Травильный раствор Советский патент 1989 года по МПК C03C15/00 

Изобретение относится к технике травления стекла и может быть исполь- зов-ано при вытравливании рисунка на стеклянных подложках методом фотолитографии.

Цель изобретения - повышение качества травления за счет увеличения глубины и снижения неравномерности края рисунка

Пример 1вНа подложках из натрий-кальциевого стекла ионно-плаз- менным методом напыляют пленку тантала толщиной 0,5 мкМо Методом фотолитографии формируют рисунок, через который стекло травят в течение 3 мин в растворе, содержащем, масо%;

(98%-ный

раствор)

NH4F

НКО (65%-ный

раствор)

12,0 23,5

11,0 53,5

Глубина .вытравленной структуры составила 11,4 мкм, т.е скорость

травления равна 3,8 мкм/мин, при этом шероховатость поверхности в углублениях равна 0,15 мкм.

Пример 2s В травильном растворе состава, касв%:

HNO,

12,0 23,5 10,0 54,5

скорость травления стекна составляет 3,5 мкм/мин, шероховатость края не превышает i мкм, иcпoльзye iый в кя.-.- честве маски фоторезист начинает отслаиваться через 140 с, мггкси- мальная глубина вытравленного рисунка без искаженда составляет 8,1 мкм,

И р и м е .р За В травильном растворе, Содержащем в своем составе, масе%:

,0

NH4F24,0

НЫОз11,0

,0

скорость травления, стекла составляет

3151122

4,0 мкм/мин, шероховатость равна 0,15 мкм, неравномерность краев рисунка не превышает 1,3 мкме

Используемый в качестве маски фо- 5 торезист начинает отслаиваться через 90 с, т.е максимальная глубина вытравленного рисунка составляет 6 мкМв

Применение в качестве маски пленок тантала или титана способствует улУч-tO шениго качества формируемого рисунка за счет уменьшения величины подтрава и количества дефектов типа прокол., что обусловлено значительно более высокими адгезией металлических пле- 15 нок к стеклу и устойчивостью этих пленок к используемому травильному раствору.

Введение в состав травнп-ьного раствора азотной кислоты предотвращает об-ЗО разование плохорастворимых сульфатов

в целом, соотношения компонентов подобраны таким образом, что поверхность стекла в.вытравленных углублениях имеет вышеуказанную шерохова- тость.

Формула изобретения

Травильный раствор, включающий HjSO, HNOg j , отличающий c я тем, что, с целью повышения качества травления за счет увеличения глубины и снижения неравномерности края рисунка, он дополнительно содержит при следующем соотношении компонентов, маСв%:

12-13 10-1 1 23, Остальное

Изобретение относится к технике травления стекла и может быть использовано при вытравливании рисунка на стеклянных подложках методом фотолитографии. С целью повышения качества травления за счет увеличения глубины и снижения неравномерности края рисунка травильный раствор включает, мас.%: H₂SO₄ 12-13

HNO₃ 10-11

NH₄F 23,5-24

H₂O остальное. Применение раствора обеспечивает максимальную глубину рисунка без искажений при использовании в качестве маски тантала или титана 8,1 мкм

неравномерность края рисунка 1-1,3 мкм и величину шероховатости 0,15-0,25 мкм.

Редактор Т.Лазоренко

Составитель О,Самохина

Техред М.Дидык

Заказ 5858/26

Тираж

ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при FKPiT СССР 113035, Москва, , Рауйская наб-., д. 4/5

Производственно-издательский комбинат Патент, г.Ужгород, ул. Гагарина,101

Корректор О. Кравцова

Подписное