Способ изготовления никелевого маскирующего покрытия для фотошаблонов Советский патент 1989 года по МПК H05K3/18 

Изобретение относится к технологии изготовления фотошаблонов методом лазерного гравирования и может быть использовано в производстве печатных плат и интегральных схем.

Цель изобретения - упрощение технологии и повышение качества покрытий, получаег4 1х на крупногабаритных (500x600 мм ) полированных стеклянных заготовках,

II р и м е р 1. На стеклянную пластину, очищенную от загрязнений по известной методике, включающей, например, обработку хромпиком, отйывку в ультразвуковой ванне с водно-йелочной эмульсией поверхностно-активных веществ, отмывку в деионизованной воде и финишную очистку в парах изопро- панола, наносили методом полива композицию, содержащую, мас.%: Тетрабуток сититан4,0

Хлорид палладия0,06

10%-ный водный раствор соляной кислоты Третбутанол после чего пластину сушили при , в течение 5 мин. Затем пластину с образовавшейся на ней пленкой ванного хлоридом палладия гидрооксида титана, толшд1на которой составила

0,5 95,44

ел

N3

CHjCOONa

CHjCOOH

HjO

3 H,jO

0,06 мкм, обрабатывали в 1,5 М вод- но-изопропанольном (4:) растворе гипофосфита натрия в течение 1 мин и никелировали прн 65 С в течение 3 мин в растворе, содержащем Н1(СНзСООЬ- 4 HgO 5 г/л NaH POj Z г/л

15 г/л 2,5 г/л До 1 л

После промывки пластины в деио- низованной воде.и сушки теплым воздухом ее прогревали а вакууме (133- 665 Па) с регулируемой скоростью нагрева и охлаждения при 300°С в течение 30 мин. Скорость нагрева и охлаждения не превышала 2 град/мин. Полученное никелевое маскирующее покрытие имело атедуклцие характеристики: оптическая плотность в диапазоне 340-550 нм - не менее 3 ед,, группа прочности по ГОСТу О, количество дефектов - не более 0,1-0,2 см.

П р и м е р 2. На обработанную как в примере 1 стеклянную пластину наносили композицию,содержащую,мае ,% Полибутилтитанат 2 Хлорид палладия0,02

10%-ный раствор соляной кислоты0,5

Изопропанол97,48

и сушили при 120°С в течение 3 мин. Затем пластину с образовавшейся плекой легированного хлоридом палладия гидрооксида титана, толщина которой составила 0,01 мкм, обрабатывали, как в примере 1, в растворе гипофос фита и никелировали при 70°С в течение 5 мин в растворе, содержащем:

Ni(CHjCOO)2- 4 HjO

NaH2P02 2 HjO

CHjCOONa

CHjCOOH

3 г/л 15 г/л 5 г/л 2 МП До 1 л.

Промывку, сушку и термообработку маскирующего покрытия проводили, ка ;в примере 1. Эксплуатационные харак теристики полученного покрытия были не хуже чем-в примере 1.

П р и м е р 3. На обработанную как в примере 1 стеклянную пластину наносили композицию, содержащую, мас.%:

Тетраэтоксититан 6 Хлорид палладия0,1

10%-ный раствор соляной кислоты1

Третбутанол92,9

и сугчили при 50°С в течение 7 мин. Затем апастину с образовавшейся п.пен- кой легированного хлоридом палладия гидрооксида титана, толщина которой составила 0,1 мкм, обрабатывали как в примере 1 в растворе гипoфocфт тa и никелировали при 60°С в течение 3 мин в растворе, содержащем Ni(CH,COO)2- 4 10 г/л NaH., г/л

CHjCOONa-3

HgO

CHjCOOH

0 г/л

3 мл

До 1 л

5

0

5

0

5

0

Промывку, сзтпку и термообработку маскирующего покрытия проводили как в примере 1. Эксплуатационные характеристики полученного покрытия были не хуже чем в примере 1.

П р и м е р 4, На обработанную как в примере 1 стеклянную пластину наносили композицию, содержащую, мас.%

Тетрабутоксититан 3

Хлорид палладия0,05

10%-ный раствор

соляной кислоты0,08

Смесь изопропанола и третбутанола

1:198,67

и сушили при в течение 10 мин. Затем пластину с образовавшейся пленкой легированного хлоридом палладия гидрооксида титана, толщина которой составила 0,05 мкм, обрабатывали как в примере 1 в растворе гипофосфита и никелировали при в течение 2 мин, в растворе, содержащем

NiCCHjCOOz 4 НгО 4 г/л

NaHiPOz- 2 НгО CHjCGONa СНзСООН И 2.0

3

20 г/л 10 г/л 3 мл До I л

Промывку, сушку и термообработку маскирующего покрытия проводили как в примере 1. Эксплуатационные характеристики полученного покрытия 6(pi- ли не хуже чем в примере 1.

Формула изобретения

1. Способ изготовления никелевого маскирующего покрытия для фотошаблонов, включающий подготовку поверхности стекла, нанесение катализатора его сушку, химическое никелирование, проммвку, сушку и термообработку никелевого покрытия,отличаю515

щ и и с я тем, что, с целью упроще- ния технологии и повьш1ення качества покрытий, получаемых на крупногабаритных ( см ) полированных стеклянных заготовках, катализатор на полированное стекло наносят в виде пленки гидрооксида титана толщиной 0,01-0,1 мкм, используя композицию, содержащую, мас.%:

Апкоксид титана 2-6

Хлорид палладия 0,02-0,1

10%-ный водный

раствор соляной

кислоты0,5-1

Органический

растворительОстальное

до 100%

5

76«

которую после нанесения на стекло высушивают при 120-150°С в течение 3-10 мин, а никелирование проводят при 60-75°С в течение 2-5 мин в водном растворе, содержащем

Ni() 3-10 г/л NaHiPOi-2KjO10-50 г/л

5-15 г/л 2-3 МП До 1 л

2 о Способ по п.1, отличающий с я тем, что в качестве органического растворителя используют третбутанол, изопропанол, этанол или их смесь, а в качестве алкокси- да титана-тетрабутокси-, тетраэток- сититан и полибутилтитанат„

CH,COONa 3H20

СН,СООН

Изобретение относится к технологии изготовления фотошаблонов методом лазерного гравирования. Цель изобретения - упрощение технологии и повышение качества покрытий, получаемых на крупногабаритных (50^.60 см²) полированных стеклянных заготовках. Способ включает подготовку поверхности стекла, нанесение катализатора с последующим химическим никелированием. Катализатор наносят в виде пленки гидрооксида титана толщиной 0,01-0,1 мкм, используя композицию, содержащую, мас.%: алкоксид титана 2-6

хлорид палладия 0,02-0,1

10%-ный водный раствор соляной кислоты 0,5-1 и органический растворитель остальное. Указанную пленку высушивают при 120-150°С в течение 3-10 мин, а никелирование проводят в водном растворе ацетатов никеля и натрия, гипофосфита натрия и уксусной кислоты, состав которого приводится в описании. В качестве органического растворителя используют третбутанол, изопропанол, этанол или их смесь, а в качестве алкоксида титана-тетрабутокси-, тетраэтоксититан и полибутилтитанат. 1 з.п. ф-лы.