Фотоотверждаемая композиция для герметизации блоков магнитных головок Советский патент 1990 года по МПК C09K3/10 G03C1/72 

Описание патента на изобретение SU1606519A1

Изобретение относится к технологии пластических масс и может быть использовано для заливки и герметизации блоков магнитных головок при изготовлении устройств звукозаписи, вычислительной техники и др.

Цель изобретения - улучшение магнитных свойств магнитных головок.

Приготовление композиции для герметизации магнитных головок осуществляют в следующей последовательности.

Вначале приготавливают раствор фотосенсибилизатора. Для этого взве- пшвают необходимое количество 2,2-ди- метокси-2-фенилацето.фенона и раство- ряют его в требуемом количестве димет- акрилатэтиленгликоля при комнатной

температуре и непрерывном перемешивании до полного растворения. Для приготовления раствора фотосенсибилизатора пригодна любая емкость. После приготовления раствора фотосенсибилизатора взвешивают требуемое количество синтетического каучука и олиго- карбонатметакрилата. Указанные компоненты смешивают в течение 10-15 мин при комнатной температуре в стеклянной или металлической емкости. После приготовления компонентов производят получение композиции, для чего раствор 2,2-диметокси-2-фенилацето- фенона в диметакрилатэтиленгликоле вводят в смесь синтетического каучука и олигоэфиркарбонатметакрилата. Полученный состав тщательно переме05

о

О5

ел

со

шийают. в течение 40-50 мин при ком- натной температуре, не допуская .попадания на него видимого света. . После смешения приготовленную композицию подвергают отстаиванию в темном месте при комнатной температуре в течение 1-1,5 ч или вакуумированию в течение 10-15 мин для удаления воздуха, попавшего в нее при смешении. Приготовленную таким образом композицию используют для герметизации блоков магнитных головок Гермети .цию блоков магнитных головок npoi .- водят свободной заливкой при комнатной температуре. После заливки блоков композицию отверждают под действием УФ -света, полученного от ламп ЛУФ-80 холодного свечения Время отверждения композиции 2-15 мин Расстояние от поверхности залитого блока до лампы ЛУФ-80 8-10 см. Температура отверждения комнатная.

После отверждения производят испытания композиции по приведенному ниже комплексу свойств.

Одновременно по данному комплексу свойств испытывали композицию-прототип и базовую композицию. В качестве базовой композиции принята используемая в производственных условиях композиция на основе эпоксидного оли- гомера УП-5-206о

Испытывают следующие показатели: магнитную проницаемость па ГОСТ 19755-81, импеданс по ГОСТ 19755-81, частотную характеристику воспроизведения по ГОСТ 19755-81, ЭДС по ГОСТ 19755-81, наличие контакта сердечника с экраном по ГОСТ 19755-81, ударную вязкость по ГОСТ 14235-69, разрушающее напряжение при изгибе по ГОСТ 17036-71, степень отверждения определяли методом экстракции по общепринятой лабораторной методике в аппарате Сокслетта, жизнеспособность определяют визуально по общепринятой лабораторной методике, фиксируя время гелеобразования с помощью секундомера, вязкость по ВЗ-4 определяли по ГОСТ 8420-57, контактное давление (определение остаточных напряжений) проводили тензометрическим методом на приборе ЦТМ-5, При измерении контактного давления применяли модели в виде тонкостенного цилиндра на внутренней поверхности которого наклеивали проволочные тензодатчики

для измерения осевых и окружных деформаций.

