Устройство для нанесения покрытий в выкууме Советский патент 1975 года по МПК C23C13/08 

I

Изобретение касается нанесения нокрытий в вакууме.

Известно устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее камеру, внутри которой расположены плоский испаритель и подложкодержатели. Однако в таком устройстве невозможно получать идентичные слои на всех напыляемых одновременно подложках.

Цель изобретения - получение идентичных слоев на всех напыляемых одновременно подложках. Это достигается тем, что подложкодержатели выполнены в виде расположенных друг под другом колец, параллельных испарителю и имеющих с ним общую ось вращения, а положение центров подложек задано формулой:

(/г- 1,056)2 + v 1,0562, где h - расстояние от испарителя до нодложкодержателя;

V - расстояние от оси вращения подложкодержателей до оси вращепия подложек.

На фиг. 1 показано предлагаемое устройство, общий вид; на фиг. 2 - сплощная кри-вая - геометрическое место точек, в которых должны быть расположены центры подложек.

Устройство включает камеру /, внутри которой находятся плоский испаритель 2 и подложкодержатели 5, выполненные в виде расположенных друг под другом колец, параллельных испарителю и имеющих с ним общую ось вращения. Положение центров подложек 4 задано формулой:

(/г- 1,056)2 + u2 1,0562, где h - расстояние от испарителя до подложкодержателя;

V - расстояние от оси вращения подложкодержателей до оси вращения подложек.

При таком расположении испарителя и подложкодержателей толщина слоя в центре подложек не зависит от ее местоположения в момент начала и конца испарения. При обычной геометрии толщина слоя в центре разных подложек может отличаться на BevnH4HHy до

1

где п - число оооротов подложкодерЗп

жателя за время напыления слоя. Обычно величина п равняется 300-500 оборотам. Поэтому полосы пропускания интерференционных фильтров, полученных на существующих установках, могут отличаться на величину

о

4-6 А для области спектра 600 нм.

На ЭВМ был выполнен расчет толщины слоев, полученных при новой геометрии испарительной установки. Результаты расчета приведены на фиг. 2. Из рассмотрения этого

чертежа видно, что равнотолщинное покрытие (у которого различие толщины слоя на краю подложки от толщины слоя в центре 0,1%) может быть получено на подложках, расположенных в два и более ярусов (в зависимости от диаметра колпака испарительной установки и необходимого диаметра подложки). На фиг. 2 видно, что нри диаметре колпака 600 мм и диаметре подложки 60 мм оказывается возможным расположить подложки в два яруса и получить равнотолщинное (с точностью до 0,1%) покрытие на 45 подложках.

Предмет изобретения Устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее камеру, внутри которой расположены плоский испаритель и подложкодержатели, отличающееся тем, что, с целью получения идентичных слоев на всех напыляемых одновременно подложках, подложкодержатели выполнены в виде расположенных друг под другом колец, параллельных испарителю и имеющих с ним общую ось вращения, а положение центров подложек задано

формулой:

(h- 1.056)2 |- у2 1,0562,

h расстояние от испарителя до подложкодержателя;V

расстояние от оси вращения нодложкодержателей до оси вращения подложек.

3

К ,

1,2 1, 1,6 1,8 г