Способ изготовления полосового контрастного диэлектрического пропускающего оптического фильтра Советский патент 1977 года по МПК G02B5/28 

преломления. Одновременно контролируют при помощи регистрирующей системы в монохроматическом свете пропускание подложки с наносимыми на нее интерференционными слоями. Контроль проводят по щкале выходного прибора с верхним пределом отсчета 3, по которому определяют достижение экстремума пропускания.

Однако известный способ не позволяет получать расчетные (требуемые) параметры в рабочей области спектра при изготовлепии полосовых контрастных фильтров, имеющих полуширину бл 20-100 нм. Обусловлено это возникающей большой погрещностью в толщине согласующего слоя.

Контролировать нанесение таких слоев при щироких щелях монохроматора невозможно, ибо у обычно применяемых современных мо«ох(роматоров нм, т. е. величина 0 и SA. соизмеримы, и не выполняется условие, необходимое для обеспечения изготовления фильтров.

Поэтому согласующий слой наносят при узких щелях. В этом случае изменение пропускания, вызванное ростом осаждаемого слоя, не превосходит 3-5%. Измерить такую малую величин) с достаточной для получения качественного покрытия точностью пра.ктически невозможно. Реальные ошибки в толщине согласующего слоя достигают 50% и даже большей величины. Форма спектральной кривой полосы пропускания контрастного фильтра оказывается сильно искаженной, величина коэффициента пропускания в этой области значительно понижается.

Цель изобретения - улучшение оптических параметров интерференционного поа рытия в рабочей области спектра.

Поставлениая Дель достигается тем, что по предлагаемому способу изготовления таких покрытий, включающему нанесение на подложку чередующихся слоев с большим и меньшим показателями преломления с одновременным контролем при помощи регистрирующей системы в монохроматическом свете по шкале выходного прибора с верхним пределом отсчета Ф величины пропускания подложки с наносимыми на нее интерференционными слоями и определением экстремума пропускания после осаждения пленки, предшествующей согласующему слою, уменьшают изменением длины волны монохроматического излЗчения величину отсчета на 30-70%, затем устанавливают регулировкой чувствительности регистрирующей системы отсчета, равный (0,7-0,6) Ф, и наносят согласующий слой до достижения максимального пропускания.

Предлагаемый способ осуществляется в процессе испарения в ва.кууме веществ, образующих слои покрытия. При нанесении слоев проводят контроль их толщин фотоэлектрическим методом, основанным на измерении светового потока, пропущенного образцом, на который осалСдают вещества. Контроль проводят при нанесении - слоя на уже готовые слои ири помощи фотометра, в котором выделение рабочей длины осуществляется монохроматором. Причем спектральный интервал,

выделяемый монохро-матором, выбирают намного меньщим полуширины изготавливаемого фильтра.

Непосредственно на подложку наносят многослойное зеркало, представляющее собой

двухкомпонентную систему из чередующихся непоглощающих слоев диэлектриков с больЩ:Им (пв) и меньшим (яя) показателями преломления, оптические толщины которых равны между собой. В процессе напыления делают заключение о том, что толщина слоя достигла требуемой величины, регистрируя минимумы пропускания для слоев с п - пн и - максимумы для слоев с п - пз. Контроль проводят при длине волны л, равной (0,94-

1,0) АО.

После того, как первое зеркало сформировано, наносят разделительный слой элементарного фильтра. Его напыление прекращают при достижении максимума пропускания для

слоев с п Пв и минимума пропускания для слоев с п пц. Контроль проводят при v voТак же, как разделительный слой, контролируют нанесение плено|К, образующих второе зеркало элементарного фильтра.

При нанесении слоев о величине пропускания судят по показаниям выходного прибора с верхним пределом отсчета Ф. По щкале отсчетного прибора регистрируют величину /, пропорциональную пропусканию подложки с

покрытием, включающим наносимый слой.

Напылив последний слой (из материала с п пв) элементарного фильтра до достижения ф /.макс,, изменяют длину волны, выделяемую монохроматором, на величину ДА.

Длину волны можно как уменьшать, так и увеличивать. Длину воллы изменяют до тех пор, пока отсчет выходного прибора не достигнет значения ф (0,7-0,3) /„акс

При этом величина Дл определяется фактической шириной и профилем уже изготовленного элементарного фильтра.

Определив з.казанным способом длину волны, при которой следует наносить согласующий слой, регулировкой чувствительности

регистрирующей системы устанавливают отсчет по щкале выходного прибора, равный (0,7-0,6) Ф, после чего наносят согласующий слой до достижения максимума отсчета. Затем монохроматор перестраивают на

длину волны . 1о и напыляют слои, образующие второй элементарный фильтр. Второй элементарный фильтр изготавливают аналогично первому.

Если сложное оптическое интерференционное покрытие состоит из трех и более элементарных фильтров, соединенных согласующими слоями, то перед каждым согласующим слоем изменяют длину волны на соответствующую величину Затем регулируют чувствительность регистрирующей системы