Устройство для двухсторонней механической очистки кремниевых и других тонких круглых пластин Советский патент 1988 года по МПК H01L21/302 

а

11

а Ф

сл

вая пластина 20 с помощью ролика 9 и пальца попадает в рабочее пространство, ограниченное корпусом I и крышкой 2. При вращении опорного диска 3 внутри неподвижного корпуса I пластины 20 обкатываются по пути, ограниченном пазами колец 6 и 7.Очистка пластин происходит с помощью

поролоновых сегментов 8, Рабочий путь пластин 20 заканчивается при помощи пальца и ролика 9. Рабочий раствор подается в отверстие 19. При отсутствии в рабочем пространстве пластин 20 происходит самоочистка сегментов 8 путем взаимного трения. 2 ил.

Изобретение относится к технологии очистки полупроводниковых пластин, в частности кремниевых подложек, Устройство позволяет производить двухстороннюю очистку пластин и повысить качество обработки. Кремние

1

Изобретеиие относится к технологическому оборудованию для механичес кой очистки полупроводниковых пластин, в частности кремниевых пластин.

Известны устройства для механической обработки полупроводниковых пластин,, в которых кремниевая пластина посредством ва|суума прикреплена тыльной стороной к рабочему поворо-рному столику и обрабатывается с помощью щеток или направленного потока воды с одной стороны. Если необходимо обработать и вторую сторону, то пластину необходимо перевернуть. Качество обработки в значительной степени зависит от манипуляций и чистоты ведения операций (патент ФРГ Я 2849184. ,кл. Н 01 L 21/304, 1980).

Наиболее близким по технической сущности к предлагаемому является устройство для изготовления полупроводниковых подложек (патент США К 4276114, кл. Н 01 L 21/304, 1981), включающее опорный диск с приводом вращения, .средства очистки пластин в виде вращающегося диска. Данное устройство также не позволяет одно- временно вести обработку двух сторон пластины без дополнительных манипуляций и операций.

Предлагаемое устройство для двухсторонней механической очистки кремниевых и других тонких круглых пластин состоит из- неподвижного корпуса, на крыщке которого симметрично расположены моечные сегменты, причем между крышкой и корпусом установлены направляющие, одна из которых вьтол- нена в виде незамкнутого цилиндрического кольца с конусным пазом, на торцах которого установлены пальцы, другая - в виде периферийного ролика с

5

0

конусным пазом, а третья - в виде цилиндрического кольца с конусным пазом, установленного соосно с опорным диском, на котором также установлены моечные сегменты. Привод всего устройства обеспечивается одним двигателем.

Предлагаемое устройство позволяет производить одновременную очистку двух сторон полупроводниковых пластин без дополнительного проведения операции по перегрузке пластин, а также улучшить качество очистки преимущественно центральной поверхности пластин при низкой материалоемкости устройства и уменьшении расходов вспомогательных материалах.

На фиг.1 изображен профиль устройства; на фиг. 2 - устройство, плоский разрез.

Устройство содержит корпус 1,крышку 2, опорный диск 3, прижимное кольцо 4, ось 5, центральное кольцо 6 с конусным пазом, незамкнутое цилиндрическое кольцо 7-с конусным пазом, моечные сегменты 8, периферийный ролик 9 с конусным пазом, прижимные диски 10, вал 11, ведущий 12 и ведо- 0 мый 13 шкивы, ременную передачу 14, подшипники 15 и 16, двигатель 17, пальцы 18, отверстие 19, обрабатываемую пластину 20.

Устройство работает следующим образом.

Кремниевая пластина 20, вставленная во входную пдель, подхватывается вращающимся периферийным роликом 9 и пальцем 18 и попадает в конусные пазы колец 6 и 7, при этом моечные сегменты 8 устанавливают кремниевую пластину 20 в определенной плоскости. При вращении опорного диска 3 внутри

5

5

0

неподвижного корпуса 1 пластины 20 обкатываются по пути, ограниченном пазами колец 7 и 6, Очистка пластин происходит с помощью подвижньк и не- подвижных поролоновых моечных сегментов 8; Рабочий путь пластины 20 заканчивается при помощи пальца 18 и ролика 9. Рабочий раствор подается в отверстие 19. В момент отсутствия пластир 20 в рабочем пространстве происходит самоочистка сегментов 8 путем взаимного трения.

Предлагаемое устройство позволяет проводить двухстороннюю очистку круглых пластин и повысить качество обработки.

Формула изобретения

Устройство для двухсторонней механической очистки кремниевых и других тонких круглых пластин, включающее

.N

Редактор Е.Копча Техред Л.Сердюкова

Заказ 1811/55 Тираж 746Подписное

ВНИИПИ Государственного комитета СССР

по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж-35, Раушская наб,, д. 4/5

g

5

0

опорный диск с приводом вращения, средства очистки пластин, моечные сегменты, отличающееся тем, что устройство снабжено полым цилиндрическим корпусом с крьшкой, между которыми установлены направляющие, одна из которых вьшолнена в виде незамкнутого цилиндрического кольца с конусным пазом, на торцах которого установлены пальцы, другая - в виде периферийного ролика с конусным пазом, а третья - в виде центрального кольца с конусным пазом, установленного соосно с опорным диском, при этом средство очистки состоит из сегментных колец, жестко закрепленных на внутренних поверхностях крышки и опорного диска, размещенного внутри корпуса соосно с ним, а периферий - ный ролик соединен ременной передачей с приводом вращения опорного .диска.

18

Корректор М.Пожо