Комплексообразователь для электролитического осаждения металлов Советский патент 1975 года по МПК C23B5/00 C23B5/10 C23B5/14 C23B5/18 C23B5/26 C23B5/30 

1

Изобретение отиосится к области гальваностегии, в частности к электролитическому осаждению цинка, кадмия, олова, меди, серебра и индия.

Известны комилексные электролиты для электрохимического осаждения металлов, например циаиистые, нирофосфатиые и др.

Предлагается применять в качестве комплексообразователя 3-метилпиразол.

Это позволяет расишрить интервалы рабочих плотностей тока.

Комплексообразователь, согласно изобретению, представляет собой 3-метилпиразол структурной формулы:

И.С-С-СНх

IIи

ПС./1С SH

который получают из отхода ацетиленового производства диацетилена путем взаимодействия последнего с гидразином.

Изобретение может бьпь ироиллюстрироваио следуюп имп примерами.

Пример 1. Для осаждения цинка применяют электролит, который имеет следующий состав, г/л:. ,

Сернокислый цинк, водный25-30

3-метилииразол30-55

Серная кислота (уд. вес 1,84)0,5-1

Едкий натр (20%-иый раствор)До рН 4,5-5 Электролит готовят следующим образом. Раствор сернокислого цинка добавляют к расчетному количеству 3-метилпиразола при перемегиивании, а затем вводят серную кислоту. Последним добавляют раствор едкого натра и доводят раствор водой до необходимого объема.

Из даиного электролита при плотности тока 4-8 а/дм и температуре 25-40°С осаждаются светлые, мелкокристаллические, плотиые осадки цинка, хорошо сцепленные со сталью.

Пример 2. Кадмирование проводят из электролита, содержащего, г/л:

Сернокислый кадмий, водный35-45

3-метилпиразол30-40

Серная кислота (уд. вес 1,84)8-11

при плотности тока 1-3 а/дм и комнатной температуре.

При этом получаются светлые, мелкокристаллические, прочно сцепленные с основой осадки кадмия.

При нагревании электролита до 50°С и перемешивании катодную плотность тока можно поднять до 4-6 а/дм. Пример 3. Для паиесепия оловяииы. покрытий приготавливают электролит, г/л: Сернокислое олово35-45

3-метилпиразол15-25

Серная кислота (уд. вес. 1,84) 30-40 Едкий натр (20%-ный раствор)25-35 (мл/л) Осаждение олова ведется при плотности тока 1-2 а/дм2 и комнатной температуре.

Прим ер 4. Осаждение меди ведут из электролита, содержащего, г/л: Медь сернокислая, водная60-80

3-метилпиразол53-73

Серная кислота (уд. вес 1,84) 140-175

Из данного электролита на сталь осаждаются блестящие осадки меди при комнатной температуре и плотности тока 1-3 а/дм, а при перемешивании - до 8 а/дм.

Для улучшения сцепления со сталью проводят предварительную обработку стали, заключающуюся в анодной поляризации в течение 5 мин в растворе следующего состава, г/л:

Ортофосфорная кислота200

Серная кислота (уд. вес 1,84)50

Хромовый ангидрид10

при плотности тока 10 а/дм- и температуре 18-25°С.

Нанесенное затем медное покрытие прочно сцеплено со сталью.

Пример 5. Серебрение проводится в электролите, содержащем, г/л: Азотнокислое серебро30-65

3-метилпиразол180-480

Азотная кислота80-205

при плотности тока 2-4 а/дм и температуре 50-60°С. При этом получаются плотные мелкокристаллические осадки, прочно сцепленные с основой.

Пример 6. Для индирования готовится электролит следующего состава, г/л:

Кислый сернокислый индий 200-250 3-метилпиразол150-200

Серная кислотадо рН 3-5

Электролиз ведется при плотности тока 2-7 а/дм и комнатной температуре.

Предмет изобретения

25 Применение 3-метилпиразола в качестве комплексообразователя для электролитического осаждения металлов.