Поскольку экран передающей телевизионной камеры 14 не засвечивается после блока 13 оптической фильтрации, а имеются лишь светлые точки или пятна, соответствующие дефектам, аналого-цифровой преобразователь 15 обрабатывает лишь сигналы

25 уровня, соответствующего белому полю. Количество единичных перемещений электронного луча в строке и количество строк определят координаты дефекта, которые в двоичном коде пере30 даются в блок I6 вычисления координат. По окончании вычисления дефектных полей Формирователь 9 сигналов управления отключает осветитель 10 и, получая информацию о местоположе-- НИИ дефекта от блока 16 вычисления координат, при помощи приводов 7 и 8 устанавливает платформу 5.таким образом, чтобы луч квантового генератора 1, проходя через фильтр 2, диафрагму 3,объектив 4 и отверстие в зеркале 12, попал на дефект фотошаблона 7 в соответствии с соответствующими координатами.

Контроль местоположения фотошабло45 на, установленного на платформе 5, осуществляется при помощи датчика 6, информация с которых в виде импульсов поступает в блок 17 сравнения, где происходит сравнение текущих значе5Q НИИ координат с данными из блока 16 вычисления коор/хинат. При совпадении численных значений с блока 17 сравнения в формирователь 9 сигналов управления подается команда, по кото55 рой включается оптический квантовый генератор I, излучающий импульс света, засвечивающий слой фоторезиста на Лотошаблоне в месте дефекта. Таким образом, в результате отработки

35

40

информации о дефектах в кадре и соответственно по всему полю фотошаблона фоторезист будет засвечен в местах дефектов с точностью диаметра светового пятна от луча в соответст- ВИИ с картой дефектности, сформированной блоком 1А оптической фильтрации.

В результате последовательной засветки на фоторезисте формируют картину дефектности фотошаблона. В дальнейшем проводят химическую обработку фоторезиста и напылением металла получают отреставрированный фотошаблон.

В случае наличия дефектов типа не- дотрав и аналогичных им островки максирующего покрытия испаряют оптического квантового Генератора 1, предварительно выведя оптический Ф uтьтp 2. Причем вычисление координат дефектов происходит аналогично, как и для случая дефектов типа прокол.

Использование изобретения позволяет значительно повысить качество реставрации фотошаблонов в процессе фотолитографии.