Радиатор для охлаждения полупроводниковых приборов Советский патент 1993 года по МПК H05K7/20 H01L23/34 

пучки гибких проволок расположены между внешней цилиндрической поверхностью цилиндра и цилиндрическими поверхностями клинообразных сухариков, при этом цилиндрическая втулка распорного узла установлена между скосами клинообразных сухариков и внутренней поверхностью стенок стакана, а гайка распорного узла - на

внешней резьбовой поверхности стакана с обеспечением взаимодействия пучков гибких проволок с цилиндрическими поверхностями клинообразных сухариков.

2. Радиатор поп, 1,отличающийся тем, что цилиндрическая втулка распорного узла выполнена разрезной вдоль ее образующей.

Изобретение относится к технике охлаждения и может быть использовано для отвода тепла от теплонагруженных электро- радиоизделий радиоэлектронной и вычислительной аппаратуры с естественным и принудительным охлаждением. Цель изобретения - повышение интенсивности теплообмена и расширение эксплуатационных возможностей за счет отвода тепла от более нагретой зоны. Цель достигается за счет того, что в радиаторе для охлаждения полупроводниковых приборов, содержащем основание 1 в виде стакана с резьбовой внешней поверхностью 4 стенки 5 и закрепленным на днищем 6 стакана коаксиально его стенке 5 цилиндром 7, распорное устройство и размещенные между цилиндром 7 и стенкой 5 стакана пучки гибких проволок 3 и клинообразные сухарики 10, пучки гибких проволок 3 размещены между цилиндром 7 (наиболее нагретая зона) и клинообразными сухариками 10 с возможностью теплового контакта с ними, а распорное устройство выполнено из разрезной цилиндрической втулки 12 с конической внутренней поверхностью, взаимодействующей со скосами 14 клинообразных сухариков 10, цилиндрической поверхностью - с внутренней поверхностью 16 стенки 5, и накидной гайки 17, взаимодействующей с торцом втулки 12 и установленной на цилиндрической резьбовой поверхности 4 стенки 5. 1 з.п. ф-лы, 3 ил. xxass ел