Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для определения фотоэлектрических параметров примесных некомпенсированных полупроводников.
Цель изобретения одновременное определение средних диффузионных длин фотоиндуцированных электронов и дырок DD1, DD2 и отношения σ1/2электронной и дырочной фотопроводимостей полупроводниковой с биполярной фотопроводимостью.
На фиг. 1 приведена оптическая схема устройства для реализации способа; на фиг. 2 зависимости амплитуды первой гармоники тока Igωчерез образец от пространственной частоты Λ-1.
Устройство для реализации способа содержит источник когерентного излучения (лазер) 1, светоделительную пластинку 2, зеркала 3, элемент 4, осуществляющий фазовую модуляцию сигнального пучка света, фотопроводник 5, нагрузочное сопротивление 6 и селективный усилитель 7.
П р и м е р. Экспериментальная проверка способа выполнена на примере полуизолирующего GaAs-Cr n-типа, имеющего размеры 2х10х1 мм3. Обработка поверхности образца после полировки состоит в травлении его в смеси азотной и соляной кислот, взятых в соотношении 1:1 в течение 3 мин с последующей промывкой в дистиллированной воде. Контакты на боковые грани образца наносят пастой на основе мелкодисперсного серебра. Измерения проводят на длине волны λ излучения и мощности Рогелий-неонового лазера ЛГ-126 ( λ 1,15 мкм, Ро 3 мВт и λ 0,63 мкм, Ро 1 мВт).
Фазовая модуляция осуществляется подачей на мембрану телефонной головки ТЛ-4 с прикрепленным к ней зеркалом синусоидального напряжения с частотой f 1 кГц. Выходной электрический сигнал на частоте f 1 кГц, возникающий за счет нестационарной фотоЭДС, регистрируется стандартным селективным усилителем У2-8. Экспериментальная зависимость Igω от пространственной частоты Λ-1. (см. фиг.2, кривая А) является характерной для полупроводников с биполярной фотопроводимостью, где Λ шаг интерференционных полос на образце. Для уточнения знака носителя используется кристалл Bi12SiO20, для которого при освещении излучением с λ0,63 мкм характерен электронный механизм нестационарной фотоЭДС. В результате установлено, что в полуизолирующем GaAs: Cr при освещении его излучением с длиной волны λ 0,63 мкм (см. фиг.2, кривая Б) в исследуемом диапазоне пространственных частот работает дырочный механизм.
Определяют величину Λo-1 пространственной частоты, при которой Igω 0, по кривой А на фиг.2.
Величина Ко 2 π Λo-1 2 π ˙ 10 мм-1 63 мм-1.
Значения К1 и К2 определяют по формуле 2 π Λ-1 для значений Λ1-1 и Λ2-1 соответствующих максимумам на кривых А и Б. По полученным значениям вычисляют средние диффузионные длины по формулам:
L
L
σ1/2=
Вычисленные значения равны LD1 5 мкм. LD2 15 мкм, σ1/2 4.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ ВЫСОКООМНЫХ ПОЛУПРОВОДНИКОВ | 2008 |
|
RU2383081C1 |
СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ФОТОПРОВОДИМОСТИ ВЫСОКООМНЫХ ПОЛУПРОВОДНИКОВ | 1987 |
|
SU1493022A1 |
СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ВРЕМЕНИ ЖИЗНИ НЕРАВНОВЕСНЫХ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА В ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПЛАСТИНАХ | 1991 |
|
RU2006987C1 |
ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИЙ МЕТОД ДИАГНОСТИКИ ЭЛЕКТРОННЫХ СОСТОЯНИЙ В КРИСТАЛЛАХ СИЛЛЕНИТОВ | 2014 |
|
RU2575134C1 |
Способ определения коэффициента биполярной диффузии неравновесных носителей заряда в полупроводниках | 1981 |
|
SU1028204A1 |
СПОСОБ ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ УВЛЕЧЕНИЯ ЭЛЕКТРОНОВ ФОНОНАМИ | 2006 |
|
RU2349990C2 |
Способ исследования областей конвер-СиРОВАННОгО ТипА пРОВОдиМОСТи B Об'ЕМЕпОлупРОВОдНиКА | 1979 |
|
SU811370A1 |
СПОСОБ БЕСКОНТАКТНОГО ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПРИПОВЕРХНОСТНОГО ИЗГИБА ЭНЕРГЕТИЧЕСКИХ ЗОН ПОЛУПРОВОДНИКА | 2004 |
|
RU2248068C1 |
СПОСОБ КОНТРОЛЯ ДЕФЕКТНОСТИ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ СЛОЕВ КРЕМНИЯ НА ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПОДЛОЖКАХ | 2012 |
|
RU2515415C1 |
Способ определения индукции магнитного поля | 1981 |
|
SU953603A1 |
Изобретение относится к полупроводниковой технике и может быть использовано для определения фотоэлектрических параметров примесных некомпенсированных полупроводников. Целью изобретения является одновременное определение средних диффузионных длин фотоиндуцированных электронов и дырок и отношения электронной и дырочной фотопроводимостей полупроводников с биполярной фотопроводимостью. Образец облучают опорным и сигнальным модулированным по фазе с частотой ω пучком света. При этом на поверхности образца формируется интерференционная картина. Регистрируют индуцированный в образце ток на частоте w в зависимости от пространственной частоты интерференции к. Частоту w выбирают в пределах: 0,1 мин (τ
СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПАРАМЕТРОВ ПРИМЕСНЫХ НЕКОМПЕНСИРОВАННЫХ ПОЛУПРОВОДНИКОВ, заключающийся в освещении образца опорным и сигнальным модулированным по фазе пучками света, формирующими интерференционную картину на образце, регистрации зависимости амплитуды тока I
0,1 мин (τ
искомые средние диффузионные длины определяют из выражений
а отношение электронной и дырочной фотопроводимостей
где K=2πΛ-1
L шаг интерференционной картины;
te, τh средние времена жизни фотогенерированных электронов и дырок;
τdi время диэлектрической релаксации освещенного полупроводника;
К0 значение пространственной частоты, при которой амплитуда тока проходит через "0" и при этом меняет знак;
K1 и K2 значения пространственной частоты, при которых максимальна.
СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ФОТОПРОВОДИМОСТИ ВЫСОКООМНЫХ ПОЛУПРОВОДНИКОВ | 1987 |
|
SU1493022A1 |
Печь для непрерывного получения сернистого натрия | 1921 |
|
SU1A1 |
Авторы
Даты
1995-08-27—Публикация
1988-01-13—Подача