Изобретение относится к области изготовления мелкоструктурных металлических сеток.
Известен снособ изготовления мелкоструктурных металлических сеток путем гальванического осаждения металла.
Предлолсенный способ отличается от известного тем, что гальваническое осаждение металла осуществляют локально при непрерывном перемещении зоны осаждения с одновременным контролем прозрачности покрываемого участка. Это позволяет получать пленочные сетки заданной прозрачности.
По описываемому способу металлическую сетку, на которой формируют сетку с заданной прозрачностью и которая является катодом, полностью погружают в электролит. Локальную зону создают, например, при помощи экрана с отверстием и раструбом в сторону анода. Контрастность осаждения повыщается за счет донолнительного электрода-катода, который позволяет переключать сетку на анод и стравливать излищки осажденного металла.
В процессе осаждения металла измеряют прозрачность сетки при помощи светового сигнала, который, проходя через сетку, попадает на фотоэлемент; электрический сигнал последнего поступает в свою очередь в устройство, управляющее источником питания. В зависимости от расхождения прозрачности сетки с эталоном ток в гальванической ванне увеличивается или уменьщается, обеспечивая получение сетки заданной прозрачности.
При непрерывном перемещении сетки относительно отверстия в экране прозрачность всей сетки становится соответствующей эталону. Так, например, на медную или никелевую сетку прозрачностью 40-70% и размером 40X40X0,05 .1/.W осаждается медь из сернокислого электролита в ванне, снабженной экраном с отверстием диаметром 3-6 мм и раструбом между сеткой и анодом. Анодом служит медный диск диаметром 100 мм, отстоящий от сетки на. расстоянии 50-80 мм. В ванне также предусмотрен дополнительный
кольцевой медный катод, отстоящий от сетки на расстоянии 0,5-1 иш.
Электролиз осуществляют г электролите, содержащем (в г/л): сернокислую медь (CuSO4-51 20)50
серную кислоту (d 1,84)200
при температуре 18-25°С и плотности тока 1-2 а/дм.
После обработки одной локальной зоны диаметром 5-8 мм в течение 5-15 сек прозрачность сетки в этой зоне изменяется на 1-2%. 3 с целью получения пленочных сеток заданной прозрачности, гальваническое осаждение металла осуществляют локально нри непрерыв4ном перемещении зоны осаждения с одновременным контролем прозрачности покрываемого участка.
название | год | авторы | номер документа |
---|---|---|---|
Устройство для гальванопластического изготовления мелкоструктурных сеток | 1976 |
|
SU589292A1 |
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФИЛЬТРУЮЩЕГО ЭЛЕМЕНТА С МЕТАЛЛИЧЕСКОЙ СЕТКОЙ И УСТРОЙСТВА ДЛЯ ЕГО РЕАЛИЗАЦИИ | 2018 |
|
RU2720288C2 |
СПОСОБ ГАЛЬВАНИЧЕСКОГО МЕДНЕНИЯ ПОДЛОЖЕК | 1999 |
|
RU2222643C2 |
Способ изготовления фильтрующего элемента | 1988 |
|
SU1570746A1 |
СПОСОБ ЭЛЕКТРОЛИТНО-ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ МЕТАЛЛОВ | 2013 |
|
RU2537346C1 |
Способ электроосаждения покрытий | 1988 |
|
SU1544844A1 |
Способ получения композиционного электрохимического покрытия на основе меди с добавлением частиц электроэрозионной свинцовой бронзы | 2021 |
|
RU2780609C1 |
СПОСОБ ПЕРЕРАБОТКИ ЛУЖЕНЫХ ОТХОДОВ МЕДИ | 2022 |
|
RU2795912C1 |
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ НИКЕЛЕВОГО ПОКРЫТИЯ НА СТАЛЬНЫЕ И МЕДНЫЕ ДЕТАЛИ В ЭЛЕКТРОЛИТЕ НИКЕЛИРОВАНИЯ | 2011 |
|
RU2489525C2 |
Устройство для электрохимического нанесения покрытий | 1989 |
|
SU1758092A1 |
Даты
1972-01-01—Публикация