Изобретение относится к микроэлектронике, а более конкретно к технологии препарирования образцов, и может быть использовано для контроля параметров полупроводниковых материалов.
Известен способ получения образца с косым шлифом, включающий механическую шлифовку препарируемого образца под малым углом, К недостаткам данного способа относится значительная шероховатость поверхности приготовляемого шлифа.
Наиболее близким к предлагаемому является способ лолучения образца с косым шлифом, включающий постепенное погружение его в травящий раствор.
Недостатком этого способа является недостаточная линейность поверхности шлифа, связанная с неодинаковой смачиваемостью различных участков образца и колебаниями скорости перемещения границы травителя по поверхности материала.
Целью изобретения является улучшение качества поверхности и равномерности профиля косого шлифа.
Указанная цель достигается тем, что в способе получения образца кремния с косым шлифом, включающем воздействие на его поверхность травящим раствором, образец помещают в электролитическую ванну, снабженную линейным катодом, располагают катод в плоскости поверхности образца параллельно одной из его граней на некотором расстоянии, после чего удаляют материал образца методом электрохимического анодного растворения, при этом угол W получаемого косого шлифа определяют из соотношения
Vl
сл ел
о
СлЭ
W
arctgJ -,
где t - время травления;
К - электрохимический эквивалент;
R - расстояние от края образца до катода;
L- длина образца;
W - угол наклона косого шлифа.
На чертеже представлено поперечное сечение устройства, реализующего предлагаемый способ.
Устройство содержит электролитическую ванну 1 с линейным катодом 2 и держа- тель образца 3, снабженный тыловым контактом 4 и уплотнителем 5.
Устройство работает следующим образом.
Держатель с образцом б помещают в ванну, заполненную электролитом 7 для анодного травления, после чего линейный катод ориентируют таким образом, чтобы он лежал в плоскости поверхности образца параллельно одной из его граней на некотором расстоянии. Затем устройство подключают к источнику питания и травят поверхность образца до получения шлифа с необходимой геометрией.
В пренебрежении относительно малыми изменениями геометрии системы при травлении, не выходящими за пределы 0,1%, угол получаемого шлифа связан с параметрами системы соотношением.
0
5
0
Эксперименты показали, что предлагаемый способ позволяет получать образцы кремния с косым шлифом, имеющие поверхность высокого качества, при этом отклоне- ние формы шлифа от линейной не превышает 0,5%,
Формула изобретения Способ получения образца кремния с косым шли,фом, включающий травление поверхности образца, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества поверхности и равномерности профиля косого шлифа, защищают одну плоскость образца химически стойким материалом, помещают образец в электрическую ванну с линейным катодом так, чтобы открытая плоскость образца была параллельна катоду, проводят анодное травление образца, причем время травления t определяют из соотношения:
R +L
К -tg W
где R - расстояние от края образца до като- да;
L- длина образца;
К - электрохимический эквивалент;
W - угол наклона косого шлифа.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Способ подготовки образца кремния для определения дефектности структуры | 1990 |
|
SU1800309A1 |
СПОСОБ ТРАВЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ | 2002 |
|
RU2299934C2 |
Способ препарирования образцов | 1989 |
|
SU1666941A1 |
Способ плазменно-электрохимического формирования наноструктурированного хромового гладкого покрытия | 2021 |
|
RU2773545C1 |
Травитель для электролитическогоТРАВлЕНия МОНОКРиСТАллОВ РЕНия | 1978 |
|
SU716287A1 |
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ОПРЕДЕЛЕНИЯ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ ОСТАТОЧНЫХ НАПРЯЖЕНИЙ В ПОВЕРХНОСТНОМ СЛОЕ ПЛОСКОЙ МЕТАЛЛИЧЕСКОЙ ДЕТАЛИ | 2022 |
|
RU2802869C1 |
СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ОСТАТОЧНЫХ НАПРЯЖЕНИЙ В ДЕТАЛЯХ С ЭЛЕКТРОПРОВОДНЫМИ ПОКРЫТИЯМИ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 2006 |
|
RU2340867C2 |
СПОСОБ ПОСЛОЙНОГО АНАЛИЗА ТОНКИХ ПЛЕНОК | 2002 |
|
RU2229116C1 |
СПОСОБ ИЗБИРАТЕЛЬНОГО ЭЛЕКТРОХИЛТИЧЕСКОГО | 1971 |
|
SU290063A1 |
Устройство для электрохимическойОбРАбОТКи пОлупРОВОдНиКОВыХ плАСТиН | 1978 |
|
SU819855A1 |
Использование: технология препарирования образцов в микроэлектронике. Сущность изобретения: защищают одну плоскость образца химически инертным материалом. Размещают образец в электролитической ванне параллельно линейному катоду. Проводят анодное травление образца. Время травления определяют из соотношения требуемого угла косого шлифа и размеров образца. 1 ил.
А.И, Курносое и др | |||
Технология производства полупроводниковых приборов | |||
М.: Высшая школа, 1974, с.170 | |||
Устройство для изготовления образцов с косым шлифом | 1981 |
|
SU994959A1 |
Печь для непрерывного получения сернистого натрия | 1921 |
|
SU1A1 |
Авторы
Даты
1992-08-15—Публикация
1991-01-08—Подача