Изобретение относится « расходным источникам газоразрядной дла-змы.
Известмы сверхвысокочастотиые плаз матроны, 1состоя1щие из двух и более отрезков .передающих ЛИ1НИЙ, подсоединенных к индивидуальным источникам питания и соединевных между со.бой отрезком запредельного волноВОда, «нут|ри которого юомещеиа диэлектрическая разрядная трубка. Их недостатками являются отсутствие согласования источников п:итания с передающими линия.ми лри выключении электрического разряда, а также -низкий 1К.1П.Д. в случае, когда диаметр диэлектр-ической разрядной трубки составляет 1менсе 60% от раз;мера широкой стенки передающей
ЛИНИИ.
Изобретение 1позволяет увеличить 1к.:п.д. плазматрона в указанных условиях и повысить надежность согласования источаяика питания с 1Пере|Дающей линией.
Схема предлагаемого плазматрона ирсдставлена на чертеже.
Он содержит отрезок передающей линии 1 со сверхвьисокочастотной нагруз кой и элемент 2 высокочастот1ной связи. Передающая линия и све1рхвысокочастотная на1груз1ка пронизываются диэлектрической разрядной .трубкой 3. Сверхвысокочаотогная «агрузка выполнена в виде объемного резонатора 4, снабженного охлаждаемой нагрузкой 5 и соединенного с
передающей линией отрезком 6 за.пределыного волновода.
Устройство работает следующим образом. Включают систему охлаждения тлазматрона, -нодачу газа в трубку 3 и источни к питания. Согласование источника питания с передающей достигается тбм, что энергия, поступающая в передающую лигаию, с помоидью элемента 2 высокочастотной связи подается в резонатор 4 и поглощается охлаждаемой нагруз.кой 5. Далее одним из известных способов поджигается разряд в трубке 3. При этом .наступает (рассогласование резонатора с передающей линией за счет того, что
трубка 3 пронизывает его в области пучности электрического поля, а это приводит к резкому снижению его добротности. При этОМ плазма поглощает подавляющую часть подводнмой энергии.
Предмет изобретения
Сверхвысокочастотный плаз,матро.н, состоящий 1ИЗ отрезка передающей линии, сверхвысокочасготной нагруз ки, эле-мента высокочастотной связи между иими и диэлектрической разрядной трубки, отличающийся тем, что, с целью увеличения к.:П.д. и надежности плазматрона, указанная нагрузка выполнена в виде снабженного охлаждаемым поглотитеного с передающей линией отрезком зааределвно:го Волновода, внут|ри которого раз;мещена диэлектричеокая разрядная трубка.
нронизывающая отрезок нередающей линии и объемный резон.атор в области максимальной величины электрического толя.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
УСТРОЙСТВО ДЛЯ СВЧ ВОЗБУЖДЕНИЯ И ПОДДЕРЖАНИЯ ГЕНЕРАЦИИ ГАЗОРАЗРЯДНОГО ЛАЗЕРА ПРИ ПОМОЩИ СОЗДАНИЯ ПЛАЗМЕННОЙ КОАКСИАЛЬНОЙ ЛИНИИ | 1999 |
|
RU2164048C1 |
СВЕРХ ВЫСОКОЧАСТОТНЫ И ПЛАЗМОТРОН!П:>&т-1.. Л=М-![ХН5!^ЕЭДБМБЛИОТЕНА | 1970 |
|
SU270139A1 |
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВОЗБУЖДЕНИЯ И ПОДДЕРЖАНИЯ СВЧ-РАЗРЯДОВ В ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИХ РЕАКТОРАХ | 2011 |
|
RU2468544C1 |
СВЧ ПЛАЗМЕННЫЙ РЕАКТОР | 2005 |
|
RU2299929C2 |
СВЧ-ПЛАЗМОТРОН | 2019 |
|
RU2718715C1 |
ИЗЛУЧАТЕЛЬ СВЧ-ЭНЕРГИИ (ВАРИАНТЫ) | 2007 |
|
RU2349983C1 |
СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ПЛАЗМЫ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ | 1999 |
|
RU2171554C2 |
СВЧ устройство для генерации плазмоидов типа шаровых молний (варианты) | 2002 |
|
RU2222878C1 |
Сверхвысокочастотный плазматрон | 1978 |
|
SU868845A1 |
МИКРОВОЛНОВЫЙ ПЛАЗМАТРОН | 1999 |
|
RU2153781C1 |
Даты
1970-01-01—Публикация