Устройство для изготовления рельефных моделей карт Советский патент 1990 года по МПК G09B25/06 

сл

с

Изобретение относится к картографии и может быть использовано при изготовлении рельефных моделей карт и макетов местности из жидкого фотополимера. Целью изобретения является ускорение процесса изготовления моделей и повышение их качества. Устройство содержит кювету с присоединенной на дне полиэтилентерефталатной пленкой, крышку, механизм для перемещения основания модели относительно нижнего края кюветы, раму с пазом, соединенным через штуцер с вакуумным насосом, механизм для перемещения кюветы относительно прикладного стекла с направляющей стойкой и противовесом, осветитель. Рама с пазом вмонтирована в столешницу стола и имеет на внешнем выступе по периметру герметизирующую прокладку. Новым в устройстве является наличие вакуумного насоса и рамы с пазом, соединенным через патрубок с насосом, а также наличие герметизирующей прокладки по периметру рамы. 1 з.п.ф-лы, 2 ил.

Изобретение относится к области картографии и может быть использовано при изготовлении рельефных моделей карт и макетов местности из жидкого фотополимера.

Цель изобретения - ускорение процесса изготовления рельефных моделей и повышение их качества.

На фиг, 1 схематически представлено устройство, общий вид; на фиг. 2 - укрупненная схема узла формирования модели с указанием направлений движения воздуха при ейкуумировании.

Устройство содержит кювету Т со съемным дном из полиэтилентерефталатной пленки 2, крышку 3, механизм 4 для перемещения основания 5 модели относительно края кюветы 1, раму 6 с пазом 7, соединенным через штуцер 8 с вакуумным набосом 9. прикладное стекло 10, механизм 11 для перемещения кюветы 1 относительно прикладного стекла 10 с направляющей

стойкой и противовесом 12, осветитель 13. Рама 6 с пазом 7 вмонтирована в столешницу 14 и имеет на внешнем выступе по периметру герметизирующую прокладку 15.

Устройство работает следующим образом. . После экспонирования гипсометрической ступени 16 через негативную маску 17 с помощью механизма 4 основание модели 5 поднимается на одну ступень (0,5 - 1,0 мм). Одновременно с этим включается вакуумный насос 9, который через штуцер 8 и паз

7отсасывает воздух между прозрачной пленкой 2 и прикладным стеклом 10. Пленка 2 отделяется от откопированного фотополимерного гипсослоя 16 и плотно прижимает негатив 17 к прикладному стеклу 10. В образовавшееся пространство между откопиро- ванным гипсослоем 16 и отделившейся пленкой 2 затекает жидкий фотополимер 18.

8виду того, что процесс отделения протекает быстро (в течение нескольких секунд), осветитель 13 можно не выключать. Таким образом, при включенном вакуумном насо- ре послойное экспонирование с одной и той же маски гипсослоя нескольких, гипсомет- рических ступеней будет заключаться лишь перемещении основания модели относительно дна кюветы 1 через определенные интервалы времени, равные длительности (Экспонирования.

) Использование изобретения позволит Повысить производительность труда за счет значительного сокращения межоперацион- |ных процессов, повысить точность моделей. |Ввиду полного отсутствия контакта жидкого фотополимера с воздухом помещения значительно улучшаются условия труда. При (ЭТОМ также сокращается длительность экспонирования ступеней модели, так как исключается контакт фотополимера с

кислородом воздуха, который снижает ее светочувствительность.

Формула изобретения

5

6

7 /J V3 VZ

9

Фиг. 1

Фиг. 2