Способ получения отражающего покрытия Советский патент 1993 года по МПК C23C14/14 G02B1/10 

i Изобретение относится к технологии получения металлических покрытий и может использовано для нанесения адгези- оннЬ-прочных, высокоотражающих покрытий; стойких к оптическому излучению.

Целью изобретения является повышение лучевой стойкости отражающего метал- лич|еского покрытия на прозрачной подложке.

(Пример. Осаждение отражающего покЬытия осуществляют методом катодного расрыления с использованием ячейки Пен- .

.Подложки из стекла КУ-1 помещают в вакуумную камеру, которую откачивают и обе гаживают с помощью термического нагрета. После достижения давления в камере (6,6& - 6б,5) Па включают систему охлаж- с использованием жидкого азота. ПодИожки при этом находятся при температур жидкого азота. Затем включается подача инертного газа (криптона). По достижении в кайере давления (2,66 - 7,98). 10 Па после- довйтельно подают электропитание (напря- ность импульса t с. Зона облучения

жение 3 - 5 кВ) на две независимые секции для катодного распыления магния и меди (или серебра) и осаждают последовательно подслой магния толщиной 1,5 нм и основной слой меди (или серебра) толщиной 0,2 .- 15 мкм.

Перемещение кассеты с подложками от секции к секции производят с помощью механичёского привода. Толщину подслоя и металлического покрытия регулируют no времени распыления материала.

Экспериментально было установлено, что Мд образует максимально прочные связи на границе раздела подложка (кварц) - отражающее покрытие при толщине 1,5 ± 0,1 нм.

Способ нанесения подслоя позволяет получить сплошную пленку даже при толщи не моноатомного слоя и получить плотно упакованный аморфный материал.

Полученные образцы были подвергнуты лазерному облучению со стороны подложки. Длина волны Я 1,055 мкм. длитель j

ность импульса t с. Зона облучения

жение 3 - 5 кВ) на две независимые секции для катодного распыления магния и меди (или серебра) и осаждают последовательно подслой магния толщиной 1,5 нм и основной слой меди (или серебра) толщиной 0,2 .- 15 мкм. ;

Перемещение кассеты с подложками от . секции к секции производят с помощью ме ; ханичёского привода. Толщину подслоя и металлического покрытия регулируют no ; времени распыления материала.

Экспериментально было установлено, : что Мд образует максимально прочные свя зи на границе раздела подложка (кварц) - отражающее покрытие при толщине 1,5 ± 0,1 нм.

Способ нанесения подслоя позволяет получить сплошную пленку даже при толщине моноатомного слоя и получить плотно упакованный аморфный материал.

Полученные образцы были подвергнуты лазерному облучению со стороны подложки. Длина волны Я 1,055 мкм. длитель j

ел С

00

о ел

оэ VI

ограничивалось диафрагмой площадью S. Величины энергии лазерного излучения EI, Е2. отраженного соответственно от входной (ненапыленной) и напыленной граней образца, измеряли калориметрами типа ИМО- 2Н.

Коэффициент отражения R рассчитывали по формуле:

,,6

ИЛучевую стойкость W определяли по формуле:

W 29,6

Einp

, Дж/см

где Einp - значение EL при котором наблюдается разрушение покрытия.

Результаты испытаний образцов приведены в таблице.

Таким образом, отражающее металлическое покрытие с подслоем, изготовленное согласно изобретению, отличается высокой адгезией, предельным для металлических

пленок коэффициентом отражения и повышенной лучевой стойкостью, что значительно улучшает технические характеристики изделий (зеркала, призмы), увеличивает ресурс их работы.

Формула из обретения

Способ получения отражающего покрытия, включающий осаждение в вакууме металла покрытия на прозрачную подложку методом катодного распыления, о т. л и ч ающийся тем/что, с целью повышения лучевой стойкости покрытия, перед осаждением металла покрытия на подложку наносят подслой магния толщиной 1,5 ± 0,1 нм, причем нанесение подслоя осуществляют

методом катодного распыления в ячейке Пеннинга.

Использование: технология получения высокоотражающих металлических покрытий (П), стойких к оптическому излучению. Сущность изобретения: осаждение отражающего П осуществляют в установке катодного распыления, снабженной ячейками Пеннинга. На подложки, охлаждаемые жидким азотом, последовательно наносят подслой магния толщиной 1,5 ±0,1 нм и металл отражающего П. Способ обеспечивает повышение лучевой стойкости П при предельном для металлических пленок коэффициенте отражения. 1 табл.