УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В ВАКУУМЕ Советский патент 1972 года по МПК C23C14/50 

Изобретение относится к области нанесения покрытий в вакууме.

Известно устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее камеру, внутри которой расположены испаритель и вращающаяся подложка с маской. Однако в известном устройстве невозможно наносить слои по заданному закону распределения толщины на поверхности подложек с небольщнми радиусами кривизны.

Предлагаемое устройство отличается тем, что оно снабжено механизмом качания подложки, выполненным в виде кривощино-шатунного механизма, связанного рычагом с выходным валом привода вращения подложки.

На чертеже представлено устройство, общий вид.

Устройство состоит из камеры /, внутри которой расположены испаритель 2, вращающаяся подложка 3 с маской 4, и механизма качания подложки 3, выполненного в виде кривошипно-шатунного механизма 5, связанного рычагом 6 с выходным валом 7 привода вращения 8 подложки.

На выходном валу 7 привода вращения 8 закреплена подложка 3. Цапфа 9 в центре имеет посадочное отверстие нод электродвигатель привода вращения 8, ось качания

цапфы пересекает ось подложки в центре кривизны напыляемой поверхности. На опорах цапфы имеются подщипники, наружные кольца которых закреплены в неподвижных

стойках 10. Поверхность маски 4 имеет профиль эквидистантный к напыляемой поверхности подложки 3 и расположена на оси испаритель-центр кривизны подлол ки. Подлол ка 3 соверщает приблизительно гармоническое возвратно-поступательное покачивание около своего центра кривизны и вращается с помощью электродвигателя привода вращения 8. Маску 4 устанавливают в непосредственной близости от подложки 3.

В камере / может находиться фотометрическое или любое другое устройство // для контроля толщин слоев. Иснаритель 2 располагается на установочной плите вакуумной камеры на оси, проходящей через центр

качания подложки.

На предлагаемом устройстве с помощью изменения кинематики движения и геометрии площадей вырезов маски можно управлять процессом нанесения покрытий слоями, толщина которых изменяется по заданному закону, в частности, равнотолщинных, на поверхностях различной кривизны. Скорость вращения, амплитуда и скорость качания на маске, применяемый тип испарителя и геометрия располо кения испарителя относительно подложки определяют выполнение заданного . закона распределения толщины слоев по круговым зонам поверхности подложки. Распределение толщин слоев в круговых зонах поверхности по заданному закону пропорционально времени открытия маской 4 каждой зоны подложки 3. Закон распределения времени открытия определяется соответствующим подбором соотнощений параметров настройки устройства. Предмет изобрете ния Устройство для нанесения покрытий в вакууме, содержащее камеру, внутри которой расположены испаритель и вращающаяся подложка с маской, отличающееся тем, что, с целью получения слоев нокрытия по выбранному закону распределения толщин на поверхностях различной кривизны, устройство снабжено механизмом качания подложки. выполненным в виде кривошипно-шатунного механизма, связанного рычагом с выходным валом привода вращения подложки.