Устройство для контроля плоскостности прозрачных деталей Советский патент 1990 года по МПК G01B11/24 G01B9/02 

Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для проверки плоскостности пластин, применяемых в полупроводниковой промьшшенности в качестве фотошаблонов.

Цель изобретения - пЬвьш1ение то ности контроля за счет исключения наблюдения паразитной интерфереш ционной картины на экране по всем направлениям.

На чертеже изображена принципиальная, схема предлагаемого устройства для контроля плоскостности прозрачных деталей,

Устройство содержит лазерный источник 1 излучения и последовательно расположенные по ходу излучения зеркало 2, коллиматор, включакиций два конфокально расположенных объектива 3 и 4, клиновидную пластину 5 с лонной нижней поверхностью и блок наблюдения интерференционной картины в виде экрана 6, оптический клин 7, установленный на оси с возможнос- .тью вращения в плоскости, пересекающей направление потока излучения и зеркало 8,

Устройство работает спедующим образом.

Излучение от лазерного источника i излучения направляют зеркалом 2 на объектив 3о Пройдя оптический клин 7, излучение попад ает на объектив 4 коллиматора, затем на клиновидную пластину 5 и контролируемую деталь 9, Излучение, отражаемое от контролируемой детали 9 и эталонной

нижней поверхности клиновидной пластины 5, интерферирует и направляется зеркалом 8 на экран 6, На.исследуемую интерференционную картину накладываются паразитные интерферёнцион- ные картины от обратной стороны контролируемой прозрачной детали 9, которые устраняются вращением оптического клина 7, установленного, на оси с

возможностью вращения в плоскости,

пересекающей направление потока излучения, вызывающего изменение разности хода интерферирующих излучений, отраженных от двух поверхностей контролируемой детали 9. Кроме того, поток излучения, проходя через вращающийся оптический клин 7 отклоняется от оптической оси и совершает круговое движение на экране 6.

Поэтому паразитные интерференционные картины и участки с неравномерностью освещения, связанные с дифракцией когерентного излучения, на неизбежных загрязнениях оптических элементов, получают круговые перемещения в плоскости экрана и при вращении клина с частотой более 24 Гц размываются и становятся невидимыми, а исследуемая интерференционная картина

остается при этом неподвижной на экране.

Предлагаемое устройство значительно сокращает время контроля прозрачных подложек для фотощаблонов, что позволяет снизить трудоемкость, повышает качество подпожек, т,е. повышает Процент выхода годных интеграль ных схем.

51589045

Формула изобретениявторое зеркало и блок наблюдения ийтерференционной картины и оптический

Устройство для контроля плоскост- клин, расположенный между объектива-

ности прозрачных деталей, содержащееj ми, отличающееся тем, источник монохроматического излуче- что, с целью повышения точности.конт- ния и последовательно расположенные роля, оптический клин установлен с по ходу излучения зеркало, коллима- возможностью вращения в плоскости, тор, включающий два конфокально рас пересекающей направление потока изположенных объектива, клиновиднуюtO лучения, пластину с эталонной поверхностью,

Изобретение относится к измерительной технике и может быть применено для проверки плоскостных фотошаблонов в микроэлектронике. Цель изобретения - повышение точности контроля за счет исключения наблюдения паразитной интерференционной картины на экране по всем направлениям. Устройство содержит лазерный источник 1 излучения и последовательно расположенные по ходу излучения зеркало 2, коллиматор, включающий два конфокально расположенных объектива 3 и 4, клиновидную пластину 5 с эталонной нижней поверхностью и экран 6 для наблюдения интерференционной картины, оптический клин 7, установленный на оси с возможностью вращения в плоскости, пересекающей направление потока излучения и зеркало 8. Расположение оптического клина 7 на оси с возможностью вращения в плоскости, пересекающей направление потока излучения, вызывает изменение разности хода интерферирующих излучений, отраженных от двух поверхностей контролируемой детали 9. Поток излучения, проходя через вращающий оптический клин, отклоняется от оптической оси и совершает круговое движение на экране 6. В результате чего паразитные интерференционные картины и участки с неравномерностью освещения, связанные с дифракцией когерентного излучения, на неизбежных загрязненных оптических элементов, получают круговое перемещение в плоскости экрана и при вращении клина с частотой более 24 Гц размываются и становятся невидимыми, а исследуемая интерференционная картина остается при этом неподвижной на экране 6. 1 ил.