Цилиндр с наклеенными тензодатчиками помещают в разъемную форму, после чего модель заливают испытываемым материалом таким образом, чтобы он образовал вокруг цилиндра слой толщиной 6 ммо При отверждении композиции

возникают остаточные напряжения, которые деформируют цилиндр. По величине изменения сопротивлени я тензодат- чиков определяется деформация цилиндра и, следовательно, вызвавшие ее

5 усилия

Контактное давление рассчитьшают по формуле расчета тонкостенного цилиндра

0 Р оЕ,Д/г(1- 4/2),

где Р - контактное давление, кг/см ; г - средний радиус цилиндра, мм; Е - модуль упругости материала

цилиндра, кг/см j

5 U - толщина стенки цилиндра, мм; - относительная окружная деформация;

{Ч- коэффициент Пуассона. В таблс 1 приведены примеры получе- 0 ния предлагаемой композиции для герметизации магнитных головок

В табл.2 приведены данные сравни- . тельных испытаний свойств крмпозиции- 5 прототипа, базовой композиции и предлагаемой композиции по примерам 1-8.

Жизнеспособность предлагаемой композиции и композиции-прототипа при хранении в темноте практически не ог- 40 раничена, на свету составляет 5-6 ч, а базовой композиции - 40-50 мин.

Формула изобретения

Фотоотверждаемая композиция для герметизации блоков магнитных головок, включающая олигокарбонатметакрилат и фотосенсибилизатор, отлич аю- щ а я с я тем, что, с целью улучшения магнитных свойств магнитных головок, она содержит в качестве фотосенсибилизатора раствор 2,2-диметок-. си-2-фенилацетофенона в диметакрилат- этштенгликоле и дополнительно низкомолекулярный диметилсилоксановый каучук при следзпощем соотношении компонентов, масо%1

Олигокарбонатмета- крилат 93,1-95,8

45

50

55

0,01-0,02 2,00-3,39

Низкомолекулярный диме- тилсилоксйно- вый каучук

2,0-3,5

Похожие патенты SU1606519A1

название год авторы номер документа
Фотоотверждаемая композиция для герметизации блоков магнитных головок 1990
  • Авраменко Вячеслав Леонидович
  • Колесникова Янина Дмитриевна
  • Петров Олег Ростиславович
  • Лукина Елена Михайловна
  • Епишкин Юрий Сергеевич
  • Габданк Виктор Константинович
  • Ларина Галина Григорьевна
  • Станявичюс Саулюс-Витаутас Раполо
  • Белюнене Вероника Пятровна
  • Науйокайтене Данута Ионовна
  • Стреконис Витаутас Пятрович
  • Дорофеев Леонид Панкратьевич
SU1693585A1
ПОЛИМЕРНАЯ КОМПОЗИЦИЯ, СПОСОБ ЕЕ ПРИГОТОВЛЕНИЯ И ПОЛИМЕРИЗАЦИИ 2023
  • Домокеев Сергей Викторович
  • Турунтаев Игорь Владимирович
RU2818758C1
Фотополимеризующаяся композиция для изготовления эластичных фотополимерных печатных форм 1986
  • Шибанов В.В.
  • Мельник Г.Ф.
  • Коршунов М.А.
  • Кондратьев А.Н.
  • Романюк А.П.
  • Мервинский Р.И.
  • Куница В.П.
  • Костяк И.Ф.
SU1412491A1
ЭЛАСТИЧНЫЙ ИСКУССТВЕННЫЙ ХРУСТАЛИК ГЛАЗА 1998
  • Федоров С.Н.
  • Линник Л.Ф.
  • Треушников В.М.
  • Викторова Е.А.
  • Караваев А.А.
RU2129880C1
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЭЛАСТИЧНЫХ ФОТОПОЛИМЕРНЫХ ПЕЧАТНЫХ ФОРМ 1994
  • Златопольский Арнольд Иосифович
  • Галашин Анатолий Евгеньевич
RU2114454C1
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЭЛАСТИЧНЫХ ИСКУССТВЕННЫХ ХРУСТАЛИКОВ ГЛАЗА 2000
  • Треушников В.М.
  • Викторова Е.А.
RU2198630C2
Фотополимеризующаяся композиция для изготовления эластичных фотополимерных печатных форм 1986
  • Шибанов В.В.
  • Мельник Г.Ф.
  • Мервинский Р.И.
  • Костяк И.Ф.
  • Романюк А.П.
  • Куница В.П.
SU1364052A1
ЭЛАСТИЧНЫЙ ИСКУССТВЕННЫЙ ХРУСТАЛИК ГЛАЗА 2000
  • Треушников В.М.
  • Викторова Е.А.
  • Рыбин А.Г.
  • Чугунов М.А.
RU2198661C2
МОНОЛИТНЫЙ ТВЕРДЫЙ ИСКУССТВЕННЫЙ ХРУСТАЛИК ГЛАЗА 2003
  • Треушников В.М.
  • Чупров А.Д.
  • Викторова Е.А.
  • Старостина О.В.
  • Пастухова Н.В.
  • Треушников В.В.
RU2253482C1
"ЖИВЫЕ" ПОЛИМЕРИЗАЦИОННОСПОСОБНЫЕ ПЛЕНКИ ДЛЯ ЗАПИСИ ГОЛОГРАММ 2006
  • Шашкова Валентина Трофимовна
  • Певцова Лариса Александровна
  • Котова Алла Васильевна
  • Матвеева Ирина Александровна
  • Строкач Юрий Петрович
  • Барачевский Валерий Александрович
  • Западинский Борис Исаакович
  • Сангвоо Бае
RU2331095C1

