Способ изготовления диэлектрического полосового пропускающего интерференционного фильтра Советский патент 1975 года по МПК G02B5/28 

Так же, как разделительный слой, контролируют нанесение пленок, образующих второе зеркало фильтра. При изготовлении всех слоев фильтра о величине пропускания судят по показаниям отсчетного прибора, по шкале которого регистрируют величину ф, пропорциональную пропусканию подложки с покрытием, включающим наносимый слой. Напылив последний слой фильтра до достижения ф фгаах измеряют у получившегося полосового фильтра, имеющего симметричную конструкцию, фактическое значение полуширины бХ полосы пропускания. Для этого, перестраивая монохроматор, фиксируют ближайшие к Ко длины волн К и Я2, соответствующие пропусканию, равному половине пропускания в максимуме, и вычисляют разность KZ-Х бХ получившегося фильтра. Конструкция симметричного фильтра выбирается такой, чтобы при всех возможных отступлениях от заданных (расчетных) значений показателей преломления и оптических толщин слоев величина бЛ была меньше требуемой бЯо на 30-40%. При изготовлении ДУПИФ из определенной пары веществ выполнение этого условия обеспечивается выбором числа пленок в зеркалах и оптической толщиной разделительного слоя, которая имеет дискретные значения, кратные --. По полученной для симметричного фильтра разности вычисляют значение величины , при достижении которой следует прекратить напыление последнего слоя, чтобы получить требуемую полуширину бЯ фильтра. Контроль пропускания покрытия в окончательной стадии нанесения последнего слоя производится в монохроматическом свете на длине волны А,о, на которой определилось пропускание при нанесении всех предыдущих слоев. Предмет изобретения Способ изготовления диэлектрического полосового пропускающего интерференционного фильтра путем нанесения на подложку слоев с большим и меньшим показателями преломления с одновременной регистрацией на рабочей длине волны Хо фильтра величины ф, пропорциональной пропусканию подложки с системой слоев, включающей наносимый, и прекращения нанесения последнего слоя при достижении максимального значения ф Фтах, отличающийся тем, что, с целью получения заданной ширины полосы пропускания фильтра, определяют ближайшие к Ко длины волн Л1 и Яз, соответствующие половине пропускания в максимуме, и продолжают нанесение последнего слоя до получения величины , функционально связанной с разностью i2-Я; и показателями преломления слоев.