Устройство для жидкостной обработки плоских изделий Советский патент 1993 года по МПК H01L21/312 

Изобретение относится к обработке материалов, в частности к устройствам для жидкостной обработки плоских изделий с использованием центрифугирования, и может быть использовано в полупроводниковом производстве для проявления фоторезиста, травления маскирующего слоя и отмывки фотошаблонов.

Цель изобретения - повышение процента выхода годных.

На фиг. 1 представлен общий вид устройства для жидкостной обработки плоских изделий; на фиг. 2 - аид сверху на ванну и средство подъема изделий; на фиг. 3 - 5 - вид устройства в определенные моменты обработки (фиг. 3 - проявление, фиг. 4 - отмывка, фиг. 5 - сушка).

Устройство для жидкостной обработки плоских изделий содержит ванну 1, одновременно служащую столиком для изделия (далее подложки), для чего в днище ванны 1 выполнены выступы 3. Держатель установлен с возможностью вращения. Устройство содержит средство 4 подъема изделия, форсунки 15 для подачи обрабатывающих жидкостей. Кроме того, оно снабжено уплотнительной диафрагмой 12. В держателе изделий 2 выполнены отверстия 9, 10 для слива обрабатывающей жидкости. Держатель установлен под углом к геометрической оси ванны 1, а уплотнительной диафрагмой 12 жестко закреплен между средством 4 подъема изделия и днищем ванны 1. Устрой- ство снабжено сборником 13 обрабатывающей жидкости со сливным патрубком 14, который одновременно служит корпусом, ограничивающим рабочий объем.

Устройство работает следующим образом.

Подложку 2 помещают на выступах 3 в ванне 1, В этот момент средство 4 находится в крайнем нижнем положении, подложка 2 перекрывает сливные отверстия 9, 10 в ванне 1. Из форсунки 17 подают заданное количество обрабатывающей жидкости до заполнения ванны 1 таким образом, чтобы покрыть подложку 2 полностью. Осуществляют процесс обработки. При этом ванну 1 средством 4 подъема подложки 2 вначале

приводят во вращение с незначительной скоростью, а затем по прошествии 1/3 общего времени обработки, приводят в движение привод 5 вертикального перемещения

подложки 2. При этом подложка 2 не выходит за рамки ограничивающих выступов ванны 1. Средство 4 подъема поднимает подложку 2, освобождает сливные отверстия 9,10 в ванне 1, обработанная жидкость

удаляется с продуктами проявления. Затем средство 4 посредством привода 5 вертикального перемещения возвращается в исходное положение, снова перекрывая подложкой сливные отверстия 9, 10 в ванне

1. Из форсунки 17 подают обрабатывающую жидкость до уровня В и включают средство 18 контроля. После окончания процесса обработки средство 4 с подложкой 2 поднимается до верхнего положения.

Обрабатывающий раствор сливается через сливные отверстия 9, 10 в сборник 13, откуда удаляются через патрубок 14, а из форсунки 15 подают деионизованную. воду на обе стороны подложки 2. По окончании процесса отмывки прекращается подача воды, ванне 1 и средству 4 подъема сообщают большую скорость вращения для обеспечения сушки подложки, после чего останавливают ванну 1 и средство 4 подъема.

Осуществляют выгрузку подложки. Далее процесс повторяется.

Формула изобретения Устройство для жидкостной обработки

плоских изделий, содержащее ванну, держатель изделия, установленный в ванне с возможностью вращения, средство подъема изделия, форсунки для подачи обрабатывающих жидкостей, отличающееся

тем, что, с целью повышения процентов выхода годных, оно снабжено уплотнительной диафрагмой, держатель изделия выполнен в виде емкости с выполненными в днище отверстиями длл слива обрабатывающей жидкости, установленной под углом к геометрической оси ванны, э уплотнитель- ная диафрагма жестко закреплена между средством подъема изделия и днищем емкости.

I

Использование: изобретение относится к обработке материалов, в частности к устройствам для жидкостной обработки фотошаблонных заготовок с использованием центрифугирования, и может Сыть исполь- зопзно в полупроводниковом производстве для проявления фоторезиста, травления маскирующего слоя и отмывки фотошаблонов. Сущность изобретения: устройство позволяет получить высокий процент выхода годных изделий за счет одновременного вращения ванны с проявителем (травите- лем) и держателя изделий. Устройство содержит ванну 1, держатель 2 изделия 3, сборник 13 проявителя (травителя), привод 5 вертикального перемещения держателя 2. А привод вращения ванны 1. 5 ил. 00 ю vj О Ю ND

г Ј

Л г

V

Z69LZ81

г/

1

(t

/Ц/НгО

fj /7/ // // /

l..-,:j

/ / / / /

/9

fff