иДТ?г!ТШ-ТЕ)?НН'1ЕСКА!1 Советский патент 1973 года по МПК C25D3/56 

1

Изобретение относится к гальваническим покрытиям, в частности к электрохимическому осаждению сплава на основе никеля.

Известен способ электрохимического осаждения снлава на основе никеля из электролита, содержащего хлористый никель, хлористый аммоний, борную кислоту. Однако по известному способу нельзя получит1Ь сплав никель--осмий.

Цель изобретения - получение коррозионностойких и твердых покрытий сплавом никель-осмий.

Предлагаемый способ отличается от известного тем, что в электролит вводят хлористый осмий, при следующем соотношении компонентов, г/л:

Хлористый осмий (на металл) 1-4 Хлористый никель (на металл) 10- 40 Хлористый аммоний80-100

Борная кислота30- 40

и процесс ведут при ,2-1,7, 35-70°С с перемешиванием, катодной плотности 0,2-5 а/дм. Катодом является медь, латунь, платина; анодом - платина, осмий и др.

Так, например, из электролита, содержащего, г/л:

Хлористый осмий (па металл)4

Хлористый никель (на металл) 40 Хлористый аммоний80

Борную кислоту35

при 60°С; ,6, катодной плотности тока 0,75 а/дсм получают блестящие осадки сплава никелЬ-осмий, толщиной 5 мик.

По данному способу получают качественные, блестящие покрытия сплавом никель-осмий, содержащие от3 до 10% осмия, обладающие высокой твераостью и высокой коррозлоиной стойкостью по сравнению с никелевыми покрытиями.

Предлагаемый способ может быть использован для покрытия деталей вычислительных мащин, электрических контактов, а также для покрытия деталей ионных двигателей, подвергающихся воздействию потока ионов.

Предмет изобретения

Способ электрохимического осаждения сплава на основе никеля из электролита, содержащего хлористый ннкель, хлористый аммоний, борную кислоту, отличающийся тем, что, с целью получения коррозионностойких и твердых покрытий сплавом никель-осмий, в электролит вводят хлористый осмий, при следующем соотношении компонентов, г/л: Хлористый оомий (на .металл) 1-4 Хлар,истый никель (на металл) 10-40 Хлористый аммоний80-100

Борная кислота30- 40

и процесс ведут при 35-70°С, катодной плотности тока 0,2-5 а/дм.