Фототермопластический материал Советский патент 1982 года по МПК G03G5/08 

1

Изобретение относится к несеребряным фотографическим материалам, а именно к фототермопластическому материалу, который может быть использован для быстрой регистрации и воспроизведения информации в обычной и голографической форме.

Известен фототермопластический материал, состоящий из электроизолирующей подложки, электропроводящего покрытия из никеля, инжекционного слоя из сплава селена с мьшьяком

фототермопластического слоя, содержащего поли-Ы-винилкарбазол- и теломер стирола с дивинилом. Данный фототермопластический материал прозрачен, обладает высокой чувствительностью к видимой области спектра ГП.

Недостатками этого материала являются низкая чувствительность к длинноволновой зоне спектра, а также недостаточно высокая термостабильность для обеспечения высокой цикличности при многократной записи и стирании информации.

Наиболее близким к предлагаемому является фототермопластический материал, состоящий из электроизолирующей подложки, электропроводящего покрытия из никеля, инжекционного

слоя толйщной 0,1 мкм и стеклообразного сплава селена с мышьяком и теллурсм(селен-94%,№т1ьяк - 1%,теллур5%) и фототермопластического слоя, содержащего поли-Ы-винилкарбазол и теломер стирола с дивинилом. Этот материал прозрачен,- обладает высокой чувствительностью к видимой области спектра и более высокой чувст10вительностью к длинноволновой области спектра по сравнению с другими материалами 2.

Однако этот материал обладает низкой термостабильностью и недостаточ15но высокой чувствительностью к длинноволновой зоне спектра для обеспечения работы в голографических устройствах при записи информации на длинах волн 441 и 633 нм.

20

Цель изобретения - повышение чувствительности к длинноволновой области спектра и термостабильности при сохранении прозрачности материала.

25

Указанная цель достигается тем, что фототермопластический материал, состоящий из электроизолирующей подложки, электропроводящего покрытия, инжекционного слоя из стеклообразного сплава селена с мышьяком и теллу30

ром и фототермопластического слоя, включающего поли-Ы-вннилкарбазол и термопластический полимер, содержит инжекционный слой толщиной 0,110,2 мкм при соотношении селена, мьлаьяка и теллура, масс.%

Селен85-91

Мышьяка3-5

Теллур6-10

Пример. На металлизированную никелем полиэтилентерефталатную основу напыляют инжекционный слой сплава следующего состава, %: селен 94; мышьяк 1; теллур 5. Толщина слоя О,1 мкм.

Затем методом купающего ролика из раствора в толуоле наносят фототермопластическую композицию состава: поли-Ы-винилкарбазол и теломер стирола с дивинилом в соотношении 1:1, Толщина полимерного составляет 2-3 мкм. I

Приготовленный материал высушивают в вакуумном сушильном шкафу при комнатной температуре в течение 2 ч.

П р и м е р 2. Аналогично примеру 1 получают фототермопластический материал при использовании в качестве инжекционного слоя сплава следующего состава, %: селен 87,5; мышьяк 5; теллур 7,5.

Толщина инжекционного слоя 0,20 мкм.

Пример 3. Аналогично примеру 1 готовят фототермопластический материал с применением хрома при получении электропроводвщего покрытия и сплава следующего состава, %: селен 85; мышьяк 5; теллур 10 в качестве инжекционного слоя толщиной 0,11 мкм.

Приме р 4. Аналогично примеру 1 получают фототермопластический материал с применением в качестве термопластического полимера канифол модифицированной диалином, а в качестве инжекционного слоя толщиной 0,2 мкм сплава, содержащего, %: селен 91, мышьяк 3, теллур 6.

В таблице приведены результаты опытов.

Из таблицы видно, что чувствительность материала, полученного по предлагаемому способу, к излучению с Л 633 нм в 1,5-2 раза выше, чем у материала, полученного по известному способу, при этом термостабильность материала выше, а прозрачност сохраняется.