ИОТЕИА | Советский патент 1971 года по МПК G01B9/02 

Описание патента на изобретение SU315909A1

Изобретение относится к области измерительной техники и может быть применено, в частности, для измерения неровности или прогиба полупроводниковых оластин и многослойных структур.

Известен способ определения величины и знака отклонения контролируемой поверхности от плоской пробной поверхности с применением интерферометра.

Величину отклонения по этому способу определяют по расстоянию между интерференционными полосами, а знак - по направлению перемещения интерференционных полос.

Известный способ имеет ограниченный предел измерения величины отклонения контролируемой поверхности от плоскости, поскольку зависит от длины волны света, создающего интерференционную картину.

Предлагаемый способ отличается от известного тем, что с целью расщирения пределов измерения величины отклонения, наводяг объектив на плоскую пробную поверхность, совмещают визирную линию окуляра с фиксированной полосой интерференционной картины, .наблюдаемой в ок,уляр, и снимают отсчет по отсчетному устройству, затем убирают пробную поверхность и вместо нее устанавливают контролируемую поверхность, совмещают визирную линию окуляра с той же фиксированной полосой путем перемещения объектива.

сни.мают отсчет по отсчетному устройству и по разности снятых отсчетов судят о величине и знаке отклонения. В качестве примера осуществления способа

можно привести определение величины и знака стрелы прогиба полупроводниковых пластин.

В лабораторных условиях измерение величины и знака прогиба полупроводниковых пластнн МОЖ.НО произвести с помощью микроинтерферометра МИИ-4.

В качестве пробной поверхности можно использовать оптическое стекло с тщательно полированной поверхностью, хотя молсет быть

применен любой предмет из любого материала с достаточно отполированной рабочей поверхностью. Пробное стекло помещают перед объективом интерферометра и в окуляр наблюдают интерференционную картину.

Визирную линию окуляра наводят -на одну из полос интерференционной картины, например самую темную, и при этом берут отсчет по делениям, нанесенным на головку винта, перемещающего объектив.

Затем убирают пробное стекло, на предметный столик помещают полупроводниковую пластину, наводят объектив на контролируемую поверхность до получения четкой интерференционной картины, одновременно с этим фиксированной интерференционной нолосой. Перемещают пластину в плоскости, нерпендикулярной оси объектива, берут отсчет но делениям на головке винта неремещеиия объектива в ряде точек, приблизительно в центре пластины, и но наибольшему (или наименьшему) отсчету (в зависимости от того, обращена нластина выпуклостью или вогнутостью к объективу) находят точку, в которой имеет место стрела прогиба. По направлению взятого наибольшего (нли наименьшего) отсчета относительно отсчета, взятого при иаведении объектива на пробную поверхность, судят о знаке нрогиба. Поскольку измерение величины отклонения от плоской поверхности по предлагаемому способу не связано с отсчетом нолос интерференционной картины, которая служит в данном случае лишь для наведения на одну фиксированную полосу, наблюдаемую па ней, то предел измеряемых величин отклонения не зависит от длины волны видимого света и ограничен лишь ходом винта перемещения объектива. Точность же измерения но предлагаемому способу ограничена ценой деления на головке винта объектива. ТакиМ образом, -предлагаемый способ прост в осуществлении, имеет высокую точность и может быть применен для измерения величины и знака отклонения от плоской поверхности любых поверхностей. Предмет изобретения Способ определения величины и знака отклонения контролируемой поверхности от плоской пробной поверхности с применением интерферометра, содержащего объектив, окуляр и отсчетное устройство, связанное с объективом, отличающийся тем, что, с целью расширения пределов измерения величины отклонения, наводят объектив на плоскую пробную поверхность, совмеш,ают визирную линию окуляра с фиксированной полосой интерферепционной картины, наблюдаемой в окуляр, ч снимают отсчет по отсчетному устройству, затем убирают пробную поверхность и вместо нее устанавливают контролируемую поверхность, совмещают визирную линию окуляра с той же фиксированной полосой путем перемещения объектива, снимают отсчет по отсчетному устройству и по разности снятых отсчетов судят о величине и знаке отклонения.

Похожие патенты SU315909A1

название год авторы номер документа
Устройство для контроля поверхностей 1990
  • Баран Олег Степанович
  • Маврин Сергей Васильевич
  • Рафиков Рафик Абдурахимович
SU1770738A1
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ РАДИУСА СФЕРИЧЕСКИХ ПОЛИРОВАННЫХ ПОВЕРХНОСТЕЙ 2001
  • Скворцов Ю.С.
  • Трегуб В.П.
RU2215987C2
ИНТЕРФЕРЕНЦИОННЫЙ СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ПОЛОЖЕНИЯ ОСИ АСФЕРИЧЕСКОЙ ПОВЕРХНОСТИ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ 2017
  • Вензель Владимир Иванович
  • Семенов Андрей Александрович
  • Синельников Михаил Иванович
RU2658106C1
Способ построения пространственной геодезической сети в виде цепочки треугольников и угломерный прибор для его осуществления 1986
  • Пышкин Валерий Николаевич
SU1613858A1
Способ измерения радиуса кривизны сферической поверхности оптической детали 1990
  • Бакеркин Александр Владимирович
SU1747882A1
Интерференционный способ контроля асферических поверхностей 1983
  • Феоктистов Владимир Андреевич
  • Контиевский Юрий Петрович
SU1185071A1
Устройство для контроля прямолинейности 1984
  • Левин Борис Маркович
  • Серегин Аркадий Георгиевич
SU1165882A1
Способ определения толщины пленки 1990
  • Усанов Дмитрий Александрович
  • Тупикин Владимир Дмитриевич
  • Скрипаль Анатолий Владимирович
SU1742612A1
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ ОТКЛОНЕНИЙ ОТ ПЛОСКОСТНОСТИ ПОВЕРХНОСТИ 2004
  • Турухано Борис Ганьевич
  • Турухано Никулина
  • Добырн Владислав Вениаминович
RU2287776C2
ПРИБОР для ИЗМЕРЕНИЯ РАДИУСОВ КРИВИЗНЫ И НЕСФЕРИЧНОСТИ ВОГНУТОЙ СФЕРИЧЕСКОЙ ПОВЕРХНОСТИ 1973
  • А. Ф. Григорьев, А. К. Жуковска Л. В. Ершова
SU373520A1

Реферат патента 1971 года ИОТЕИА |

Формула изобретения SU 315 909 A1

SU 315 909 A1

Даты

1971-01-01Публикация