И.-Д.Б. Сидаравичус Советский патент 1972 года по МПК G03G5/08 

Изобретение касается электрофотографического материала, используемого для фотопластической записи информации.

Известен электрофотографический материал, состоящий из электропроводящей подложки, слоя, содержащего неорганический фотополупроводник, и слоя из термопластического органического полимера.

Такие слои имеют, как правило, неплохую фоточувствительность, но являются непрозрачными, так как толщина фотополупроводиикового слоя (ФП) обычно составляет не менее 1 мк. Кроме того, фоточувствительность такой системы зависит от толщины фотополупроводника: чем больще его толщина, тем больще фоточувствительность.

Кроме того, двойные ФП слои требуют подзарядки или заземления поверхности переменпым коронным разрядом после экспонирования. Это вызвано необходимостью образования зарядного рельефа на поверхности слоя, так ка« продавливающие кана1вку электростатические силы зависят лищь от плотности поверхностных зарядов и зарядов экранирования, которая после экспонирования не изменяется.

щий из электропроводящей подложки, слоя, содержащего неорганический фотополупроводник, и термопластического слоя, состоящего из органического фотополупроводника и термопластического полимера (ТП) с низкой температурой размягчения.

В качестве слоя неорганического фотополупроводника применяют слой селена толщиной 0,01-0,1 мк.

В качестве органических фотополупроводииков, которые в композиции с термопластическим полимером с низкой температурой размягчения обнаруживают эффект фотоиндуцированной инжекции дырок из тонкого слоя

неорганического полупроводника (селена, соленида мыщьяка и других) применяются, например, пол.и-М-вииилкарбазол (ПВК) и его производные, пoли-;N-винилдифeнилaмин и его производные и другие.

В качестве термопластических полимеров с низкой температурой размягчения может быть применен целый ряд веществ: композиция полиэтилена с парафином, полиариленовые эфиры, канифоль, сополимер стирола с

метилметакрилатом, полибутилметакрилат в композиции с эпоксидными и кремнийорганическими смолами и т. д.

ванной инжекции работает также селенид мышьяка в сочетании с композициям.и ПВК-ТП. Могут быть найдены и другие пары материалов для изготовления двойного, прозрачного электрофотографического слоя для фототермопластической записи. Однако каждая пара материалов - пеоргаиический-оргаинческий фотополупроводпик - является индивидуальной.

В качестве термопластика может быть использован сополимер стирола с бутадиеном, с добавками некоторых пластификаторов. В композиции ПВК-ТП оптимальным является соотношение компонент от 6 : 4 до 9 : 1. При этом с ростом концентрации ПВК-ТП фоточувствительность возрастает, однако повышается температура размягчения.

Чтобы осуществлялась фотоипдуцированиая инжекция из аморфного селена в композиции ПВК-ТП, необходимо поверхность слоя заряжать отрицательным зарядом. Экспонироваться слой может как со стороны подложки, так и со стороны свободной поверхности. При этом из-за тонкости фотополупроводникового подслоя в экспонированных участках заряд экранирования не только переходит на границы «фотополупроводник - термопластик, но и рекомбинирует с зарядом поверхности. Это значительно облегчает процесс теплового проявления скрытого изображения, исключая операцию заземления поверхности переменной короной.

Кроме того, слои могут выдерживать многократный нагрев до температуры 90-130°С, при этом тонкий слой аморфного селена, покрытого слоем композиции ПВК-ТП, не изменяет своих первоначальных свойств.

Изготовленные слои обладают высокой фоточувствительностью, требуется экспозиция 10-30 лк-сек для модуляции потенциала

-- 0,3 (при толш,инах Se 0,02 мк,

ПВК-ТП 5 ж/с).

Такой двойной слой был прозрачен и имеет желтовато-оранжевую окраску. Максимум фоточувствительности находится в области 450 мк.

Пример. На стеклянную подложку, покрытую проводяш,ей прозрачной пленкой двуокиси олова, в вакууме (Ю мм рт. ст.) напыляют тонкий, прозрачный слой аморфного селена (0,02 мк), при температуре подложки 75°С. Затем в бензольном растворе готовят полимерную композицию, содержащую 70% полн-М-винилкарбозола и 30% сонолимера стирола с дивинилом с добавкой полиорганосилоксанов в качестве пластификатора.

Из раствора полученную полимерную композицию наносят методом полива на тонкую пленку селена. Толщина полимерного покрытия 5 мк. Затем образцы высушивают в вакуумном сушильном шкафу -при температуре 50°С в течение 12 час.

Полученный таким образом электрофотографический слой может быть ионользоваи для фототермопластической записи. При этом

проявляет максимальную фоточувствительность при зарядке отрицательным коронным разрядом, так как только в этом случае наблюдается фотоиндуцированная инжекция дырок. Величина фоточувствительности равна

20 лк-сек (кол:ичест1во света, необходимое для уменьшения потенциала на 50%). Начальный потенциал слоя составлял 800 в. Температура размягчения слоя 55°С.

Предмет изобретения

1.Электрофотографический материал, состоящий из электропроводящей подложки слоя, содержащего неорганический фотополупроводник, и термопластического слоя, отличающийся тем, что, с целью получения прозрачного, однородного носителя , применен термопластический слой, состоящий из органического фотополупроводника и термопластического полимера с низкой температурой размягчения.

2.Материал по п. 1, отличающийся тем, что в качестве слоя неорганического фотополупроводника применен слой селена толщиной 0,01-0,1 мк.

3.Материал по пп. 1 и 2, отличающийся тем, что в качестве органического фотополупроводника применен поли-Ы-винилкарбазол.