ЭЛЕКТРОФОТОГРАФИЧЕСКИЙ МАТЕРИАЛ Советский патент 1971 года по МПК G03G5/07 

Изобретение касается электрофотографического материала для термоиластической записи информации.

Известен электрофотографическпй материал, состоящий из подложки и фотополупроводникового слоя, включающего органический полупроводник - поли - N - винилкарбазол (ПВК) и полимерное связующее.

Известен также фототермопластический материал, состоящий из подложки и регистрирующего слоя из термопластичного фотопроводящего полимера - сополимера фенилацетилепа со стиролом и связующего - теломера дивинила со стиролом с ксантогенными концевыми группами.

Электрофотографический материал на основе поли-М-винилкарбазола имеет высокую фоточувствительность, по его нельзя использовать для фототермопластической записи, так как температура стеклования ПВК высока (150-200°С).

Больщую роль в термопластических материалах играет термопластическая среда.

К слою, обладающему термопластичностью, предъявляются следующие требования: температура размягчения слоя должна находиться в пределах 60--110°С, а вязкость при этой температуре не должна превыщать 5-10 - 5-10 спз, слой не должен быть хрупким, обладать хладотекучестью, но должен обладать хорощеи адгезией к токопроводящим подложкам и малой электропроводностью.

В качестве фоточувствительной добавки в термопластический слой вводят лейкооснования красителей (например, малахитового зеленого), которые впоследствии окисляются в краситель. Фоточувствительность таких слоев, как правило, чрезвычайно низка. Концентрация фотопроводящего вещества обычно бывает

невысокой (), чтобы не сильно изменились термопластические и электрические свойства. Кроме лейкооснований красителей известно применение других органических фотополупроводников, например фталоцианина меди,

феназина и др.

Непрозрачные фототермопластические слон получают путем диспергирования перастворимых фотополупроводников в термопластической среде. При этом фотополупроводник должен быть мелкодисперсным (например, сернистый кадмий, окись цинка и др.).

Основной недостаток этих слоев - непрозрачность, негомогенность и более сложная технология изготовления.

Цель изобретения - получение высокочувствительного, прозрачного и однородного фотополупроводникового слоя. стирола с дивинилом с ксантогенными концевыми группами. В этом электрофотографическом материале, пригодном для фотопластической записи, применяется однородная смесь двух полимеров - одного с высокой фоточувствительностью, сопротивлением и хорошими пленкообразующими свойствами, но с высокой температурой размягчения, другого с низкой температурой размягчения и высоким сопротивлением. Применение в качестве фотополупроводника органического полимера позволяет ввести значительно большее количество фотополупроводника в термопластический полимер без потери эластичности и прозрачности (при их совместимости). Тем самым повышается фоточувствительность. Проведенные подробные исследования различных видов органических полимерных фотополупроводников и термопластических полимеров позволяют сделать вывод, что наилучшим для изготовления слоя является состав, СОСТОЯШ.ИЙ из 7 вес. ч. поли-М-винилкарбазола ЩВК;) с соответствующими добавками (фотополупроводник) и 3 вес. ч. теломера стирола и дивинила с ксантогенными концевыми группами (ТСД), также с соответствующими добавками. Удовлетворительными свойствами обладают также составы, содержап;ие 5, 6, 8, а иногда и 9 вес. ч. ПВК- Смесь ПЕК с ТСД позволяет получить материал, удовлетворяющий всем требованиям, предъявляемым к фотопластическим материалам. Температура размягчения (стеклования) 60-70°С, удельное объемное сопротивление при температуре размягчения не ниже ом-см, светочувствительность не ниже чистого ПВК. Теломер стирола с дивинилом с ксантогенными концевыми группами имеет следующую формулу: -НС - сяг- СН2 - CHgс целью улучшения пленки образующих свойств с ТСД добавляют полидифенилсилоксан 5-20% или любой другой пластификатор. Для повышения фоточувствительности полученного таким образом фототермопластического слоя может быть использован или метод оптической сенсибилизации с помощью красителей, или введение электроноакцепторных добавок, приводящих к образованию комплексов с переносом заряда (КПЗ) и дающих дополнительную полосу поглощения. Пример. Измерения показывают, что оптимальная толщина слоя 5-25 мк. Фоточувствительность такой системы при оптимальных режимах составляет 500 лк-сек при освещении от фотолампы мощностью 100 вт. Под фоточувствительностью понимается экспозиция, необходимая для уменьщения предельного потенциала на 50%). Предельный потенциал слоя при толщине 10 мк находится в пределах 1000-1500 в. Указанная величина фоточувствительности значительно превышает фоточувствительность известных органических слоев для фотопластической записи на основе сополимера фенилацетилена со стиролом. Предмет изобретения 1.Электрофотографический материал для термопластической записи, состоящий из подложки и фотополупроводникового слоя, включающего органический полупроводник-полиN-винилкарбазол и полимерное связующее, отличающийся тем, что, с целью получения высокочувствительного, прозрачного и однородного фотополупроводникового слоя, в качестве полимерного связующего применен теломер стирола с дивинилом с ксантогенными концевыми группами. 2.Материал по п. 1, отличающийся тем, что, с целью улучшения пленкообразующих свойств, в фотополупроводниковый слой введен пластификатор, например полидифенилсилоксан. 3.Материал по п. 1, отличающийся тем, что, с целью повышения фоточувствительности материала, в фотополупроводниковый слой введен оптический сенсибилизатор или электроноакцепторная добавка.