Устройство для очистки веществ поверхностной десублимацией Советский патент 1988 года по МПК B01D7/02 

Изобретение относится к устройствам для поверхностной десублимации и может быть использовано для очистки веществ от летучих компснентов.

Цель изобретения - гювьпиение сте пени очистки десублимата путем обеспечения равномерного поступления пара к поверхности десублимации.

На чертеже изображено предлагаемо устройство.

Устройство содержит камеру 1 десублимации, в которой осуьцествляет- ся процесс поверхностной десублима- и;ии, с теплообменной рубашкой 2, Внутри камеры 1 десублимации разме- п;ена распределительная камера 3 с перфо 1Ированны1чи стенками А, Отверстия 5 равномерной перфорации выполнены с шагом 1,5-25 О диаметра этих отверстий„ Для подачи парогазовой смеси предусмотрен штуцер 6, а для отвода неконденсирую1цихся газов и вывода расплава десублимата соответственно штуцеры 6 и 7, Штуцеры 8 и 9 предназначены соответственно для подачи в рубашку 2 и вывода из нее хл:адагента или теплоносителя. Камера 1 десублимации и распред,елитель 4ая камера 3 могут быть установлены коак (иально.

Устройство работает следуюсдим образом.

Пар очиитаемого вещества подают через штуцер 6 в нижнюю часть уст- ройства, В теплообменную рубашку 2 подают хладагент через штуцер 9, а выводят через штуцер 10. Проходя через отверстия распределительной камеры Зр поток пара направляется на

озспаждаемую поверхность камеры десублимации, на которой происходит рост слоя десублимата. По окончании Щ5оцесса подачу хладагента внутрь рубаа ки 2 прекращают и подают в нее теплоноситель5 с целью оплавления кристаллического слоя. Расплав десублимата отводят через 8„ Несконденсированнью. и летучие компоненты отводят непрерывно в течение всего процесса десублммадии через штуцер 7 о

Образующаяся в процессе твердая фаза содержит преимуш,ественно очищае М-ЫЙ компонент, а удаляемая из уст- ройства часть паровой фазы - щтимес- ный компонент.

Наибольшая степень очистки целевого продукта может обеспечена

,-.

д 0 5 Q

5

G

5

в аппарате, где создан равномерный поток пара в направлении, нормальном к гговерхности десублимации, с переносом несконденсированных и летучих комгюнентов вдоль этой поверхности. Это требование выполня1ется путем равномерной перфорации стенки распределительной камеры. Расход пара, направляемого к поверхности десубли- мацим, убывает в направлении отвода несконденсированных и летучих компонентов тогда как поток нескокденси- ронанных и летучих компонентов изменяется антибатно. Суперпозиция этих потоков приводит к cy Iмapнo fy потоку пара в направлении к поверхности десублимации, который характеризуется одинаковым ргсходом по высоте аппарата.

Анализ температурного поля в устройстве позволяет заключить, что температура хладагентаg а значит и поверхности десублт-шации, по высоте аппарата повьшается, в то время как температура самого потока пара убывает по мере его продвижения вдоль распределительной камеры, что обеспечивает постоянную скорость кристаллизации и, следовательно, равномерный рост кристаллического слоя по высоте аппарата.

Отверстия равномерной перфорации выполнень с шагом 155-2,0 диаметра этих отверстий. Изготовление отверстий с шагом менее 1,5 и более 2,0 диаметров отверстий приводит к неравномерной толщине слоя десублимата, обусловленной увеличением скорости роста кристаллов в зонах суперпозиции потоков через соседние отверстия при малом шаге, либо в зонах, не охваченных этими потоками, при большом шаге. При этом коэффициенты распределения имеют такие значения, которые свидетельствуют о низкой степени очистки десублимата.

Формула изобретения

1 . Устройство для очистки веш.еств поверхностной десублимацией, содержащее камеру десублимации с теплообменной рубашкой, распределительную камеру с перфорированными стенками, штуцер для подачи парогазовой смеси, штуцеры для отвода неконденсирующихся газов и расплава десублимата,

3 lAP.S-iOSA

отличию щёеся тем, что,ны с шагом 1,5-2,0 диаметра этих отс целью повышения степени очисткиверстий.

десублимата путем обеспечения равно-2. Устройство по п. 1, о т л и мерного поступления пара к поверх-г чающееся тем, что камера дености десублимации, отверстия в стен-сублимации и распределительная камеке распределительной камеры выполне-ра установлены коаксиально.

Изобретение относится к устройствам для поверхностной десублима- ции, может быть использовано для очистки веществ от летучих компонен10тон и позволяет повысить степень очистки десублимата. Устройство содержит камеру десублимации 1, в которой осуществляется процесс поверхностной десублимации, с теплообмен- ной рубашкой 2. Внутри камеры 2 десублимации 1 размещена распределительная камера 3 с перфорированными стенками 4. Камера десублимации 1 и распределительная камера 3 могут быть установлены коаксиально. Отверстия равномерной перфорации вы- полнены с шагом 1,5-2,0 диаметра этих отверстий, в результате чего достигается равномерная толщина слоя десублимата. Изготовление отверстий с шагом менее 1,5 и более 2,0 диаметров отверстий приводит к неравномерной толщине слоя десублимата, обусловленной увеличением скорости роста кристаллов в зонах суперпозиции потоков через соседние отверстия при малом шаге, либо в зонах, не охваченных этими потоками, при большом шаге. 1 3. п. ф-лы, 1 ил. с (О (Л 4 to 00 4 О Сл .: :