Реферат патента 1990 года Фотоотверждаемая композиция для герметизации блоков магнитных головок

Изобретение относится к получению фотополимеризующихся композиций, используемых для заливки и герметизации блоков магнитных головок при изготовлении устройств звукозаписи, вычислительной техники, и позволяет улучшить магнитные свойства магнитных головок. Для этого композиция содержит в качестве фотосенсибилизатора раствор 2,2-диметокси-2-фенилацетофенона в диметакрилатэтиленгликоле и дополнительно содержит низкомолекулярный диметилсилоксановый каучук при следующем соотношении компонентов, мас.% : олигокарбонатметакрилат 93,1-95,8

2,2-диметокси-2-фенилацетофенон 0,01-0,02

диметакрилатэтиленгликоль 2,00-3,39

низкомолекулярный диметилсилоксановый каучук 2,0-3,5. 2 табл.

Формула изобретения SU 1 606 519 A1

Композиция не отверждается. Степень отверждения композиции низкая, Композиция имеет низкие магнитные и прочностные свойства.

Таблица 1

Таблица 2

Показатель

Композиция-прототип

Базоваякомпозиция

Koi-тозиция по примерам

предлагаемая

зициятj- 1тГ

..J..i J J LiJ-J J i...L.L.

контрольные

9А78

0,8

95 190

0,7

87 101

0,1

87 100

0,1

Примечание. Магнитная головка имеет два вьшода. Вывод 1 зйписаи в числителе,

вьшод 2 в знаменателе.

Показатель степени отверждения для предлагаемой композиции занижен, так как синтетический каучук фотохимически-не отзерждается, за счет чего масса экстрагируемой части увеличивается. 11родол еш-хе таОл. 2

Koi-тозиция по примерам

контрольные

89

98

88

96

25 107 114

37 106

0,2 0,2

0,5 0,2

Документы, цитированные в отчете о поиске Патент 1990 года SU1606519A1

Патент США № 4481258, кл
кл
Способ получения сульфокислот из нефтяных масел 1911
  • Петров Г.С.
SU428A1
Колосниковая решетка с чередующимися неподвижными и движущимися возвратно-поступательно колосниками 1917
  • Р.К. Каблиц
SU1984A1
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ 1972
SU421973A1

SU 1 606 519 A1

Авторы

Авраменко Вячеслав Леонидович

Колесникова Янина Дмитриевна

Шкоп Татьяна Николаевна

Петров Олег Ростиславович

Жиляк Анатолий Стефанович

Епишкин Юрий Сергеевич

Габданк Виктор Константинович

Ларина Галина Григорьевна

Ясинавичюс Рилевидас Пятрович

Найкялис Витас Юозович

Белюнене Вероника Пятровна

Науекайтене Данута Ионовна

Даты

1990-11-15Публикация

1988-07-06Подача