Способ получения матрицы для изготовления линзовых растров Советский патент 1990 года по МПК G03F5/00 

Изобретение относи.тся к области

няемь Г «-- «« х растров,применяемых в оптических приборах, в полиграфической промышленности, в раст- Ровых киносъемочных аппаратах и сте- Реоаппаратах, устройствах для-получения пространственных и интегральных фотографии и т.п.

Целью изобретения является расшире- ние технологических возможностей споСпособ осуществляют следующим об- раз ом.

На биметаллическую пластину,КОТОРУЮ используют в качестве подложки экспонируют изображение, бинарная . структура которого соответствует проэл ем енГ Распределению линзовьгх элементов, затем на участки,соответствующие линзовым элементам биметаллической подложки, наносят металлический слой и смачивают его расплавом, который охлаадают до отвервде- ния. На сформированньй рельеф линзо- ных элементов растра электролитическим путем наносят слой металла с последующим отделением его от поверхности рельефа.рлнис

П Р и м е р I. На офсетн то предварительно очувствленную пластину экспонируют изображение бинарной структуры. Экспонирование осу дествляют лампой ПРК-ЛОО в течение 5 мин.- кспо- нированную копию проявляют О 57-ным раствором щелочи в течение 5 мин при комнатной температуре и промывают водой, в результате чего светочувствительный слой на засвеченных участках растворяется до алюминиевой подложки. На отмытые участки алюминия

О5

Oi

О

со

гальванически наносят слой меди толщиной 0,5-0,7 мкм. Гальваническое наращивание меди осуществляют при комнатной температуре, плотности тока 1-2 А/дм в течение 10-15 мин из электролита следующего состава, в г/л:

CuS04 210 H,S04.50

Тиомочевина 0,4 NaCl 0,01 Используют медный анод. Пластину промывают, повторно экспонируют в течение 5 мин, промывают 0,5 %-ным ра- створом щелочи и водой для удаления оставшегося светочувствительного слоя.

В резу/1ьтате осуществления описанных операций получают на поверхности пластины изобра чсение бинарного растра медью на фоне алюминия.Пластину окунают в расплав припоя ПОС-60, Поскольку припой смачивает лишь мед |И не смачивает алюминий, то после охлаждения модели до температуры затвердевания припоя на повер ности обрзуется рельеф линзового растра.

Для электролитического наращивания матрицы модель помещают в ванну электрохимического никелирования и подсоединяют к катоду, анодом служит никелевая пластина. Электролит имеет следугаций состав, г/л:

HiS04 7H20 180 - 200 Na S04 10 HjO 60 - 75 Н,,ВОз25-30

: Had10-15

рН 5 - 5,5.

Режим электролиза: температура 18-25°С, плотность тока 1-3 А/дм . Электролиз проводят в течение 2-3 ч до полумения слоя никеля толщиной 80-100 мкм. Полученную матрицу отделяют от модели с помощью острого ножа, промывают водой и сушат.

Пример2. На обсетной полиметаллической пластине сталь - медь - хром с предварительно очувствленным копировальным слоем на основе ПВС копируют изображение бинарной структуры. Копирование и проявление осуществляют -аналогично примеру 1. Оставшийся задубленный слой ПВС подвергают дополнительному дублению в раствор хромового ангидрида с последующим ИК-облучением в течение 10-15 мин.

С обнаженных участков химическим способом стравливают слои хрома до медной поверхности раствором следующего состава, мл:

Кислота соляная

(пл. 1,13 1,19 г/см)50

Раствор хлорис

того кальция 1,45 г/см)

(пл.

800

0

5

0

5

0

45

50

55

Пасьпденный раствор

хлористого цинка 150

Пластину промь шают водой,удаляют . задубленный слой ПВС 20%-ным раствором щелочи, промывают и сущат.

На поверхности пластины получают изображение бинарной структуры на меди на фоне хрома. Далее пластину поливают расплавом, содержащим 92% олова и 8% цинка, избыток расплава стряхивают. Расплав смачивает лишь участки меди, хром не смачивается указанным расплавом, поэтому после охлаждения расплава на биметаллической подложке образуется рельеф линзового растра.

Электролитическое наращивание матрицы и отделение ее от поверхности рельефа осуществляют аналогично примеру 1.

Формула изобретения

Способ получения матрицы для изготовления линзовых растров, заключающийся в формировании на подложке рельефа линзовых элементов растра, электролитическом нанесении на рельеф слоя металла и его отделении от поверхности рельефа, отличающийся тем, что, с целью расширения технологических возможностей способа, в качестве подложки используют предварительно очувствленную биметаллическую пластину, при этом формирование рельефа осуществляют путем экспонирования на подложку изображения, бинарная структура которого соответствует пространственному распределению линзовых элементов, нанесения металлического слоя на участки,соот- ветств щие линзовым .элементам биме- таллич ской подложки, и смачивания его расплавом легкоплавкого металла, который охлаждают до отверждения.

Изобретение относится к способу получения матрицы для изготовления линзовых растров в растровых киносъемочных аппаратах и стереоаппаратах. Позволяет расширить технологические возможности способа. На биметаллическую пластину экспонируют изображение, бинарная структура которого соответствует пространственному распределению линзовых элементов. Затем на участки, соответствующие линзовым элементам биметаллической пластины, наносят металлический слой и смачивают его расплавом легкоплавкого металла, который охлаждают до отверждения. На сформированный рельеф линзовых элементов растра электролитическим путем наносят слой металла с последующим отделением его от поверхности рельефа. 1 з.п. ф-лы.