СПОСОБ ХИМИЧЕСКОЙ СЧИСТКИ ИЗДЕЛИЙ В ПАРАХ КИПЯЩЕГО РАСТВОРИТЕЛЯ Советский патент 1974 года по МПК C23G5/00 

1

Изобретеиие относится к радиоэлектронике, а именно к способам химической очистки порсрхности изделий в парах растворителей, и может б1Л1Ь использовано для очистки полупроводниковых пластин, диэлектрических подложек и изделий .микроэлектроииой техники.

Известен способ химической очистки n jверхности изделий от органических и неорганических загрязнений в нарах растворителей.

Обработка в парах ведется ири температуре конденсации растворнтеля, которая определяется температурой кинен11Я.

При выравнивании температуры изделия и температуры паров растворителя процесс конденсации паров на поверхности обрабатываемого изделия прекращается.

При обычных условиях процесс конденсации длится не более 0,5-1 мни, что не дает необходимого эффекта паровой очистки.

С целью увеличения эффекта очистки прибегают к многократному чередованию циклов очистки в парах и обработки холодным растворителем.

Однако известный способ химической обработки нарами растворителей характеризуется низкой температурой конденсации паров, кратковременностью цикла конденсации из-за прогрева изделия парами растворителя до температуры кипения жидкости, необходимостью введения холодного растворителя для

охлаждения изделия, что приводит к загрязиению поверхиостн и к донолнительному расходу реактива, а это существенно удорожает способ.

Целью изобретения является повыщение качества очистки и интенсификации ироцесса.

Для этого в рабочей камере над поверхностью киняндего растворнтеля создают избыточное давленне, иостененно увеличивающееся в течение заданного цнкла очистки.

Обрабатывае лые в парах растворителя изделия завсишваются в аннарат napoBoii обработки над зеркалом растворителя.

При закипании растворнтеля образуются пары с температурой кипения (кип- Изделие в первоиачальный момент нмеет температуру °11зд окружающей среды. При нормальных условнях °11зд °1шп, т. е. идет процесс конденсации.

Через некоторое время изделие нагревается до температуры паров и конденсацня нрекраНДаеТСЯ (/°г.:)) .

Еслн в рабочем объеме увеличить давление, то температура кипения жидкости увеличится /°iKi;n - °i:iin, а температура изделия равпа i:nii, значит имеются условия конденсации. Ьвеличенне давления пронзводят в теченне заданного цикла. При снятнн давления происходит высущнванне пластнны, так как г °11зд °к1ш. Например, нроводилась сравнительная очистка поверхности ситалловых подложек, на которые были нанесены равные капли глифталевой смолы, в нарах над поверхностью нормально кинящето растворителя (при атмосферном давленнн) н при плавном увеличении избыточного давления от О до 6 атм в течение 15 мин.

В качестве растворителя использовался раствор фреон F МЗ :ф.реон F-30 : изоиро1ПИЛОВЫЙ спирт 40% У: 40% У:120% V. Растворение смолы определялось визуально по исчезновению капли смолы, При очистке 3 нарах над поверхностью нормально кипящего растворителя время конденсации составляло 40 сек, носле чего нластину опускали в холодный растворитель () на 15 сек.

Цикл очистки в парах кинящего растворителя составил 40 мни, а при избыточном давлении - 12 мнн.

Предмет изобретения

Способ химической очистки изделий в парах киняи1,его растворителя, о т л и ч а ю щ н и с я тем, что, с целью повышепия качества очистки и интенсификации ироцесса, в рабочей камере над поверхностью кипящего растворителя создают избыточиое давление, постепенно увеличивающееся в течение заданного цикла очистки.