Фототермопластический материал Советский патент 1981 года по МПК G03G5/08 

стБИтелыюсть, сравнпвае.мая с чувствительностью фототермопластического материала с инжекционным слоем из аморфного селена. Это объясняется тем, что сульфид кадмия без термической обработки при 400-600°С не обладает существенной фоточувствительностью, а фоточувствительность трехсернистой сурьмы значительно уступает фоточувствительности аморфного селена.

А1атериал работает при заряжении в отрицательном коронном разряде.

Пример 1. На металлизированную никелем полиэтилентерефталатную основу последовательно напыляют слои фотопроводников сульфида кадмия и трехсернистой сурьмы толщнной но 0,1 мкм . Затем методом купающего ролика из толуольного раствора наносят фототер.мопластическую композицию состава поли-Н-винилкарбазол и теломер стирола с дивинилом в соотношении 1:1. Толщина полимерного покрытия составляет 1-4 мкм. Приготовленный материал высущивают в вакуумном сущильном щкафу при комнатной температуре в течение 2 ч.

Пример 2. Аналогично нолучают фототермопластический материал при использовании в качестве слоев фотопроводников

сульфида кадмия и трехсернистой сурьмы толщиной по 0,05 мкм каждый.

Формула изобретения

Фототермопластический материал, содержащий последовательно расположенные подложку, инжекционный слой неорганического фотопроводника и органический фототермопластический слой, включающий поли-Ы-винилкарбазол и связующее - теломер стирола с дивинилом, отличающийся тем, что, с целью расщирения электрофотографической чувствительности в длинноволновой области спектра без снижения интегральной электрофотографической чувствительности и повышения термостабильности, инжекционный слой выполнен из двух слоев фотопроводников сульфида кадмия и трехсернистой сурьмы, при этом толщина каждого слоя составляет 0,05-0,1 мкм.

Источники информации, принятые во внимание при экспертизе

СССР

1. Авторское свидетельство № 336638, кл. G 03G 5/08, 1970.