Проекционный объектив с увеличением - 1/5 @ Советский патент 1990 года по МПК G02B13/24 

Изобретение относится к оптическим системам и может найти применение в микроэлектронике в проекционных системах экспонирования для изготовления полупроводниковых приборов.

Цель иэобретения - увеличение апертуры, поля зрения и создание телецентрического хода лучей со стороны плоскости предметов.

На фиг. 1 приведена оптическая схема объектива; на фиг. 2 - частотно-контрастные характеристики объектива.

. Объектив состоит из девятнадцати линэ, собранных в семнадцать компонентов, первый из которых - положительный мениск 1, обращенный вогнутостью к плоскости предметов; второй - положительный мениск 2. обращенный выпуклостью к плоскости предметов; третий - отрицательный мениск 3, обращенный выпуклостью к плоскости предметов; четвертый - двояковогнутая линза 4,- пятый - двояковыпуклая линза 5; шестой - двояковогнутая линза 6; седьмой - отрицательный мениск 7, обращенный выпуклостью к плоскости предметов; восьмой - двояковыпуклая линза 8; девятый - двояковыпуклая линза 9; десятый - положительный мениск 10, обращенный выпуклостью к Нлоскости предметов; одиннадцатый - положительный мениск 11, обращенный вь пуклостью к плоскости предметов; двенадцатый - отрицательный мениск, обращенный выпуклостью к плоскости предметов, склеенный из положительной 12 и отрицательной 13 линз; тринадцатый - отрицательный мениск 14, обращенный выпуклостью к плоскости предметов; четырнадцатый - отрицательный мениск 15, обращенный вогнутостью к плоскости предметов; пятнадцатый - полося

00 Х4

СА СА hl

жительный мениск, обращенный выпуклостью к плоскости предметов, склеенный из отрицательной 16 и положительной 17 линз; шестнадцатый - двояковыпуклая линза 18; семнадцатый - положительный мениск 19, обращенный выпуклостью к плоскости предметов.

Объектив имеет высокую степень коррекции аберрации для области спектра 404,6+5 нм. Увеличение объектива - 1/5. Апертура 0,35, поле зрения 23,2 мм. Увеличение апертуры объектива обеспечивает увеличение разрешения и получение минимального элемента 0,8-0,9 мкм на поле диаметром 23,2 мм, что позволяет увеличить информационную емкость сверхбольших интегральных схем. Телецентрический ход лучей В пространстве предметов позволяет снизить чувствительность проекционной системы установок, в которых может применяться объектив, к температурным изменениям, а также устранить операцию выставления масштаба при смене фотошаблонов,

Формула изобретения Проекционный объектив с увеличением - 1 /5, включающий одиннадцать компонентов, первый и второй из которых - отрицательные мениски, обращенные выпуклостью к плоскости предметов, третий - двояковыпуклая линза, четвертый и пятый положительные мениски, обращенные выпуклостью к плоскости предметов, шестой - склеенный отрицательный мениск,обращенный выпуклостью к плоскости предметов, седьмой - отрицательный мениск, обращенный выпуклостью к плоскости предметов, восьмой - отрицательный мениск, обращенный вогнутостью к плоскости предметов, девятый - положительный мениск, обращенный вогнутостью к плоскости предметов и склеенный из положительной и отрицательной линз, десятый - двояковыпуклая линза, одиннадцатый - положительный мениск, обращенный выпуклЪстьЮ к

плоскости предметов, отличающийся тем, что, с целью увеличения апертуры объектива, увеличения поля зрения объектива и создания телецентрического хода лучей со стороны плоскости предметов, в него введены два положительных мениска, обращ ен- ные выпуклостями друг к другу и расположенные перед первым компонентом, две двояковогнутые с установленной между ними двояковыпуклой линзой, расположенныё между первым и вторым компонентами, и двояковыпуклая линза, расположенная между третьим и четвертым компонентами, причем одиннадцатый компонент выполнен одиночным, а второй компонент расположен на расстоянии 0,336 F от первого компонента, где F - фокусное расстояние объектива.

Изобретение относится к оптическим системам и может найти применение в микроэлектронике в проекционных системах экспонирования для изготовления полупроводниковых приборов. Цель изобретения - увеличение апертуры и поля зрения объектива и создание телецентрического хода лучей со стороны плоскости предметов. Объектив состоит из девятнадцати линз, собранных в семнадцать компонентов. Увеличение апертуры объектива обеспечивает увеличение разрешения и получение минимального элемента 0,8 - 0,9 мкм на поле диаметром 23,2 мм, что в свою очередь позволяет увеличить информационную емкость сверхбольших интегральных схем. Телецентрический ход лучей в пространстве предметов позволяет снизить чувствительность проекционной системы установок, в которых может применяться объектив, к температурным изменениям, а также устранить операцию выставления масштаба при смене фотошаблонов.

tl 4 li 1

.

/ 2 J

VU

ч

И

«,,

V ,V I 11/

/ /

§lf

п

Фиг.1

,0

(75

500 WOO 1500 У - И.бмм

500 1000 1500

1,0

,2нм

0.5

t /IU/f/

/мм

500 1000 1250 У 5,8 им

500 1000 1250