СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛЕВЫХ ТРАНЗИСТОРОВ С ИЗОЛИРОВАННЫМ ЗАТВОРОМ Советский патент 2012 года по МПК H01L29/76 

Похожие патенты SU1586469A1

название год авторы номер документа
БИПОЛЯРНО-ПОЛЕВОЙ ТРАНЗИСТОР С КОМБИНИРОВАННЫМ ЗАТВОРОМ 2002
  • Воробьева Т.А.
  • Гурин Н.Т.
  • Гордеев А.И.
  • Обмайкин Ю.Д.
  • Андреева Е.Е.
RU2230394C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТРАНЗИСТОРНОЙ СВЧ LDMOS СТРУКТУРЫ 2012
  • Бачурин Виктор Васильевич
  • Корнеев Сергей Викторович
  • Крымко Михаил Миронович
RU2515124C1
МОЩНЫЙ СВЧ LDMOS ТРАНЗИСТОР И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ 2011
  • Бачурин Виктор Васильевич
  • Бельков Александр Константинович
  • Бычков Сергей Сергеевич
  • Пекарчук Татьяна Николаевна
  • Романовский Станислав Михайлович
RU2473150C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СВЧ LDMOS ТРАНЗИСТОРОВ 2010
  • Бачурин Виктор Васильевич
  • Бычков Сергей Сергеевич
  • Крымко Михаил Миронович
  • Пекарчук Татьяна Николаевна
  • Сопов Олег Вениаминович
RU2439744C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МОЩНЫХ КРЕМНИЕВЫХ СВЧ LDMOS ТРАНЗИСТОРОВ 2013
  • Бачурин Виктор Васильевич
  • Корнеев Сергей Викторович
  • Крымко Михаил Миронович
  • Романовский Станислав Михайлович
RU2535283C1
Ячейка оперативной памяти 2024
  • Гордеев Александр Иванович
  • Войтович Виктор Евгеньевич
RU2826859C1
СВЧ LDMOS-ТРАНЗИСТОР 2007
  • Бачурин Виктор Васильевич
  • Бельков Александр Константинович
  • Бычков Сергей Сергеевич
  • Пекарчук Татьяна Николаевна
RU2338297C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МОЩНЫХ КРЕМНИЕВЫХ СВЧ LDMOS ТРАНЗИСТОРОВ С МОДЕРНИЗИРОВАННЫМ ЗАТВОРНЫМ УЗЛОМ ЭЛЕМЕНТАРНЫХ ЯЧЕЕК 2016
  • Бачурин Виктор Васильевич
  • Романовский Станислав Михайлович
  • Семешина Ирина Петровна
RU2639579C2
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ СВЧ LDMOS ТРАНЗИСТОРОВ 2012
  • Бачурин Виктор Васильевич
  • Корнеев Сергей Викторович
  • Крымко Михаил Миронович
RU2498448C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МОЩНОГО ДМОП-ТРАНЗИСТОРА 2000
  • Бачурин В.В.
  • Пекарчук Т.Н.
RU2189089C2

Реферат патента 2012 года СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛЕВЫХ ТРАНЗИСТОРОВ С ИЗОЛИРОВАННЫМ ЗАТВОРОМ

Способ изготовления полевых транзисторов с изолированным затвором, включающий формирование на полупроводниковой подложке областей исток - сток, нанесение подзатворного диэлектрика, создание области высокоомного канала в подзатворном диэлектрике, образование затвора, контактов к областям истока - стока, дополнительных контактов к области высокоомного канала, отличающийся тем, что, с целью повышения выхода годных приборов путем улучшения однородности высокоомного канала, после образования дополнительных контактов к области высокоомного канала проводят электротренировку в течение 32-66 с при заземленном затворе, положительном напряжении на истоке с напряженностью поля (1,6-2,8) МВ·см-1 и отрицательном напряжении на стоке с напряженностью поля 0,2-1,1 МВ·см-1.

SU 1 586 469 A1

Авторы

Румак Н.В.

Тишкевич Г.И.

Хатько В.В.

Куксо В.В.

Пекуров В.С.

Канищев А.Ф.

Даты

2012-05-27Публикация

1987-06-11Подача